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비선형 결정의 자발 매개 하향 변환으로 광자 쌍을 생성하고, 상기 광자 쌍을 제1 편광의 아이들러 광자 및 제2 편광의 시그널 광자로 분리하는 광원; 상기 시그널 광자를 상기 제1 편광으로 정렬하고 공간 광 변조기의 패턴으로 변조하여 표적으로 보내는 시그널 처리부; 상기 아이들러 광자 및 상기 표적과 상호작용한 후 포집되는 시그널 광자를 동시 측정하여 이미지를 획득하는 신호 검출부; 및상기 공간 광 변조기로부터 상기 표적으로 보내지는 시그널 광자의 광 경로상에서 상기 표적의 앞에 위치하는 반파장판 및 편광 빔 가르개, 그리고 상기 시그널 광자와 상관없는 레이저를 발진하는 레이저 발진기를 포함하는 환경 구현부를 포함하고,상기 반파장판은 상기 표적으로 보내지는 시그널 광자의 손실을 모사하고, 상기 레이저 발진기에서 발진된 레이저는 상기 편광 빔 가르개에 의해 시그널 광자와 동일한 경로로 진행하여 외부 잡음을 모사하는 양자 광을 이용한 단일 픽셀 이미징 장치
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제1 항에 있어서,상기 광자 쌍은 상기 자발 매개 하향 변환에 의해 시간 상관을 가지며, 상기 아이들러 광자와 상기 시그널 광자의 동시 측정으로 잡음이 제거되는 양자 광을 이용한 단일 픽셀 이미징 장치
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제1 항에 있어서,상기 광원은,연속파 레이저가 입사되는 광섬유 커플러;상기 연속파 레이저의 파장을 수평 방향으로 조절하여 수평편광이 상기 비선형 결정에 입사되도록 하는 1/4 파장판과 반파장판;상기 비선형 결정을 투과한 연속파 레이저를 반사하고 상기 광자 쌍을 투과시키는 다이크로익 미러; 및상기 광자 쌍을 상기 제1 편광 및 상기 제2 편광으로 분리하는 편광 빔 가르개를 포함하는 양자 광을 이용한 단일 픽셀 이미징 장치
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제3 항에 있어서,상기 광원은, 상기 비선형 결정의 온도를 조절하여 상기 광자 쌍이 상기 연속파 레이저의 입사 광자와 동일한 경로로 이동하는 공선 조건을 맞추는 온도 제어기를 더 포함하는 양자 광을 이용한 단일 픽셀 이미징 장치
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제3 항에 있어서,상기 광원은,상기 광자 쌍만을 투과시켜 상기 편광 빔 가르개에 보내는 광 필터를 더 포함하는 양자 광을 이용한 단일 픽셀 이미징 장치
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제1 항에 있어서,상기 시그널 처리부는,상기 제2 편광의 시그널 광자를 상기 제1 편광으로 정렬하여 상기 공간 광 변조기에 입사시키는 1/4 파장판과 반파장판; 및상기 공간 광 변조기를 통해 나오는 빛의 편광 방향이 바뀐 부분을 걸러 빛의 공간적인 형태를 상기 공간 광 변조기의 패턴과 동일하게 만드는 편광 빔 가르개를 포함하는 양자 광을 이용한 단일 픽셀 이미징 장치
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제6 항에 있어서,상기 시그널 처리부는,상기 공간 광 변조기의 크기에 맞게 상기 공간 광 변조기에 입사되는 상기 시그널 광자의 빔 폭을 조절하고, 상기 공간 광 변조기의 패턴을 갖는 시그널 광자의 빔 폭을 조절하는 복수의 렌즈를 더 포함하는 양자 광을 이용한 단일 픽셀 이미징 장치
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제1 항에 있어서,상기 신호 검출부는,상기 아이들러 광자가 전달되는 단일 모드 광섬유에 연결되어 있는 제1 단일 광자 검출기;상기 시그널 광자를 포집하기 위한 다중 모드 광섬유; 및상기 다중 모드 광섬유에 연결되어 있는 제2 단일 광자 검출기를 포함하는 양자 광을 이용한 단일 픽셀 이미징 장치
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제8 항에 있어서,상기 신호 검출부는,상기 시그널 광자가 상기 다중 모드 광섬유에 커플링될 수 있도록 상기 시그널 광자의 빔 폭을 원래대로 줄이는 렌즈부를 더 포함하는 양자 광을 이용한 단일 픽셀 이미징 장치
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