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코팅 대상에 철이온 및 탄닌산을 포함하는 철이온-탄닌산 코팅층을 형성하는 제1단계;상기 철이온-탄닌산 코팅막 위에 시스테아민을 포함하는 시스테아민 코팅층을 형성하는 제2단계; 및상기 시스테아민 코팅막 위에 실리카(SiO2)를 포함하는 실리카 코팅층을 형성하는 제3단계;를 포함하는, 하이브리드 코팅 방법
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제1항에 있어서, 상기 제2단계 수행 전 제1단계를 복수 회 수행하는 것인, 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1단계 내지 제3단계를 순차적으로 복수 회 수행하는 것인, 방법
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제1항에 있어서, 상기 실리카 코팅층의 형성은 실리카 전구체를 포함하는 코팅 용액을 이용하여 수행되는 것인, 방법
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제4항에 있어서, 상기 실리카 전구체는 테트라메틸 오르토실리케이트(Tetramethyl orthosilicate; TMOS), 테트라에틸 오르토실리케이트(Tetraethyl orthosilicate; TEOS), 3-머캅토프로필 트라이메톡실란((3-Mercaptopropyl)trimethoxysilane; MPTMS), 머캅토프로필트라이에톡실란(Mercaptopropyltriethoxysilane; MPTES), 아미노프로필트라이에톡시실란((3-Aminopropyl)triethoxysilane), 메톡시트리에톡시실란, 디메톡시디에톡시실란, 에톡시트리메톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 및 테트라메톡시에틸실란으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 실리카 전구체인 것인, 방법
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제4항에 있어서, 상기 실리카 전구체를 포함하는 코팅 용액은 실리카 전구체를 50mM 내지 200mM 포함하는 것인, 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1단계 내지 제3단계의 코팅층의 형성은 코팅 용액과 코팅 대상을 접촉하는 단계; 및 상기 코팅 용액과 접촉한 코팅 대상을 세척 및 건조하는 단계를 거쳐 수행되는 것인, 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1단계 내지 제3단계의 코팅층의 형성은 섭씨 15 내지 35도의 온도에서 수행되는 것인, 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1단계 내지 제3단계의 코팅층의 형성은 산 촉매, 염기 촉매 또는 산 촉매 및 염기 촉매 없이 수행되는 것인, 방법
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제1항에 있어서, 상기 코팅 방법으로 형성된 하이브리드 코팅막은 초친수성, 내오염성, 내산성, pH 및 온도 변화 내성으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 특성을 갖는 것인, 방법
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철이온-탄닌산 코팅층, 시스테아민 코팅층, 및 실리카 코팅층이 순차적으로 결합된, 하이브리드 코팅막
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제11항에 있어서, 상기 철이온-탄닌산 코팅층은 복수 개의 층이 적층된 것인, 하이브리드 코팅막
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제11항에 있어서, 상기 하이브리드 코팅막은 철이온-탄닌산 코팅층, 시스테아민 코팅층, 및 실리카 코팅층이 순차적으로 적층된 다중층을 하나의 단위체로 하여 상기 단위체가 복수 회 중첩되어 형성된 것인, 하이브리드 코팅막
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제11항에 있어서, 상기 하이브리드 코팅막은 물 접촉각이 0 내지 10°인 것인, 하이브리드 코팅막
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제11항에 있어서, 상기 하이브리드 코팅막은 초친수성, 내오염성, 내산성, pH 변화 내성, 화학 분해 내성, 및 온도 변화 내성으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 특성을 갖는 것인, 하이브리드 코팅막
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철이온-탄닌산 코팅층, 시스테아민 코팅층, 및 실리카 코팅층이 순차적으로 적층된 하이브리드 코팅막을 포함하는, 김서림 방지 필름
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제16항에 있어서, 상기 김서림 방지 필름은 초친수성, 내오염성, 내산성, pH 변화 내성, 화학 분해 내성, 및 온도 변화 내성으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 특성을 갖는 것인, 하이브리드 코팅막
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