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플라즈마 이온 밀도 측정 장치에 있어서, 주파수가 가변되는 마이크로웨이브를 플라즈마에 인가하고 수신하는 송수신 안테나; 상기 송수신 안테나에서 수신되는 마이크로웨이브의 하나의 주파수를 분석하여 복수의 종류의 이온의 질량 중심 운동으로부터 컷오프 주파수를 측정하는 주파수 분석기; 상기 플라즈마에 인가되는 마이크로웨이브의 주파수는 100 kHz 이상 500 MHz 이하의 범위에서 가변되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 밀도 측정 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 주파수 분석기에서 측정한 컷오프 주파수를 플라즈마 이온 밀도로 변환하는 변환부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 밀도 측정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 송수신 안테나는 탐침형 안테나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 밀도 측정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 송수신 안테나는 루프형 안테나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 밀도 측정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 송수신 안테나는 평면형 링타입 안테나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 밀도 측정 장치
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제 1 항에 있어서,상기 송수신 안테나는 평면형 원뿔타입 안테나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 밀도 측정 장치
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7
제 1 항에 있어서,상기 송수신 안테나는 평면형 바타입 안테나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 밀도 측정 장치
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8
플라즈마 밀도 측정 장치에 있어서, 주파수가 가변되는 마이크로웨이브를 플라즈마에 인가하고 수신하는 송수신 안테나; 상기 송수신 안테나에서 수신되는 마이크로웨이브의 하나의 주파수를 분석하여 복수의 종류의 이온의 질량 중심 운동으로부터 컷오프 주파수를 측정하는 주파수 분석기; 상기 플라즈마에 인가되는 마이크로웨이브의 주파수는 100 kHz 이상 500 MHz 이하의 범위에서 가변되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 측정 장치
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제 8 항에 있어서, 상기 주파수 분석기에서 측정한 컷오프 주파수를 플라즈마 이온 밀도로 변환하는 변환부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 측정 장치
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10
제 8 항에 있어서, 상기 송수신 안테나는 탐침형 안테나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 측정 장치
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11
제 8 항에 있어서, 상기 송수신 안테나는 루프형 안테나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 밀도 측정 장치
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제 8 항에 있어서, 상기 송수신 안테나는 평면형 링타입 안테나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 밀도 측정 장치
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13
제 8 항에 있어서, 상기 송수신 안테나는 평면형 원뿔타입 안테나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 밀도 측정 장치
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제 8 항에 있어서, 상기 송수신 안테나는 평면형 바타입 안테나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 이온 밀도 측정 장치
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플라즈마 진단 장치에 있어서, 주파수가 가변되는 마이크로웨이브를 플라즈마에 인가하고 수신하는 송수신 안테나; 상기 송수신 안테나에서 수신되는 마이크로웨이브의 하나의 주파수를 분석하여 컷오프 주파수를 측정하는 주파수 분석기; 상기 주파수 분석기에서 측정한 컷오프 주파수를 플라즈마 전자 밀도 또는 플라즈마 이온 밀도로 변환하는 변환부; 상기 변환부에서 변환된 플라즈마 전자 밀도와 플라즈마 이온 밀도를 비교하는 비교부;를 포함하고,상기 주파수 분석기는 상기 송수신 안테나에서 수신되는 마이크로웨이브의 하나의 주파수를 분석하여 복수의 종류의 이온의 질량 중심 운동으로부터 컷오프 주파수를 측정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 장치
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제 15 항에 있어서, 상기 플라즈마에 인가되는 마이크로웨이브의 주파수는 100 kHz 이상 500 MHz 이하의 범위에서 가변되는 경우와 0
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플라즈마 공정 장치에 있어서, 플라즈마를 생성하는 진공 챔버; 상기 진공 챔버 내에서 주파수가 가변되는 마이크로웨이브를 플라즈마에 인가하고 수신하는 송수신 안테나; 상기 송수신 안테나에서 수신되는 마이크로웨이브의 하나의 주파수를 분석하여 컷오프 주파수를 측정하는 주파수 분석기; 상기 주파수 분석기에서 측정한 컷오프 주파수를 플라즈마 이온 밀도 또는 플라즈마 전자 밀도로 변환하는 변환부; 상기 변환부에서 변환된 플라즈마 이온 밀도와 플라즈마 전자 밀도를 비교하는 비교부;를 포함하고,상기 주파수 분석기는 상기 송수신 안테나에서 수신되는 마이크로웨이브의 하나의 주파수를 분석하여 복수의 종류의 이온의 질량 중심 운동으로부터 컷오프 주파수를 측정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 장치
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플라즈마 진단 방법에 있어서, 진공 챔버 내에 플라즈마를 생성하는 단계; 상기 진공 챔버 내에서 주파수가 가변되는 마이크로웨이브를 플라즈마에 인가하고 수신하는 단계; 주파수 분석기는 송수신 안테나에서 수신되는 마이크로웨이브의 하나의 주파수를 분석하여 컷오프 주파수를 측정하는 단계; 변환부는 상기 주파수 분석기에서 측정한 컷오프 주파수를 플라즈마 이온 밀도 또는 전자 밀도로 변환하는 단계; 비교부는 상기 변환부에서 변환된 플라즈마 이온 밀도와 플라즈마 전자 밀도를 비교하는 단계;를 포함하고, 상기 주파수 분석기는 상기 송수신 안테나에서 수신되는 마이크로웨이브의 하나의 주파수를 분석하여 복수의 종류의 이온의 질량 중심 운동으로부터 컷오프 주파수를 측정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 진단 방법
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플라즈마 공정 방법에 있어서, 진공 챔버 내에 플라즈마를 생성하는 단계; 상기 진공 챔버 내에서 주파수가 가변되는 마이크로웨이브를 플라즈마에 인가하고 수신하는 단계; 주파수 분석기는 송수신 안테나에서 수신되는 마이크로웨이브의 하나의 주파수를 분석하여 컷오프 주파수를 측정하는 단계; 변환부는 상기 주파수 분석기에서 측정한 컷오프 주파수를 플라즈마 이온 밀도 또는 전자 밀도로 변환하는 단계; 비교부는 상기 변환부에서 변환된 플라즈마 이온 밀도와 플라즈마 전자 밀도를 비교하는 단계; 상기 비교부에서 비교된 플라즈마 이온 밀도와 플라즈마 전자 밀도의 차이에 따라 플라즈마 생성을 위하여 인가되는 전원 공급부의 공급 전력, 기체 유량, 방전 압력 중 적어도 어느 하나를 제어하는 단계;를 포함하고, 상기 주파수 분석기는 상기 송수신 안테나에서 수신되는 마이크로웨이브의 하나의 주파수를 분석하여 복수의 종류의 이온의 질량 중심 운동으로부터 컷오프 주파수를 측정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 방법
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