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구리를 증착하여 구리 박막의 기판을 생성하는 제1 단계;상기 구리 박막의 기판에 황화수소(H2S) 가스를 공급하여 황화구리(CuS) 박막의 기판을 제공하는 제2 단계를 포함하는, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 구리 박막의 기판은 다결정 구리 박막인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 단계는 물리적 기상 증착(physical vapor deposition; PVD) 또는 원자층 증착(Atomic layer deposition; ALD)공정으로 구리를 증착하는 것인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 물리적 기상 증착은 열증발(thermal evaporator), 전자빔증발(electron-beam evaporator) 및 스퍼터링(sputtering)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1 단계는 두께가 0
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제1항에 있어서,상기 제2 단계의 상기 황화수소 가스의 농도는 1 ppm 내지 10,000 ppm 인 것인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제2 단계는 20℃ 내지 300℃ 온도 범위에서 수행되는 것인, 표면 증강 라만 산란 기판의 제조방법
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기판; 및 상기 기판 상에 도포된 금속 나노 입자를 포함하고,상기 금속 나노 입자는 황화구리인 것인 나노 소재로서,상기 나노 소재는 2차원 구조인 것인, 표면 증강 라만 산란 기판
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제8항에 있어서,상기 기판은 SiO2, Si, SiO2/Si, 유리, PET (polyethylene terephthalate), PI (polyimide) 로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인, 표면 증강 라만 산란 기판
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제8항에 있어서, 상기 나노 소재의 두께는 0
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제8항에 있어서,표면 증강 라만 산란의 라만 강도(raman intensity)가 10% 이내의 균일도를 나타내는 것이 특징인, 표면 증강 라만 산란 기판
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제8항에 있어서,표면 증강 라만 산란의 라만 강도로 검출 가능한 R6G(rhodamine 6G) 농도가 10-12 M 이상인 것을 특징으로 하는, 표면 증강 라만 산란 기판
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