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아세탈기를 포함하는 아크릴레이트, 광개시제 및 PDST((4-phenylthiophenyl)diphenylsulfonium triflate)를 유효성분으로 함유하는 젤 네일 폴리쉬 조성물
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제1항에 있어서, 상기 아크릴레이트는 1,4-사이클로헥산디메탄올 디비닐 에테르(1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether), 트리(에틸렌 글리콜) 디비닐 에테르(tri(ethylene glycol) divinyl ether) 및 1,4-부탄디올 디(1-아크릴로일옥시)에틸 에테르(1,4-butanediol di(1-acryloyloxy)ethyl ether)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나와 아크릴산(acrylic acid)을 반응시켜 합성된 것을 특징으로 하는 젤 네일 폴리쉬 조성물
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제1항에 있어서, 상기 광개시제는 DMPA(2,2-dimethoxy-2-phenyl acetophenone), TPO(bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenyl phosphine oxide) 및 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로판-1-원(2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane-1-one)으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 젤 네일 폴리쉬 조성물
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제1항에 있어서, 상기 아크릴레이트 100 중량부에 대하여 1~10 중량부의 광개시제 및 1~10 중량부의 PDST((4-phenylthiophenyl)diphenylsulfonium triflate)를 포함하는 것을 특징으로 하는 젤 네일 폴리쉬 조성물
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1) 아세탈기를 포함하는 아크릴레이트를 합성하는 단계; 및2) 상기 단계 1)에서 합성된 아크릴레이트에 광개시제 및 PDST((4-phenylthiophenyl)diphenylsulfonium triflate)를 첨가한 후, UV를 조사하여 경화반응을 유도하는 단계;를 포함하는 젤 네일 폴리쉬 조성물의 이용 방법
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제5항에 있어서, 상기 단계 2)의 경화반응 이후에, 경화물을 300nm의 UV 조사시킨 후, 25~35℃의 조건에서 구연산 수용액 또는 아세트산 수용액에 10~40분 동안 함침하여 분해시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 젤 네일 폴리쉬 조성물의 이용 방법
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