맞춤기술찾기

이전대상기술

비대칭 전해질막, 이를 포함하는 막 전극 접합제, 이를 포함하는 수전해 장치 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2021012693
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 명세서에는 비대칭 전해질막, 이를 포함하는 막 전극 접합제, 이를 포함하는 수전해 장치 및 이의 제조방법이 개시된다.
Int. CL C25B 13/08 (2006.01.01) C25B 13/02 (2021.01.01) C25B 11/04 (2021.01.01) C25B 9/23 (2021.01.01) C25B 1/04 (2021.01.01)
CPC C25B 13/08(2013.01) C25B 13/02(2013.01) C25B 11/073(2013.01) C25B 9/23(2013.01) C25B 1/04(2013.01)
출원번호/일자 1020200051344 (2020.04.28)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0132887 (2021.11.05) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.04.28)
심사청구항수 20

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이소영 서울특별시 성북구
2 김형준 서울특별시 성북구
3 백새얀 서울특별시 성북구
4 이태경 서울특별시 성북구
5 유성종 서울특별시 성북구
6 장종현 서울특별시 성북구
7 박희영 서울특별시 성북구
8 김진영 서울특별시 성북구
9 박현서 서울특별시 성북구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.04.28 수리 (Accepted) 1-1-2020-0437003-47
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.10.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0789022-07
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
불소계 양이온 교환 수지 또는 탄화수소계 음이온 교환 수지를 포함하는 다공성 층; 및불소계 양이온 교환 수지 또는 탄화수소계 음이온 교환 수지를 포함하는 조밀 층; 을 포함하고,상기 다공성 층은 기공을 포함하는, 수전해 장치용 비대칭 전해질막
2 2
제1항에 있어서,상기 다공성 층의 기공 크기는 0
3 3
제1항에 있어서,상기 다공성 층의 공극률은 60 내지 80% 인, 수전해 장치용 비대칭 전해질막
4 4
제1항에 있어서, 상기 조밀 층은 기공을 포함하지 않거나, 이온만 통과할 수 있는 것인, 수전해 장치용 비대칭 전해질막
5 5
제1항에 있어서,상기 불소계 양이온 교환 수지는 나피온(Nafion), 푸마펨(Fumapem), 플레미온(Flemion), 아시플렉스(Aciplex) 및 아퀴비온(Aquivion)으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상이고, 상기 탄화수소계 음이온 교환 수지는 페닐렌(Phenylene)계, PBI (폴리벤지미다졸)계, PES (폴리아릴렌에테르 술폰)계, PPO(폴리페닐렌옥사이드)계, PS 폴리스타이렌계 및 그의 블렌딩(Blending)으로 이루어진 그룹에서 선택되는 하나 이상인, 수전해 장치용 비대칭 전해질막
6 6
제1항에 있어서,상기 수전해 장치용 비대칭 전해질막은 산, 과산화수소 및 염기로 이루어진 그룹에서 선택되는 하나 이상으로 처리된 것인, 수전해 장치용 비대칭 전해질막
7 7
제1항에 있어서,상기 수전해 장치용 비대칭 전해질막은 PEM 수전해 장치용인, 수전해 장치용 비대칭 전해질막
8 8
제1항에 있어서,상기 수전해 장치용 비대칭 전해질막은 AEM 수전해 장치용인, 수전해 장치용 비대칭 전해질막
9 9
애노드;캐소드; 및 상기 애노드 및 캐소드 사이에 위치하는 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 수전해 장치용 비대칭 전해질막;을 포함하는 수전해 장치용 막 전극 접합체
10 10
