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교환막과, 상기 교환막 양단 각각에 구비되는 확산층인 전극층을 갖는 막-전극 집합체의 양측 중 적어도 어느 하나에 구비되는 유로 구조에 있어서, 일단에 반응물 유입단과 타단에 생성물 배출단을 갖는 분리판과, 상기 전극층 사이 내부 공간에 설치되며, 상기 전극층에 구비되는 유로판과, 상기 유로판의 일측에 복수로 구비되어 반응에 의해 생성된 생성물이 토출되는 채칼형 유로를 갖는 것을 특징으로 하는 전해조용 채칼형 유로구조
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제 1항에 있어서, 상기 반응물 유입단과 연통되도록 상기 유로판 일측에 형성되어 반응물을 상기 전극층으로 이동시키는 반응물 유입홀과, 상기 유로판에 복수로 형성되는 유통홀를 포함하며, 상기 채칼형 유로는 상기 유통홀 각각에 구비되어 반응에 의해 생성된 생성물이 상기 채칼형 유로를 통해 토출되어 상기 생성물 배출단을 통해 배출되는 것을 특징으로 하는 전해조용 채칼형 유로구조
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제 2항에 있어서, 상기 채칼형 유로는 상기 유통홀 일측 모서리에서 상기 분리판측으로 절곡형성되는 절곡부와, 상기 절곡부와 연결되어 상기 분리판과 접촉되는 연결부를 포함하여, 생성물이 배출되는 출구단을 형성하는 것을 특징으로 하는 전해조용 채칼형 유로구조
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제 2항에 있어서, 상기 채칼형 유로는 유동방향으로 서로 교차되는 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 전해조용 채칼형 유로구조
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제 2항항에 있어서, 상기 채칼형 유로는 유동방향으로 점진적으로 폭이 증가되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 전해조용 채칼형 유로구조
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제 2항에 있어서, 상기 채칼형 유로는 유동방향으로 점진적으로 개수가 증가되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 전해조용 채칼형 유로구조
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제 1항에 있어서, 상기 반응물은 물이고, 상기 생성물은 산소인 것을 특징으로 하는 전해조용 채칼형 유로구조
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교환막과, 상기 교환막 양단 각각에 구비되는 확산층인 전극층을 갖는 막-전극 집합체의 양측 중 적어도 어느 하나에 구비되는 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 채칼형 유로 구조를 통한 기체 배출방법에 있어서, 분리판 일단의 반응물유입단을 통해 반응물이 유입되어 채칼형 유로구조의 반응물 유입홀을 거쳐 전극층으로 확산되는 단계; 채칼형 유로구조의 유로판의 일측에 복수로 구비되는 채칼형 유로의 출구단을 통해 반응에 의해 생성된 생성물이 상기 분리판의 내부공간으로 토출되는 단계; 및토출된 생성물이 상기 분리판의 타단의 생성물배출단을 통해 배출되는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 채칼형 유로 구조를 통한 기체 배출방법
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제 8항에 있어서, 상기 채칼형 유로구조는 애노드측 분리판과, 애노드측 전극층 사이 내부공간에 구비되며, 반응물은 물이고, 채칼형 유로구조를 통해 토출되는 생성물은 산소인 것을 특징으로 하는 채칼형 유로 구조를 통한 기체 배출방법
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제 9항에 있어서, 상기 채칼형 유로가 유동방향으로 서로 교차되는 방향으로 형성되어, 채칼형 유로를 통해 토출된 산소에 의한 유동저항 상승을 방지할 수 있는 것을 특징으로 하는 채칼형 유로 구조를 통한 기체 배출방법
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제 9항에 있어서, 발생되는 산소의 양이 상대적으로 적은 입구 부분에는 채칼형 유로의 폭을 출구 부분보다 작게 하거나 개수를 줄여 불필요한 반응물의 이동을 줄이고, 산소의 양이 상대적으로 많은 출구 부분에는 채칼형 유로의 폭을 크게 하거나 개수를 늘려 산소의 이동을 촉진시키는 것을 특징으로 하는 채칼형 유로 구조를 통한 기체 배출방법
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고분자 전해질 전해조에 있어서,교환막과, 상기 교환막 양단 각각에 구비되는 확산층인 전극층을 갖는 막-전극 집합체;상기 막-전극 집합체 양단 각각에 특정간격 이격되어 배치되는 분리판; 및 상기 분리판과 상기 전극층 사이 내부공간에 구비되는 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 채칼형 유로 구조;를 포함하는 것을 특징으로 하는 채칼형 유로구조를 갖는 고분자 전해질 전해조
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제 12항에 있어서, 상기 채칼형 유로구조는 애노드측 분리판과, 애노드측 전극층 사이 내부공간에 구비되며, 반응물은 물이고, 채칼형 유로구조를 통해 토출되는 생성물은 산소인 것을 특징으로 하는 채칼형 유로구조를 갖는 고분자 전해질 전해조
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