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(S1) 저비점의 제1용매에 방향족 고분자를 용해하고 할로겐화제를 반응시켜 할로겐화된 고분자 용액을 제조하는 단계;(S2) 상기 할로겐화된 고분자 용액을 상기 할로겐화된 고분자 용액이 용해될 수 있는 고비점의 제2용매와 혼합하여 할로겐화된 고분자 혼합용액을 제조하는 단계; 및(S3) 상기 할로겐화된 고분자 혼합용액을 감압증류하여 제1용매를 제거하는 단계;를 포함하는 할로겐화된 고분자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 방향족 고분자는 폴리페닐렌옥사이드계, 폴리스티렌계, 폴리술폰계, 폴리에테르술폰계, 폴리페닐렌설파이드계, 폴리이미드계, 폴리페닐렌계 및 이들의 공중합체 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 고분자를 포함하는 할로겐화된 고분자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1용매의 비점은 상기 제2용매의 비점보다 낮은 것인 할로겐화된 고분자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1용매는 하기 화학식1의 구조의 화합물인, 할로겐화된 고분자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (S1) 단계에서, 상기 할로겐화 반응은 라디칼 개시제를 더 포함하는 할로겐화된 고분자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (S1) 단계에서, 상기 할로겐화제는 N-브로모숙신이미드, 브롬, 브로민화수소 및 브롬화칼륨 중에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상을 포함하는 브롬화제인, 할로겐화된 고분자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (S1) 단계에서, 상기 할로겐화제는 (C1-C4) 알콕시 (C1-C4) 알킬클로라이드의 염소화제인, 할로겐화된 고분자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (S1) 단계에서, 상기 할로겐화 반응은 30℃ 내지 140℃에서 반응되는 할로겐화된 고분자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제2용매는 피롤리돈계 용매, 아미드계 용매, 글리콜계 용매 및 카보네이트계 용매 중에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 양쪽성 용매를 포함하는 할로겐화된 고분자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1용매와 제2용매는 서로 혼화성을 가지는 할로겐화된 고분자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (S2) 단계에서, 상기 할로겐화된 고분자 혼합용액은 상기 할로겐화된 고분자 용액 100 중량부에 대하여 상기 제2용매 5 내지 100 중량부를 포함하는 할로겐화된 고분자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (S3) 단계에서, 감압증류 시 온도는 70 내지 110℃인 할로겐화된 고분자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 할로겐화된 고분자의 제조 방법은,상기 (S3) 단계에서 감압증류에 의해 분리된 제1용매는 상기 (S1) 단계의 제1용매로 재순환되는 것인 할로겐화된 고분자의 제조 방법
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제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 할로겐화된 고분자의 제조 방법으로 제조되는 할로겐화된 고분자 용액
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제14항에 따른 할로겐화된 고분자 용액과 아민계 화합물을 혼합하여 음이온교환 수지용액을 제조하는 단계; 및상기 음이온교환 수지용액을 기재 상에 코팅하는 단계; 로부터 제조되는 이온교환막
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제 15항에 있어서,상기 아민계 화합물은 3급 아민계 화합물인, 이온교환막
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