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압전 물질층을 포함하는 음성센서로서, 기판;상기 기판이 지지하는 압전물질층; 상기 압전물질층의 상부 또는 하부에 배치되는 전극; 및상기 압전물질층의 상부 또는 하부에 배치되는 폴리머층;을 포함하며, 상기 압전물질층과 상기 전극의 조합으로 정의되는 단위 채널은 복수개로 배치되어 분리되며, 상기 기판은 상기 압전물질층, 전극 및 폴리머층을 포함하는 박막의 일부를 식각을 이용하여 노출하는 방식으로 제작되어, 음성센서의 소자층을 일체형으로 지지하는 것을 특징으로 하는 압전 물질층을 포함하는 음성센서
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제 1항에 있어서, 상기 기판은 실리콘 기판이며, 상기 실리콘 기판은 bosch 공정을 통해 백 에칭(back etching)되며 센서 영역 부 압전층을 포함하는 액티브 영역(active area)이 노출되는 것을 특징으로 하는 음성센서
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 압전물질층, 전극 및 폴리머층을 포함하는 박막의 노출부는 원 또는 다각형인 것을 특징으로 하는 음성센서
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제 2항 또는 제 3항에 있어서, 상기 노출된 박막의 너비는 0
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제 1항 내지 제 4항에 있어서, 상기 폴리머층의 모듈러스 범위는 0
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제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리머층의 모듈러스가 동일 층 내에서 연속적 또는 불연속적으로 일 방향으로 상이한 것을 특징으로 하는 음성센서
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제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단위 채널은 폭 또는 길이 중 적어도 하나 이상이 상이한 것을 특징으로 하는 음성센서
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8
제 7항에 있어서, 상기 단위 채널의 길이는 모두 상이하며, 연속적 또는 불연속적으로 일 방향으로 길이가 감소하는 것을 특징으로 하는 음성센서
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 기판에는 산화물층을 포함하며, 상기 산화물층이 상기 노출된 박막의 손상을 방지하는 것을 특징으로 하는 압전 물질층을 포함하는 음성센서
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제 9항에 있어서, 상기 산화물층은 에칭방식으로 상기 기판이 식각되어 두께가 제어되는 경우 에칭 멈춤층으로 동작하는 것을 특징으로 하는 압전 물질층을 포함하는 음성센서
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