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1
구조식 1로 표시되는 에폭시 화합물:[구조식 1]상기 구조식 1에서,R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C3 알킬기이고,R3는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R4 및 R5는 각각 독립적으로 C1 내지 C6 알킬기이고,R6는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R7은 수소원자 또는 이고,R9은 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R8은 수소원자 또는 이고,R10은 C1 내지 C3 알킬렌기이다
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제1항에 있어서,상기 구조식 1에서,R7은 수소원자이고,R8은 수소원자인 것을 특징으로 하는 에폭시 화합물
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제1항에 있어서,상기 구조식 1에서,R7은 수소원자이고,R8은 이고,R10은 C1 내지 C3 알킬렌기인 것을 특징으로 하는 에폭시 화합물
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4
구조식 1로 표시되는 에폭시 화합물;구조식 2로 표시되는 에폭시 화합물; 및경화제;를 포함하는 에폭시 조성물:[구조식 1]상기 구조식 1에서,R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C3 알킬기이고,R3는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R4 및 R5는 각각 독립적으로 C1 내지 C6 알킬기이고,R6는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R7은 수소원자 또는 이고,R9은 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R8은 수소원자 또는 이고,R10은 C1 내지 C3 알킬렌기이고,[구조식 2]상기 구조식 2에서,R11은 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이다
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5
제4항에 있어서,상기 구조식 1로 표시되는 화합물이 아래 구조식 1-1로 표시되는 화합물 및 아래 구조식 1-2로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물:[구조식 1-1] [구조식 1-2]상기 구조식 1-1 또는 1-2에서,R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C3 알킬기이고,R3는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R4 및 R5는 각각 독립적으로 C1 내지 C6 알킬기이고,R6는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R10은 C1 내지 C3 알킬렌기이다
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6
제4항에 있어서,상기 에폭시 조성물이 상기 구조식 2로 표시되는 에폭시 화합물 100 몰부; 및 상기 구조식 1로 표시되는 에폭시 화합물 10 내지 200 몰부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에폭시 조성물
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7
제5항에 있어서,상기 구조식 1-1로 표시되는 에폭시 화합물의 몰수(m1)와 상기 구조식 1-2로 표시되는 에폭시 화합물의 몰수(m2)의 비(m1:m2)가 30:70 내지 50:50인 것을 특징으로 하는 에폭시 조성물
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8
제4항에 있어서,상기 경화제가 아래 구조식 3으로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 에폭시 조성물:[구조식 3]상기 구조식 3에서,R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C3 알킬기이고,R14는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이다
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9
제8항에 있어서,상기 에폭시 조성물은전체 에폭시 화합물의 에폭시기 100 몰부에 대하여 상기 경화제의 아민기 40 내지 60 몰부를 포함하고,상기 전체 에폭시 화합물은 상기 구조식 1로 표시되는 에폭시 화합물과 구조식 2로 표시되는 에폭시 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 에폭시 조성물
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10
(a) 반응식 1에 따라 5-히드록시메틸퍼퓨랄(5-hydroxymethylfurfural, HMF)을 구조식 11로 표시되는 화합물과 구조식 12으로 표시되는 화합물과 반응시켜 구조식 13으로 표시되는 화합물을 제조하는 단계; 및(b) 반응식 2에 따라 구조식 13으로 표시되는 화합물과 구조식 14로 표시되는 화합물을 반응시켜 구조식 1로 표시되는 에폭시 화합물을 제조하는 단계;를포함하는 에폭시 화합물의 제조방법:[반응식 1][반응식 2]상기 반응식 1 또는 2에서,R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C3 알킬기이고,R3는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R4 및 R5는 각각 독립적으로 C1 내지 C6 알킬기이고,R6는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R7은 수소원자 또는 이고,R9은 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R8은 수소원자 또는 이고,R10은 C1 내지 C3 알킬렌기이고,X는 F, Cl, Br 또는 I이다
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11
제10항에 있어서,상기 반응식 1 또는 2에서,R7은 수소원자이고,R8은 수소원자인 것을 특징으로 하는 에폭시 화합물의 제조방법
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12
제10항에 있어서,상기 반응식 1 또는 2에서,R7은 수소원자이고,R8은 이고,R10은 C1 내지 C3 알킬렌기인 것을 특징으로 하는 에폭시 화합물의 제조방법
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13
제10항에 있어서,상기 단계 (a)의 반응 촉매로서 ZnCl2를 사용한 것을 특징으로 하는 에폭시 화합물의 제조방법
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14
제10항에 있어서,상기 단계 (b)의 반응 촉매로서 테트라-n-부틸암모늄 브로마이드(Tetra-n-butylammonium bromide, TBABr)을 사용한 것을 특징으로 하는 에폭시 화합물의 제조방법
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15
제10항에 있어서,상기 단계 (a)가(a-1) 5-히드록시메틸퍼퓨랄(5-hydroxymethylfurfural, HMF)을 상기 구조식 11로 표시되는 화합물과 반응시키는 단계; 및(a-2) 상기 단계 (a-1)의 생성물을 상기 구조식 12로 표시되는 화합물과 반응시켜 상기 구조식 13으로 표시되는 화합물을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 에폭시 화합물의 제조방법
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16
제15항에 있어서,상기 단계 (a-1)이 10 내지 80℃의 온도에서 수행되고,상기 단계 (a-2)가 50 내지 100℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 에폭시 화합물의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 단계 (b)가 50 내지 100℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 에폭시 화합물의 제조방법
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18
(1) 구조식 1로 표시되는 에폭시 화합물과, 구조식 2로 표시되는 에폭시 화합물과 경화제를 포함하는 에폭시 조성물을 제조하는 단계;(2) 상기 에폭시 조성물을 탈포(degassing)하는 단계; 및(3) 탈포된 상기 에폭시 조성물을 경화시켜 에폭시 수지를 제조하는 단계;를포함하는 에폭시 수지의 제조방법:[구조식 1]상기 구조식 1에서,R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자 또는 C1 내지 C3 알킬기이고,R3는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R4 및 R5는 각각 독립적으로 C1 내지 C6 알킬기이고,R6는 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R7은 수소원자 또는 이고,R9은 C1 내지 C3 알킬렌기이고,R8은 수소원자 또는 이고,R10은 C1 내지 C3 알킬렌기이고,[구조식 2]상기 구조식 2에서,R11은 각각 독립적으로 C1 내지 C3 알킬렌기이다
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제18항에 있어서,상기 단계 (3)이 80 내지 200℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지의 제조방법
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