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반응물을 방전가스로 사용하여 고온의 플라즈마 가스를 생성하고 상기 반응물을 분해하거나 반응물에 화학반응을 유도하여 중간생성물이 포함된 혼합 열플라즈마 가스를 형성하는 열플라즈마 발생부; 및상기 열플라즈마 발생부에 연결되어 상기 열플라즈마 발생부로부터 유동하는 상기 혼합 열플라즈마 가스를 초음속으로 가속하여 압력과 온도 및 밀도를 저하시켜서 배출하는 초음속부를 포함하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제1항에 있어서,상기 초음속부는초음속 노즐로 형성되는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제1항에 있어서,상기 초음속부는서로 연결되는 노즐 입구, 노즐 목, 및 노즐 출구를 포함하며,상기 노즐 입구의 면적(A1)은상기 열플라즈마 발생부의 출구의 면적(Ap)과 동일하게 형성되는(A1=Ap) 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제3항에 있어서,상기 초음속부의 상기 노즐 입구는 수축부의 수축각도(θ1)로 상기 노즐 목에 연결되고,상기 노즐 출구는 확장부의 확장각도(θ2)로 상기 노즐 목에 연결되며,상기 수축각도(θ1)는 상기 확장각도(θ2)보다 크게 설정되는(θ1003e#θ2) 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제4항에 있어서,상기 수축각도(θ1)는 20°~45°로 설정되고,상기 확장각도(θ2)는 10°~20°로 설정되는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제4항에 있어서,상기 초음속부의 상기 노즐 출구의 면적(A2)은상기 노즐 출구에서 유동의 압력(P2)과 노즐 외부의 압력(P3)이 같아지는 지점(P2=P3)에서 설정되는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제4항에 있어서,상기 초음속부의 상기 노즐 목의 면적(Ath)은상기 열플라즈마 발생부의 온도, 압력 및 상기 혼합 열플라즈마 가스의 유량을 고려하여 설정되는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제1항에 있어서,상기 열플라즈마 발생부는아크 플라즈마를 발생시키도록 접지전극으로 작용하고 반응공간을 형성하여 상기 초음속부의 노즐 입구에 연결되는 하우징, 및절연부재를 개재하여 상기 하우징의 길이 방향 단부에 장착되고 상기 하우징 내에서 상기 초음속부를 향하여 돌출되며 고전압이 인가되는 고전압전극을 포함하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제8항에 있어서,상기 절연부재는상기 길이 방향에서 상기 초음속부의 반대측에서 상기 하우징과 상기 고전압전극 사이에 개재되는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제8항에 있어서,상기 하우징은방전가스를 상기 반응공간에서 회전 유동으로 유입되도록 원통의 측면에 원주의 접선방향으로 입구를 구비하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제8항에 있어서,상기 고전압전극은냉각수를 순환시키는 냉각수 통로를 상기 길이 방향으로 구비하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제1항에 있어서,상기 열플라즈마 발생부는아크 플라즈마를 발생시키도록 접지전극으로 작용하고 반응공간을 형성하여 상기 초음속부의 노즐 입구에 연결되는 하우징, 및절연부재를 개재하여 상기 하우징의 원통 측면에 직경 방향으로 장착되고 상기 하우징 내에서 절곡되어 상기 초음속부를 향하여 돌출되며 고전압이 인가되는 고전압전극을 포함하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제12항에 있어서,상기 절연부재는상기 하우징의 원통 측면에서 상기 하우징과 상기 고전압전극 사이에 개재되는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제12항에 있어서,상기 하우징은방전가스를 상기 반응공간으로 유입하도록 길이 방향 단부에 입구를 구비하고,상기 고전압전극은방전가스를 상기 반응공간에서 회전 유동시키도록 외면에 선회부재를 구비하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제1항에 있어서,상기 열플라즈마 발생부는아크 플라즈마를 발생시키도록 접지전극으로 작용하고 반응공간의 제1부를 형성하여 상기 초음속부의 노즐 입구에 연결되는 하우징, 및절연부재를 개재하여 상기 하우징의 길이 방향 단부에 연결되어 상기 방전공간의 제2부를 형성하여 고전압이 인가되는 고전압전극을 포함하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제15항에 있어서,상기 절연부재는상기 반응공간의 상기 제1부와 상기 제2부의 경계를 형성하는 상기 하우징과 상기 고전압전극 사이에 개재되는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제16항에 있어서,상기 고전압전극은방전가스를 상기 반응공간의 상기 제2부에서 회전 유동으로 유입되도록 원통의 측면에 원주의 접선방향으로 입구를 구비하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제16항에 있어서,상기 하우징은방전가스를 상기 반응공간의 상기 제1부에서 회전 유동으로 유입되도록 원통의 측면에 원주의 접선방향으로 입구를 구비하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제8항에 있어서,상기 하우징은상기 길이 방향에서 상기 고전압전극과 상기 초음속부의 사이에 구비되어 상기 반응공간의 통로를 좁게 하여 아크를 고정시키는 아크 고정부를 더 포함하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제19항에 있어서,상기 아크 고정부는상기 통로를 상기 초음속부의 초음속 노즐에서 노즐 목이 형성하는 통로보다 크게 형성하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제1항에 있어서,상기 열플라즈마 발생부는반응공간을 형성하여 상기 초음속부의 노즐 입구에 연결되는 하우징, 및유도결합 플라즈마를 발생시키도록 상기 하우징의 외부에 구비되고 고전압이 인가되는 유도코일을 포함하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제21항에 있어서,상기 하우징은방전가스를 상기 반응공간으로 유입하도록 길이 방향 단부에 입구를 구비하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제1항에 있어서,상기 열플라즈마 발생부는반응공간을 형성하여 상기 초음속부의 노즐 입구에 연결되는 하우징, 및용량결합 플라즈마를 발생시키도록 상기 하우징의 내부에 서로 대향하여 구비되어 고전압이 인가되는 고전압전극과 접지되는 접지전극을 포함하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제23항에 있어서,상기 고전압전극과 상기 접지전극은상기 하우징의 길이 방향으로 설치되어 상기 길이 방향에 교차하는 방향으로 대향하며,상기 하우징은방전가스를 상기 반응공간의 상기 고전압전극과 상기 접지전극 사이로 유입하도록 길이 방향 단부에 입구를 구비하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제1항에 있어서,상기 열플라즈마 발생부는반응공간을 형성하여 상기 초음속부의 노즐 입구에 연결되는 하우징, 및마이크로 웨이브 플라즈마를 발생시키도록 상기 하우징의 외부에 구비되는 마이크로 웨이브 가이드를 포함하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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제25항에 있어서,상기 하우징은방전가스를 상기 반응공간의 상기 마이크로 웨이브 내부로 유입하도록 길이 방향 단부에 입구를 구비하는 플라즈마 초음속 유동 발생장치
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