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세리아(ceria) 입자를 포함하는 분산액을 형성하는 단계; 및상기 분산액 상에 자외선(UV)을 조사하는 단계를 포함하는,연마 조성물의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 자외선을 조사하는 단계에 의해 상기 세리아 입자 상에 산소 공공(Oxygen vacancy)이 형성되는 것인, 연마 조성물의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 자외선을 조사하는 단계에 의해 상기 세리아 입자 상에 3가 세륨 양이온(Ce3+)이 증가하는 것인, 연마 조성물의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 자외선을 조사하는 시간을 조절하여 상기 연마 조성물의 연마율을 조절하는 것인, 연마 조성물의 제조 방법
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제 1 항에 있어서
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제 5 항에 있어서,상기 폴리머는 폴리메타크릴레이트, 암모늄 폴리메타크릴레이트, 폴리카르복실산, 카르복실-아크릴 폴리머, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 연마 조성물의 제조 방법
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제 5 항에 있어서,상기 연마 조성물 100 중량부에 있어서, 상기 연마 조성물은 상기 폴리머를0
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제 1 항에 있어서,상기 분산액은 아미노산을 추가 포함하는 것인, 연마 조성물의 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 아미노산은 트립토판, 티로신, 시스테인, 프롤린, 알라닌, 이소류신, 글리신, 발린, 페닐알라닌, 류신, 메싸이오닌, 트립토판, 아스파라진, 트레오닌, 글루타민, 세린, 히스티틴, 아르지닌, 리신, 글루탐산, 아스파르트산, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 연마 조성물의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 연마 조성물 100 중량부에 있어서, 상기 연마 조성물은 상기 아미노산을0
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제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 따른 제조 방법에 의해 제조된, 연마 조성물
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제 11 항에 따른 연마 조성물을 연마 대상체 상에 도포하는 단계; 및상기 연마 조성물이 도포된 상기 연마 대상체 상에 기계적 힘을 가하는 단계를 포함하는,화학 기계적 연마 방법
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제 12 항에 있어서,상기 연마 대상체는 절연막이 형성되어 있는 기판, 반도체 기판, 금속막 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 물질을 포함하는 것인, 화학 기계적 연마 방법
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