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I) 비전도성 기재 및 상기 비전도성 기재 상부에 위치하고 전도성을 갖는 소수성 2차원 나노구조체를 함유하는 전도성 층을 포함하는 대상 기재와 유기 탄성부재를 물리적으로 접촉시킨 후 서로 분리하는 단계; II) 유기 탄성부재와 접촉 후 분리된 대상 기재에 에너지를 인가하여 전도성 층을 친수화하는 단계;III) 친수화된 전도성층 상부에 분석대상물을 위치시키는 단계; 및IV) 분석대상물에 전자 빔을 조사하는 단계;를 포함하는 분석대상물의 분석 방법
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제 1항에 있어서, 상기 유기 탄성부재와 소수성 2차원 나노구조체간의 물리적 접촉 시간, 물리적 접촉시 가해지는 압력 및 물리적 접촉 횟수에서 하나 이상 선택되는 인자를 제어하여, I) 단계의 물리적 접촉에 의한 유기 탄성부재로부터 전도성 층으로의 유기성분 전사량이 조절되는 분석대상물의 분석 방법
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제 1항에 있어서,상기 에너지의 인가는 플라즈마 인가, UV-오존 인가, 광 인가, 전압 인가 또는 이들의 조합을 포함하는 분석대상물의 분석 방법
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제 1항에 있어서,상기 에너지의 인가는 산소 함유 플라즈마 인가를 포함하는 분석대상물의 분석 방법
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제 1항에 있어서,상기 전도성 층에 상기 유기 탄성부재가 압착되는 위치, 상기 전도성 층에 접하는 유기 탄성부재의 표면인 접촉면의 크기, 접촉면의 형상, 접촉면의 패턴 및 전도성 층에 압착되는 둘 이상의 유기 탄성부재의 배열에서 하나 이상 선택되는 인자에 의해, 상기 전도성 층에서 친수화되는 영역이 제어되는 분석대상물의 분석 방법
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제 1항에 있어서,상기 소수성 2차원 나노구조체는 그래핀을 포함하는 분석대상물의 분석 방법
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제 6항에 있어서,상기 물리적 접촉은 하기 식 1을 만족하도록 수행되는 분석대상물의 분석 방법
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제 1항에 있어서,상기 유기 탄성부재에서, 적어도 상기 전도성 층과 접하는 표면인 접촉면은 소수성을 갖는 분석대상물의 분석 방법
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제 1항에 있어서,상기 유기 탄성부재에서, 적어도, 상기 전도성 층과 접하는 표면인 접촉면은 실록산계 탄성체를 함유하는 분석대상물의 분석 방법
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제 9항에 있어서,상기 실록산계 탄성체는 지방족 폴리실록산, 방향족 폴리실록산, 지방족기와 방향족기를 하나의 반복단위 내에 모두 포함하는 폴리실록산, 지방족기를 포함하는 제1반복단위와 방향족기를 포함하는 제2반복단위를 포함하는 폴리실록산, 또는 이들의 혼합물 또는 이들의 공중합체를 포함하는 분석대상물의 분석 방법
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제 10항에 있어서,상기 실록산계 탄성체는 폴리디메틸실록산, 폴리디에틸실록산, 폴리메틸에틸실록산, 폴리디메틸실록산-co-디에틸실록산, 폴리디메틸실록산-co-에틸메틸실록산, 폴리메틸히드록시실록산, 폴리메틸프로필실록산, 폴리메틸부틸실록산, 폴리디페닐실록산, 폴리메틸페닐실록산, 폴리에틸페닐실록산, 폴리(디메틸실록산-co-디페닐실록산) 또는 이들의 혼합물 또는 이들의 공중합체를 포함하는 분석대상물의 분석 방법
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제 1항에 있어서,II) 단계 후 및 III) 단계 전, 친수화된 전도성 층 상부에 생체적합성 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는 분석대상물의 분석 방법
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I) 비전도성 기재 및 상기 비전도성 기재 상부에 위치하며 전도성 2차원 나노구조체를 함유하며 소수성을 갖는 전도성 층을 포함하는 대상 기재와 유기 탄성부재를 물리적으로 접촉시킨 후 서로 분리시키는 단계; 및II) 유기 탄성부재와 접촉 후 분리된 대상 기재에 에너지를 인가하여 전도성 층을 친수화하는 단계;를 포함하는 전도성 기재의 제조방법
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제 13항에 있어서,상기 전도성 기재는 전자 빔(electron beam)이 조사되는 분석대상물을 지지하기 위한 지지체인 전도성 기재의 제조방법
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제 13항에 있어서,상기 전도성 2차원 나노구조체는 그래핀을 포함하는 전도성 기재의 제조방법
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제 13항에 있어서,상기 유기 탄성부재에서, 적어도, 상기 소수성 2차원 나노구조체와 접하는 표면인 접촉면은 실리콘 수지를 함유하는 전도성 기재의 제조방법
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제 13항에 있어서,상기 에너지의 인가는 플라즈마 인가, UV-오존 인가, 광 인가, 전압 인가 또는 이들의 조합을 포함하는 전도성 기재의 제조방법
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면저항(sheet resistance)이 50kΩ/sq
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제 18항에 있어서,하기 식 2를 만족하는 전도성 기재
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제 18항에 있어서,상기 친수성 그래핀 필름의 라만 스펙트럼 상 －OH 피크와 －CH3 피크가 검출되는 전도성 기재
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제 18항에 있어서,상기 친수성 그래핀 필름의 면 저항은 20kΩ/sq
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제 18항에 있어서,상기 친수성 그래핀 필름을 지지하는 지지기재를 더 포함하는 전도성 기재
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제 18항에 있어서,상기 친수성 그래핀 필름의 표면에 코팅된 생체적합성 코팅층을 더 포함하는 전도성 기재
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제 18항 내지 제 23항 중 어느 한 항에 따른 전도성 기재를 포함하는, 전자 빔(electron beam)이 조사되는 분석대상물 지지용 지지체
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