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광을 방출하는 광 조사기;상기 광의 빔 사이즈를 축소시키고, 빔 사이즈가 축소된 상기 광이 반사 및 투과되는 광학계;상기 광 조사기와 상기 광학계 사이에 배치되고, 상기 광의 차단이 가능한 셔터;상기 광학계에서 빔 사이즈가 축소되고 상기 광학계를 투과한 투과광이 샘플로 조사되지 않도록, 상기 투과광을 차단하는 빔 스토퍼(beam stopper);상기 샘플이 배치되고, 상기 광학계에서 빔 사이즈가 축소되고 상기 광학계에서 반사된 반사광이 상기 샘플로 조사되는 샘플 홀더;상기 광학계와 상기 샘플 홀더 사이에 배치되고, 빔 사이즈가 축소된 상기 광의 선량을 측정하는 면적선량계; 상기 샘플에 조사되어 회절된 회절광을 검출하는 검출기; 및 상기 샘플 홀더의 상기 샘플과 동일한 면 상에 배치된 레퍼런스 시료를 포함하되,조사된 상기 광으로부터 2차 형광 이미지를 형성하고,상기 2차 형광 이미지가 동심타원으로 형성되는 경우, 상기 동심타원을 동심원으로 변환시키는 보정 인자를 상기 샘플의 회절 이미지에 적용하여, 상기 회절 이미지의 곡률 오차를 보정하는 것을 포함하는 광을 이용한 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 레퍼런스 시료는, 납유리를 포함하는 광을 이용한 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 셔터와 상기 광학계의 사이에 배치되고, 상기 광 조사기에서 방출되는 2차 형광을 감소시키기 위한 2차 형광 필터를 더 포함하는 광을 이용한 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 샘플 홀더는 3축 이동이 가능하고, 동시에, 상기 검출기는 상하 이동이 가능하여, 상기 샘플을 2차원 스캔하는 것을 포함하는 광을 이용한 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 광학계는, KB 미러(Kirkpatrick-Baez mirror), 또는 핀홀(Pinhole) 중에서 적어도 어느 하나인 것을 포함하는 광을 이용한 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 면적선량계는, 이온화장치, 또는 감광지 중에서 적어도 어느 하나인 것을 포함하는 광을 이용한 측정 장치
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제1 항에 있어서,상기 검출기는, CCD 카메라, 또는 필라투스 중에서 적어도 어느 하나인 것을 포함하는 광을 이용한 측정 장치
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기판, 및 상기 기판 상에 측정대상 박막을 포함하는 샘플을 샘플 홀더에 배치하는 단계;광학계를 통과하여 빔 사이즈가 축소된 광을 상기 샘플에 제1 시간 동안 조사하여, 상기 샘플에서 회절된 회절광으로부터 제1 이미지를 생성하는 제1 이미지 생성 단계;상기 제1 시간보다 짧은 제2 시간 동안 상기 광을 재조사하여, 상기 샘플에서 회절된 회절광으로부터 제2 이미지를 생성하는 제2 이미지 생성 단계;상기 제1 이미지 생성 단계에서 회절광의 세기에 대한, 상기 제2 이미지 생성 단계에서 회절광의 세기의 비율에 해당하는 비의 값을 계산하고, 상기 비의 값을 이용하여 상기 제2 이미지의 픽셀 값을 조정하여, 보정된 제2 이미지를 생성하는 단계; 및대응되는 픽셀 위치에서, 상기 제1 이미지의 픽셀 값에서 상기 보정된 제2 이미지의 픽셀 값을 차분한, 상기 측정대상 박막의 회절 이미지를 생성하는 단계를 포함하는 광을 이용한 측정 방법
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제9 항에 있어서,상기 제1 이미지는, 상기 기판과 상기 측정대상 박막의 회절 이미지를 포함하고,상기 제2 이미지는, 상기 기판의 회절 이미지만을 포함하는 광을 이용한 측정 방법
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제9 항에 있어서,상기 기판은, 세라믹 기판을 포함하고,상기 측정대상 박막은, 금속 박막을 포함하는 광을 이용한 측정 방법
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