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기판을 연속으로 제공하는 제공롤; 상기 기판 상에 제1 미세 패턴을 형성하는 인쇄유닛; 상기 제1 미세 패턴이 형성된 기판 상에 전구체 가스를 제공하는 가스 제공부; 상기 전구체 가스의 제공과 함께 상기 제1 미세 패턴으로 광을 제공하여, 상기 제1 미세 패턴 상에 표면 작용기가 형성되는 제2 미세 패턴을 형성하는 광원부; 및상기 기판을 연속으로 회수하는 회수롤을 포함하는 미세패턴 제조시스템
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제1항에 있어서, 상기 기판은, 구리 또는 구리 합금을 포함하는 유연 기판인 것을 특징으로 하는 미세패턴 제조시스템
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제1항에 있어서, 상기 인쇄유닛은 패턴부가 음각으로 형성되며 회전하는 패턴롤을 포함하며, 상기 패턴부에 충진된 잉크가 상기 기판 상으로 전사되며, 상기 제1 미세 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 미세패턴 제조시스템
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제1항에 있어서, 상기 인쇄유닛은 전사 패턴이 양각으로 형성되며 회전하는 전사롤을 포함하며, 상기 전사패턴이 상기 기판 상에 도포된 잉크로 임프린트되어, 상기 제1 미세 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 미세패턴 제조시스템
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제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 잉크는, 금속 나노입자를 포함하는 전도성 물질인 것을 특징으로 하는 미세패턴 제조시스템
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제1항에 있어서, 상기 전구체 가스는, 암모니아 가스, 산소 가스, 황화 가스 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 제조시스템
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제6항에 있어서, 상기 표면 작용기는, 아민기(NH2), 카복실기(COOH), 황화수소기(SH) 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 제조시스템
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제1항에 있어서, 상기 광원부에서 제공하는 광은, 연속적으로 제공되는 IPL(intense pulsed light)인 것을 특징으로 하는 미세패턴 제조시스템
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제1항에 있어서, 상기 제1 미세패턴은, 상기 기판 상에 균일하게 형성되는 제1 층; 및상기 제1 층 상에 소정의 함입부를 포함하는 패턴으로 형성되는 제2 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 제조시스템
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제9항에 있어서, 상기 제1 층은, 금속 나노입자를 포함하는 전도성 물질이거나, 전이산화금속 나노입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 제조시스템
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제1항에 있어서, 상기 제2 미세 패턴의 표면을 코팅하여 최종 미세패턴을 형성하는 표면 처리유닛을 더 포함하는 미세패턴 제조시스템
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제11항에 있어서, 상기 코팅은, 계면활성제 또는 고분자 물질이 상기 제2 미세 패턴의 외면의 입자들에 코팅되는 것을 특징으로 하는 미세패턴 제조시스템
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기판을 연속으로 제공하는 단계; 상기 기판 상에 인쇄 또는 임프린트를 이용하여 제1 미세패턴을 형성하는 단계; 전구체 가스의 제공과 함께, 상기 제1 미세패턴으로 광을 제공하여 상기 제1 미세패턴 상에 표면 작용기가 형성되는 제2 미세패턴을 형성하는 단계; 및상기 기판을 연속으로 회수하는 단계를 포함하는 미세패턴 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 제2 미세패턴의 표면을 코팅하여 최종 미세패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 미세패턴 제조방법
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