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하기의 단계를 포함하는 조골세포의 부착능이 증가한 임플란트 표면처리 방법:임플란트의 표면에 원자층 증착법(Atomic layer deposition; 이하, ALD)으로 지르코니아를 증착하는 증착 단계; 및지르코니아가 증착된 임플란트를 열처리하여 상기 지르코니아가 큐빅 상의 결정 구조를 갖도록 하는 열처리 단계
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제1항에 있어서, 상기 임플란트의 재질은 티타늄인 것인, 임플란트 표면처리 방법
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제1항에 있어서, 상기 지르코니아의 전구체는 지르코니움(IV) 털트-뷰톡사이드 [Zirconium(IV) tert-butoxide], 비스(메틸-η5-사이클로-펜타디에닐)메톡시메틸지르코니움 [Bis(methyl-η5-cyclo-pentadienyl) methoxymethylzirconium], 테트라키스(디메틸아미도)지르코니움(IV)[Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV)] 및 테트라키스(에틸메틸아미도)지르코니움(IV)[Tetrakis(ethylmethylamido) zirconium(IV)]으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것인, 임플란트 표면처리 방법
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제1항에 있어서, 상기 증착 단계는 10 내지 1000회 수행되는 것인, 임플란트 표면처리 방법
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제1항에 있어서, 상기 증착 단계는 150 내지 300℃에서 수행되는 것은, 임플란트 표면처리 방법
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제1항에 있어서, 상기 열처리 단계는 350℃ 이상에서 수행되는 것인, 임플란트 표면처리 방법
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제1항에 있어서, 상기 열처리 단계는 승온 단계 및 온도 유지 단계를 포함하는 것인, 임플란트 표면처리 방법
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제7항에 있어서, 상기 승온 단계는 10 내지 50분 동안 수행되는 것인, 임플란트 표면처리 방법
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제7항에 있어서, 상기 온도 유지 단계는 40 내지 80분 동안 수행되는 것인, 임플란트 표면처리 방법
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큐빅 상의 결정 구조를 갖는 지르코니아가 표면 처리된, 조골세포의 부착능이 증가한 임플란트
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제10항에 있어서, 상기 임플란트는 표면에 지르코니아가 공유결합을 통해 증착된 것인, 임플란트
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제11항에 있어서, 상기 임플란트 표면에 증착된 지르코니아는 임플란트 표면에 -OH기와 지르코니아의 Zr이 공유결합하여 증착된 것인, 임플란트
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제11항에 있어서, 상기 임플란트 표면에 증착된 지르코니아의 두께는 1
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제11항에 있어서, 상기 임플란트 표면의 지르코니움과 산소의 비율은 1:1 내지 1:10인 것인, 임플란트
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제10항에 있어서, 상기 임플란트는 XRD에서 2θ가 30° 내지 31°, 50° 내지 51° 및 60° 내지 61°에서 지르코니아 큐빅 상의 피크를 나타내는 것인, 임플란트
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제10항에 있어서, 상기 임플란트는 증류수를 이용하여 측정한 접촉각이 100° 이상인 것인, 임플란트
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