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폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 방법으로서,상기 컨디셔닝의 진행 변수를 포함하는 제1특성 정보, 컨디셔너의 구조 정보를 포함하는 제2특성 정보 및 폴리싱 패드의 구조 정보를 포함하는 제3특성 정보를 추출하는 단계;상기 제1특성 정보, 제2특성 정보 및 제3특성 정보를 알고리즘에 입력하는 단계;상기 폴리싱 패드의 프로파일을 산출하는 단계; 및상기 폴리싱 패드의 프로파일을 기반으로 데이터 시각화하는 단계;를 포함하고,상기 알고리즘에 입력하는 단계는 상기 패드에 가해지는 압력 분포에 따른 특성 정보 및 상기 패드 컨디셔닝에서 사용하는 슬러리에 의한 상기 패드의 물성변화를 포함하는 슬러리 특성 정보를 더 입력하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 방법
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제1항에 있어서,상기 산출하는 단계는,상기 컨디셔너에 포함된 다이아몬드 각 그릿의 좌표를 결정하고, 상기 각 그릿의 압력을 결정하고 상기 각 그릿에 대한 압입 깊이를 결정하는 단계를 포함하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 방법
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제4항에 있어서,상기 산출하는 단계는,상기 컨디셔너에 포함된 다이아몬드의 각 그릿의 좌표에 해당하는 메쉬의 마모 밀도를 축적하는 단계를 포함하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 방법
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제1항에 있어서,상기 알고리즘은,상기 제1특성 정보, 제2특성 정보 및 제3특성 정보를 기반으로 상기 컨디셔너의 다이아몬드 각 그릿이 패드를 연삭하는 궤적을 도출하고,상기 궤적, 제1특성 정보, 제2특성 정보 및 제3특성 정보를 기반으로 상기 다이아몬드의 각 그릿이 상기 폴리싱 패드를 연삭하는 양에 대한 연삭량 정보을 산출하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 방법
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제1항에 있어서,상기 폴리싱 패드의 프로파일은,상기 폴리싱 패드의 마모 밀도, 상기 컨디셔너의 다이아몬드각 그릿의 궤적 및 각각의 상기 다이아몬드의 누적 이동거리 정보를 포함하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 방법
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제1항에 있어서,상기 구조 정보는, Confocal microscopy 및 AFM을 포함하는 장비를 기반으로 추출된 것이고,상기 제1특성 정보는, 상기 패드 및 컨디셔너의 회전 속도 정보, 스윕암 작동 정보, 압력 정보 및 진행 시간 정보를 포함하고,상기 제2특성 정보는, 상기 컨디셔너의 밀도 및 사이즈 정보, 다이아몬드 정보를 포함하되,상기 제3특성 정보는, 상기 폴리싱 패드의 그루브 정보, 강도 및 사이즈 정보를 포함하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 방법
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제1항의 폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 방법을 실행시킬 수 있는 프로그램이 기록된 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체
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폴리싱 패드 컨디셔닝 장치로서,상기 컨디셔닝의 진행 변수를 포함하는 제1특성 정보, 컨디셔너의 구조 정보를 포함하는 제2특성 정보 및 폴리싱 패드의 구조 정보를 포함하는 제3특성 정보를 추출하는 추출부;상기 제1특성 정보, 제2특성 정보 및 제3특성 정보를 알고리즘에 입력하여 상기 폴리싱 패드의 프로파일을 산출하는 산출부; 및상기 폴리싱 패드의 프로파일을 기반으로 데이터 시각화하는 시각화부;를 포함하고,상기 산출부는 상기 패드에 가해지는 압력 분포에 따른 특성 정보 및 상기 폴리싱 패드의 컨디셔닝에서 사용하는 슬러리에 의한 상기 폴리싱 패드의 물성변화를 포함하는 특성 정보를 더 입력하여 상기 폴리싱 패드의 프로파일을 산출하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 장치
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제10항에 있어서,상기 산출부는,상기 컨디셔너에 포함된 다이아몬드 각 그릿의 좌표를 결정하고, 상기 각 그릿의 압력을 결정하고, 상기 각 그릿에 대한 압입 깊이를 결정하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 장치
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제13항에 있어서,상기 산출부는,상기 컨디셔너에 포함된 다이아몬드의 각 그릿의 좌표에 해당하는 메쉬의 마모 밀도를 축적하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 장치
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제10항에 있어서,상기 알고리즘은,상기 제1특성 정보, 제2특성 정보 및 제3특성 정보를 기반으로 상기 컨디셔너의 다이아몬드 각 그릿이 패드를 연삭하는 궤적을 도출하고,상기 궤적, 제1특성 정보, 제2특성 정보 및 제3특성 정보를 기반으로 상기 다이아몬드의 각 그릿이 상기 폴리싱 패드를 연삭하는 양에 대한 연삭량 정보를 산출하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 장치
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제10항에 있어서,상기 폴리싱 패드의 프로파일은,상기 폴리싱 패드의 마모 밀도, 상기 컨디셔너의 다이아몬드 그릿의 궤적 및 각 그릿의 누적 이동거리 정보를 포함하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 장치
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제10항에 있어서,상기 구조 정보는, Confocal microscopy 및 AFM을 포함하는 장비를 기반으로 추출된 것이고,상기 제1특성 정보는, 상기 패드 및 컨디셔너의 회전 속도 정보, 스윕암 작동 정보, 압력 정보 및 진행 시간 정보를 포함하고,상기 제2특성 정보는, 상기 컨디셔너의 밀도 및 사이즈 정보, 다이아몬드 정보를 포함하되,상기 제3특성 정보는, 상기 폴리싱 패드의 그루브 정보, 강도 및 사이즈 정보를 포함하는 것인,폴리싱 패드 컨디셔닝 시뮬레이션 장치
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