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초음파 조사를 이용한 실리카 자성나노입자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2022001053
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 실리카로 코팅된 자성나노입자의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 다른 복잡한 제조공정 없이 단시간에 초음파 조사만을 이용한 간단한 공정으로 균일한 성질을 갖는 실리카 자성나노입자를 제조하는 방법에 관한 것이다.
Int. CL H01F 1/00 (2006.01.01) H01F 1/06 (2006.01.01) B22F 1/00 (2022.01.01) B82Y 25/00 (2017.01.01)
CPC H01F 1/0054(2013.01) H01F 1/06(2013.01) B22F 1/107(2013.01) B82Y 25/00(2013.01)
출원번호/일자 1020200116141 (2020.09.10)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-2353467-0000 (2022.01.17)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20220119) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.09.10)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박정규 대전광역시 유성구
2 강명현 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인주원 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(논현동, 건설회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2020.09.10 수리 (Accepted) 1-1-2020-0961357-96
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2021.01.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2021.03.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2021-0151907-25
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2021.09.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2021-0734849-60
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2021.11.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2021-1262693-28
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
 2021.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2021-1262694-74
7 등록결정서
Decision to grant		 2022.01.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2022-0008950-24
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
1) 증류수에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 조절하는 단계;2) 염화철(III) 및 염화철(II)을 2:1 몰비로 첨가한 후 12 kHz로 30분간 초음파 처리하여 자성나노입자를 제조하는 단계;3) 자석을 이용하여 자성나노입자를 분리한 후 상기 분리된 자성나노입자를 세척 및 건조하는 단계;4) 증류수 및 에탄올이 혼합된 용액에 염기성 물질을 첨가하여 pH를 조절하는 단계;5) 상기 건조된 자성나노입자를 첨가한 후 4 kHz로 3분간 초음파 처리하여 자성나노입자 표면에 -OH기를 활성화 시키는 단계;6) 에탄올을 첨가한 후 상기 건조된 자성나노입자와 테트라에틸 오르소실리케이트(Tetraethyl orthosilicate)는 1:2 질량비가 되도록 테트라에틸 오르소실리케이트를 첨가한 뒤 20 kHz로 15분 또는 30분간 초음파 처리하여 실리카 자성나노입자를 제조하는 단계; 및7) 자석을 이용하여 실리카 자성나노입자를 분리한 후 상기 분리된 실리카 자성나노입자를 세척 및 건조하여 실리카 자성나노입자를 수득하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리카 자성나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 염기성 물질은 수산화나트륨 또는 암모니아수를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리카 자성나노입자의 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 1) 및 4) 단계에서 pH는 9 이상인 것을 특징으로 하는 실리카 자성나노입자의 제조방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 실리카 자성나노입자의 크기는 20 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는 실리카 자성나노입자의 제조방법
11 11
제1항 및 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 제조방법으로 제조된 실리카 자성나노입자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국화학연구원 한국화학연구원연구운영비지원(R＆D) 독립형(Off-grid) 차세대 에너지 생산용 핵심 소재 기술