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나노여과분리막의 표면 개질 방법

  • 기술번호 : KST2021013206
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 용존산소가 없고 경도가 높은 지하수에 용존되어 있는 중금속 이온의 제거효율이 식수 기준을 충족하도록 아민기-카르복실기-레이어와 polyethylenimine(PEI) 그래프팅을 이용해 나노여과분리막의 성능을 개선하는 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 나노여과분리막의 표면 개질 방법은, 음전하를 띠는 NF 분리막을 PEI 용액에 침지하여 PEI 양이온이 NF 분리막의 표면에 결합된 PEI-분리막을 형성하고, PEI-분리막을 PAA 용액에 침지하여 PAA 음이온이 PEI-분리막의 표면에 결합된 PEI-PAA-레이어를 형성하는 제1 단계; 및 PEI-PEA-레이어에 형성된 카르복실기 레이어와 PEI의 아민기의 아미드화 반응을 유도하여 PEI-PEA-레이어에 PEI를 그래프팅하는 제2 단계;를 포함함으로써, 경도가 높은 지하수를 막성능의 저하 없이 처리할 수 있는 나노여과분리막을 제공할 수 있다.
Int. CL B01D 67/00 (2006.01.01) B01D 65/08 (2006.01.01) C02F 1/44 (2006.01.01) B01D 61/02 (2006.01.01) C02F 103/06 (2006.01.01)
CPC B01D 67/0093(2013.01) B01D 65/08(2013.01) C02F 1/442(2013.01) B01D 61/027(2013.01) C02F 2103/06(2013.01)
출원번호/일자 1020200064969 (2020.05.29)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2021-0147551 (2021.12.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.05.29)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이영행 서울특별시 성북구
2 이수관 서울특별시 성북구
3 뉴엔 티 투 후옹 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2020.05.29 수리 (Accepted) 1-1-2020-0547944-87
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2021.02.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2021.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0101032-85
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2021.08.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0629208-84
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2021.10.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-1156208-00
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2021.10.08 수리 (Accepted) 1-1-2021-1156191-12
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번호 청구항
1 1
음전하를 띠는 NF 분리막을 PEI 용액에 침지하여 PEI 양이온이 상기 NF 분리막의 표면에 결합된 PEI-분리막을 형성하고, 상기 PEI-분리막을 PAA 용액에 침지하여 PAA 음이온이 상기 PEI-분리막의 표면에 결합된 PEI-PAA-레이어를 형성하는 제1 단계; 및상기 PEI-PEA-레이어에 형성된 카르복실기 레이어와 PEI의 아민기의 아미드화 반응을 유도하여 상기 PEI-PEA-레이어에 PEI를 그래프팅하는 제2 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노여과분리막의 표면 개질 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제1 단계는,상기 NF 분리막을 PEI 용액에 10-15분 침지하는 제1-1 단계;상기 PEI 용액에 침지된 PEI-분리막을 증류수로 세척 후, 상기 세척된 PEI-분리막을 상기 PAA 용액에 10-15분 침지하는 제1-2 단계;상기 PEI-PAA 분리막을 증류수로 세척하는 제1-3 단계; 및상기 제1-1 단계, 상기 제1-2 단계, 상기 제1-3 단계의 과정을 반복하여 복수 층의 카르복실기 레이어를 형성하는 제1-4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노여과분리막의 표면 개질 방법
3 3
제 2 항에 있어서,상기 PEI 용액은,750,000 MW의 PEI 0
4 4
제 2 항에 있어서,상기 PAA 용액은,250,000 MW의 PAA 0
5 5
제 1 항에 있어서,상기 제2 단계는,EDC-NHS 용액 및 PBS-PEI 용액이 사용되는 것을 특징으로 하는 나노여과분리막의 표면 개질 방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 제2 단계는,상기 EDC-NHS 용액에 상기 PEI-PAA-레이어를 30-45분 침지하는 제2-1 단계;상기 EDC-NHS 용액에 침지된 PEI-PAA-레이어를 증류수로 세척 후, 상기 PBS-PEI 용액에 10-15시간 침지하는 제2-2 단계; 및상기 PBS-PEI 용액에 침지된 PEI-PAA-레이어를 증류수에 5-7회 세척하여 상기 PEI-PAA-레이어에 상기 PEI를 그래프팅하는 제2-3 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노여과분리막의 표면 개질 방법
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제 5 항에 있어서,상기 EDC-NHS 용액은,50 mM MES 버퍼를 NaOH나 HCl을 이용하여 pH 5로 조정하고, 30 μM의 농도를 각각 가질 수 있도록 EDC와 sulfo-NHS를 용해시킨 용액인 것을 특징으로 하는 나노여과분리막의 표면 개질 방법
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제 5 항에 있어서,상기 PBS-PEI 용액은,1x PBS에 1
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