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코팅용 조성물 및 이를 사용한 기재의 코팅 방법

  • 기술번호 : KST2021012378
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 코팅용 조성물 및 이를 사용한 기재의 코팅 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일 측면은, 알루미늄을 포함하는 나노입자; 및 상기 나노입자 표면에 형성된 코팅층;을 포함하고, 상기 코팅층은, C6 이하의 탄화불소계 화합물을 포함하는 것인, 코팅용 조성물을 제공한다.
Int. CL C09D 5/03 (2006.01.01) C09C 3/08 (2006.01.01) C09D 5/00 (2006.01.01) B05D 3/12 (2006.01.01) B05D 3/02 (2006.01.01) C09D 5/16 (2006.01.01) C07C 53/18 (2006.01.01) D06M 23/08 (2020.01.01) D06M 11/45 (2006.01.01) A62B 17/00 (2006.01.01)
CPC C09D 5/031(2013.01) C09C 3/08(2013.01) C09D 5/002(2013.01) B05D 3/12(2013.01) B05D 3/0254(2013.01) C09D 5/16(2013.01) C07C 53/18(2013.01) D06M 23/08(2013.01) D06M 11/45(2013.01) A62B 17/006(2013.01)
출원번호/일자 1020200039144 (2020.03.31)
출원인 국방과학연구소
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0121814 (2021.10.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.03.31)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 국방과학연구소 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이준오 대전광역시 유성구
2 권지현 대전광역시 유성구
3 정현숙 대전광역시 유성구
4 정희수 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2020-0336235-31
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.11.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
알루미늄을 포함하는 나노입자; 및상기 나노입자 표면에 형성된 코팅층;을 포함하고,상기 코팅층은, C6 이하의 탄화불소계 화합물을 포함하는 것인,코팅용 조성물
2 2
제1항에 있어서,상기 나노입자는, 알루미늄 옥사이드 하이드록사이드 (Aluminum oxide hydroxide, AlHO2) 나노입자를 포함하는 것인,코팅용 조성물
3 3
제1항에 있어서,상기 나노입자의 크기는,1 nm 내지 500 nm 인 것인,코팅용 조성물
4 4
제1항에 있어서,상기 탄화불소계 화합물은, 카르복실기(-COOH) 작용기를 갖는 것인,코팅용 조성물
5 5
제1항에 있어서,상기 탄화불소계 화합물은, 트리플루오로아세트산 (trifluoroacetic acid), 펜타플루오로프로피온산 (pentafluoropropionic acid), 테트라플루오로숙신산 (tetrafluorosuccinic acid), 헵타플루오로뷰티르산 (heptafluorobutyric acid), 헥사플루오로글루타르산 (hexafluoroglutaric acid), 노나플루오로발레르산 (nonafluorovaleric acid), 옥타플루오로아디프산 (octafluoroadipic acid), 운데카플루오로헥산산 (undecafluorohexanoic acid), 트리데카플루오로헵탄산 (tridecafluoroheptanoic acid) 및 도데카플루오로수베르산 (dodecafluorosuberic acid)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인,코팅용 조성물
6 6
제1항에 있어서,상기 나노입자와 상기 C6 이하의 탄화불소계 화합물은 위상 반응 (topotactic reaction)을 하는 것인,코팅용 조성물
7 7
제1항에 있어서,상기 코팅용 조성물은 섬유 코팅용인 것인,코팅용 조성물
8 8
나노입자와 C6 이하의 탄화불소계 화합물을 방향족 용매에 첨가 및 교반하여, 상기 나노입자 표면에 코팅층을 형성시키는 단계;상기 코팅층이 형성된 나노입자를 정제 및 분리하는 단계; 및 상기 분리된 나노입자를 용매에 첨가하여 혼합하는 단계;를 포함하고,상기 C6 이하의 탄화불소계 화합물은 상기 나노입자 표면에 코팅층을 형성하는 것인,코팅용 조성물의 제조방법
9 9
제8항에 있어서,상기 방향족 용매는, 벤젠, 자일렌, 클로로벤젠, 톨루엔 및 피리딘으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 것인,코팅용 조성물의 제조방법
10 10
제8항에 있어서,상기 코팅층은, 상기 나노입자와 상기 C6 이하의 탄화불소계 화합물의 위상 반응 (topotactic reaction)에 의하여 형성되는 것인,코팅용 조성물의 제조방법
11 11
코팅 대상물 기재 표면을 전처리하는 단계; 및 상기 전처리된 기재 표면을, 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 코팅용 조성물 또는 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 코팅용 조성물을 이용하여 코팅하는 단계;를 포함하는,기재의 코팅방법
12 12
제11항에 있어서,상기 전처리하는 단계는,상기 기재 표면상에 나노구조, 마이크로구조 또는 이 둘을 형성하는 것인,기재의 코팅방법
13 13
제11항에 있어서,상기 코팅하는 단계는,딥 코팅, 스프레이 코팅, 스핀 코팅, 그라비아 코팅 및 바 코팅으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 코팅 방법을 사용하여 수행하는 것인,기재의 코팅방법
14 14
제11항에 있어서,상기 코팅하는 단계는,상기 코팅용 조성물 도포 후, 0
15 15
제11항에 있어서,상기 코팅하는 단계; 이후에,상기 코팅된 기재를 80 ℃ 내지 120 ℃의 온도로 열처리하는 단계;를 더 포함하는 것인,기재의 코팅 방법
16 16
제11항에 있어서,상기 코팅 대상물 기재는, 섬유, 원단 또는 직물인 것인,기재의 코팅 방법
17 17
제11항 내지 제16항 중 어느 한 항의 코팅 방법에 의해 코팅된 섬유, 원단 또는 직물을 포함하는,화생방 보호의 외피
18 18
제17항의 화생방 보호의 외피를 포함하는,화생방 보호의
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.