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질소 산화물을 포함하는 가스가 주입되는 주입부; 고전압 전극; 접지 전극; 상기 고전압 전극과 접지 전극 사이에 형성되는 플라즈마 발생부; 및 가스 배출부를 포함하는 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 반응기를 포함하고,상기 플라즈마 발생부는 고전압 전극과 접지 전극 사이에 흡착제를 포함하는 흡착부; 및 접지 전극이 나사선 형태를 가지는 나사선부;를 포함하는 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응기는 고전압 전극과 접지 전극 사이에 형성된 유전체를 포함하는 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템
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제2항에 있어서,상기 나사선부는 유전체와 접촉된 것을 특징으로 하는 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템
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제1항에 있어서,상기 흡착부는 주입부 측으로 형성되고, 상기 나사선부는 흡착부 후단에 연장되어 형성된 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 시스템은,질소 산화물을 포함하는 가스를 전처리하기 위한 전처리부를 포함하고,상기 전처리부는,질소 산화물을 포함하는 가스가 주입되는 처리대상 가스 주입부; 산소 주입부를 포함하는 오존 발생기; 및상기 처리대상 가스 주입부 및 오존 발생기로부터 가스가 주입되어 혼합 처리하는 혼합 반응기;를 포함하는 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 시스템은 플라즈마 반응기를 냉각시키기 위한 냉각부를 포함하는 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템
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제6항에 있어서,상기 냉각부는 흡착제부는 냉각시키지 않고, 나사선부를 냉각시키는 것을 특징으로 하는 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응기는 반응기 내 질소를 주입하기 위한 질소 주입부를 포함하는 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 시스템은,상기 플라즈마 반응기; 및적어도 1개 이상의 플라즈마 방전이 수행되는 반응기를 더 포함하고,적어도 1개 이상의 반응기는 병렬로 연결되어 밸브를 통해 질소 산화물을 포함하는 가스가 주입되는 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템
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제1항의 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템을 준비하여, 플라즈마 반응기의 주입부로 질소 산화물을 포함하는 가스를 투입하는 단계; 및상기 플라즈마 반응기 내로 주입된 가스의 질소 산화물을 제거하는 단계;를 포함하는 질소 산화물 제거방법
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제10항에 있어서,상기 플라즈마 반응기 내로 주입된 가스의 질소 산화물은 흡착부에서 흡착되고, 나사선부에서 플라즈마 방전을 통해 발생하는 열로 제거되는 질소 산화물 제거방법
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제10항에 있어서,상기 플라즈마 반응기 내로 주입된 가스는 흡착부에서 질소 산화물이 흡착되면 질소를 주입하여 산소가 없는 조건으로 형성하여 흡착된 질소 산화물을 분해하는 질소 산화물 제거방법
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제5항의 질소 산화물을 제거하기 위한 플라즈마 시스템을 준비하여, 처리대상 가스 주입부로 질소 산화물을 포함하는 가스를 주입하여 전처리하는 단계;플라즈마 반응기의 주입부로 전처리된 가스를 투입하는 단계; 및상기 플라즈마 반응기 내로 주입된 전처리된 가스의 질소 산화물을 제거하는 단계;를 포함하는 질소 산화물 제거방법
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제13항에 있어서,상기 전처리된 가스는 질소 산화물 중 일산화질소가 제거되고, 이산화질소를 포함하는 것인 질소 산화물 제거방법
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