제9항에 있어서,상기 다공성 층 상에 애노드가 구비되고,상기 조밀 층 상에 캐소드가 구비되는, 수전해 장치용 막 전극 접합체
11 11
제9항에 있어서,상기 애노드는 귀금속 기반 단일 산화물, 귀금속 기반 복합 산화물 및 전이금속으로 이루어진 그룹에서 선택되는 하나 이상을 포함하고,상기 캐소드는 귀금속 기반의 탄소 지지체 및 전이금속 중 하나 이상을 포함하는 수전해 장치용 막 전극 접합체
12 12
제9항의 수전해 장치용 막 전극 접합체를 포함하는 수전해 장치
13 13
제1항에 따른 수전해 장치용 비대칭 전해질막의 제조방법으로서, 기판 상에 불소계 양이온 교환 수지 또는 탄화수소계 음이온 교환 수지, 용매 및 비용매를 포함하는 캐스팅 용액을 도포하는 단계;캐스팅된 막에서 용매를 제거하는 단계; 및상기 용매가 제거된 막에서 비용매를 제거하는 단계;를 포함하는 수전해 장치용 비대칭 전해질막 제조방법
14 14
제13항에 있어서,상기 제조방법은 PEM 수전해 장치용 비대칭 전해질막 제조방법이고,상기 용매는 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상이며,상기 비용매는 오쏘-디클로로벤젠 (ortho-dichlorobenzene), 메타-디클로로벤젠 (meta-dichlorobenzene), 파라-디클로로벤젠 (para-dichlorobenzene), 나프탈렌 및 알파-나프톨로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인, 수전해 장치용 비대칭 전해질막 제조방법
15 15
제13항에 있어서,상기 제조방법은 AEM 수전해 장치용 비대칭 전해질막 제조방법이고,상기 용매는 디메틸포름아마이드, 디메틸아세트아미드, 다이메틸 설폭사이드 및 메틸피롤리돈으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상이며,상기 비용매는 폴리에틸렌글리콜, 폴리비닐피로리돈, 스테아릴알코올, 콩 기름 및 글리세롤 및 디부틸 프탈레이트로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인, 수전해 장치용 비대칭 전해질막 제조방법
16 16
제13항에 있어서,상기 비용매를 제거하는 단계 이후, 상기 막을 산, 과산화수소 및 염기로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상으로 처리하는 단계;를 더 포함하는, 수전해 장치용 비대칭 전해질막 제조방법
17 17
제1항에 따른 수전해 장치용 비대칭 전해질막의 제조방법으로서, 기판 상에 탄화수소계 음이온 교환 수지 및 용매를 포함하는 제1 캐스팅 용액을 도포하는 단계;상기 캐스팅된 막에서 용매를 제거하여 조밀 층을 형성하는 단계;상기 조밀 층 상에 탄화수소계 음이온 교환 수지 및 용매를 포함하는 제2 캐스팅 용액을 도포하는 단계; 및상기 제2 캐스팅 용액이 도포된 막을 비용매에 침지시켜 다공성 층을 형성하는 단계;를 포함하는, 수전해 장치용 비대칭 전해질막 제조방법
18 18
제17항에 있어서,상기 제조방법은 AEM 수전해 장치용 비대칭 전해질막 제조방법이고,상기 용매는 디메틸포름아마이드, 디메틸아세트아미드, 다이메틸 설폭사이드 및 메틸피롤리돈으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상이며,상기 비용매는 물, 알코올, 폴리바이닐피롤리돈, 폴리에틸렌글리콜 및 글리세롤로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인, 수전해 장치용 비대칭 전해질막 제조방법
19 19
수전해 장치용 막 전극 접합체 제조방법으로서,제13항 또는 제17항에 따른 제조방법에 의하여 수전해 장치용 비대칭 전해질막을 제조하는 단계;상기 수전해 장치용 비대칭 전해질막의 다공성 층 상에 애노드를 형성하는 단계; 및 상기 수전해 장치용 비대칭 전해질막의 조밀 층 상에 캐소드를 형성하는 단계;를 포함하는 수전해 장치용 막 전극 접합체 제조방법
20 20
제16항에 있어서,상기 애노드를 형성하는 단계 및 캐소드를 형성하는 단계는 각각 스프레이 도포에 의하여 수행되는, 수전해 장치용 막 전극 접합체 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국과학기술연구원 수소에너지혁신기술개발(R&D) 고분자전해질(PEM) 수전해 고성능 막전극접합체 및 스택 기술 개발