| 1 |
1
지지체가 담지된 수조에 마이셀을 형성하기 위한 양이온 계면활성제 및 음이온 보조계면활성제를 일정 비율로 혼합하고 가열함으로써 양이온 계면활성제와 음이온 보조계면활성제의 자기 결합을 통해 확대된 마이셀이 지지체 상에 형성되도록 하는 마이셀형성단계와, 상기 마이셀형성단계 후 실리카 전구체 용액을 수조에 공급하고 가열함으로써 지지체 상에 실리카가 적층되도록 하는 실리카적층단계와, 상기 실리카적층단계 후 지지체의 세척을 통해 마이셀을 포함하는 잔류물질을 제거하여, 지지체와 상기 지지체 상에 형성된 메조포러스 실리카 필름을 가지는 구조체를 수득하는 세척단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 메조포러스 실리카 필름 구조체의 제조방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 양이온 계면활성제로는 CTAC가 사용되며,상기 음이온 보조계면활성제로는 sodium salicylate, salicylic acid, sodium benzoate, benzoaic acid, sodium methoxybenzoate, 2-methoxybenzoic acid, sodium cinnamate, cinnamic acid, sodium hydroxycinnmate, hydrocinnamic acid, sodium methoxycinnamate, methoxycinnamic acid, sodium 3-phenylpropanate 및 3-hydroxyphenylpropanoic acid으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상이 사용되는 것을 특징으로 하는 메조포러스 실리카 필름 구조체의 제조방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 음이온 보조계면활성제는 상기 양이온 계면활성제 1몰에 대하여 0
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 필름은 100 내지 300nm의 두께를 가지고, 10 내지 50nm 직경의 기공을 가지는 것을 특징으로 하는 메조포러스 실리카 필름 구조체의 제조방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,양이온 계면활성제와 음이온 보조계면활성제의 비율, 반응온도 및 반응시간 조절을 통해 필름의 기공의 크기의 제어할 수 있는 것을 특징으로 하는 메조포러스 실리카 필름 구조체의 제조방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 실리카적층단계에서 상기 전구체 용액은 6 내지 9의 pH를 가지고, 40 내지 80℃ 온도로 유지되는 것을 특징으로 하는 메조포러스 실리카 필름 구조체의 제조방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 지지체는 실리콘, 유리, ITO 코팅된 유리, 플라스틱, 금속, 유연성을 가진 필름 및 투명한 필름 중 어느 하나가 사용되는 것을 특징으로 하는 메조포러스 실리카 필름 구조체의 제조방법
|
| 8 |
8
제1에 있어서,상기 지지체는 판, 선, 막대 및 구 중 어느 하나의 형태를 가지는 것을 특징으로 하는 메조포러스 실리카 필름 구조체의 제조방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 제조방법은 상기 전처리단계와 마이셀형성단계 사이에 지지체 상에 새도우 마스크를 결합시키는 마스크결합단계를 추가로 포함하여, 지지체 상에 패턴화된 초 대형 기공을 가지는 메조포러스 실리카 필름을 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 메조포러스 실리카 필름 구조체의 제조방법
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,상기 새도우 마스크는 PDMS로 이루어지며, 상하 관통된 구멍을 포함하는 것을 특징으로 하는 메조포러스 실리카 필름 구조체의 제조방법
|
| 11 |
11
제1항에 있어서,상기 제조방법은 상기 마이셀 형성단계 전에 수행되며, 지지체인 텅스텐 와이어를 이소프로판올 용액에 침지하고 초음파 세척한 다음 증류수로 헹구고, NaOH 용액에 담그고 증류수로 헹군 후, 에탄올 용액에 보관하여 수행되는 전처리단계를 추가로 포함하고,상기 마이셀 형성단계는 물과 TEA가 함유된 수조에 지지체를 넣고 교반 및 가열하고, 상기 수조에 초음파 처리를 하여 지지체 표면에 존재하는 기포를 제거한 후, 양이온 계면활성제와 음이온 보조 계면활성제를 일정 비율로 첨가하고 교반 및 가열상태를 유지하여 수행되는 것을 특징으로 하는 메조포러스 실리카 필름 구조체의 제조방법
|
