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내부에서 데토네이션이 발생하는 챔버;상기 챔버의 일측에 연결되고 폭연을 데토네이션으로 변환시키는 데토네이션 유도기;상기 데토네이션 유도기에 연결되고, 산화제 및 가연성 가스가 유입되어 혼합되는 혼합 장치; 및상기 산화제 및 상기 가연성 가스가 상기 혼합 장치에 유입되는 유량을 실시간으로 제어할 수 있는 유량 제어 장치를 포함하는 데토네이션 장치
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제 1 항에 있어서,상기 산화제 및 상기 가연성 가스가 서로 마주보는 방향으로 유입되어 혼합되고, 상기 산화제 및 상기 가연성 가스가 혼합된 혼합 기체가 일 방향으로 이동하여 상기 데토네이션 유도기로 유입되는 것을 특징으로 하는 데토네이션 장치
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제 2 항에 있어서,상기 데토네이션 유도기는,상기 데토네이션 유도기 내부의 기체를 점화시키는 점화기;상기 챔버 및 상기 혼합 장치에 연통하는 하우징; 및상기 하우징 내에 배치되고, 연소 충격파를 중첩시키는 코일을 포함하는 데토네이션 장치
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제 2 항에 있어서,상기 혼합 장치는,상기 데토네이션 유도기의 중심 축으로부터 멀어지는 쪽으로 연장되고, 상기 혼합 장치의 내부에서, 상기 혼합 기체의 흐름은 상기 데토네이션 유도기로부터 먼 일측 단부에서 상기 데토네이션 유도기에 가까운 타측 단부 쪽으로 형성되는 것을 특징으로 하는 데토네이션 장치
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제 2 항에 있어서,상기 혼합 장치는,상기 일 방향으로 길게 형성된 혼합관;상기 데토네이션 유도기로부터 먼 일측에 형성된 제 1 노즐; 및상기 제 1 노즐 및 상기 데토네이션 유도기 사이에 형성된 제 2 노즐을 포함하는 데토네이션 장치
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제 5 항에 있어서,상기 제 1 노즐의 직경은,상기 제 2 노즐의 직경보다 큰 것을 특징으로 하는 데토네이션 장치
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제 5 항에 있어서,상기 제 1 노즐 및 상기 제 2 노즐의 분사 방향은 서로 마주보는 것을 특징으로 하는 데토네이션 장치
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제 5 항에 있어서,상기 혼합 기체는,상기 제 1 노즐의 분사 방향으로 이동하여 상기 데토네이션 유도기로 유입되는 것을 특징으로 하는 데토네이션 장치
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제 5 항에 있어서,상기 가연성 가스 및 상기 산화제는,상기 제 1 노즐 및 상기 제 2 노즐 사이의 상기 혼합관 내의 공간에서 혼합되는 것을 특징으로 하는 데토네이션 장치
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제 5 항에 있어서,상기 제 1 노즐로부터 상기 제 2 노즐까지의 거리는, 상기 제 2 노즐로부터 상기 데토네이션 유도기까지의 거리의 1
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11
제 2 항에 있어서,상기 챔버는,상기 챔버의 내부 공간을 분할하는 격막을 포함하는 데토네이션 장치
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제 2 항에 있어서,상기 혼합 장치는,상기 혼합 기체가 상기 혼합 장치로부터 상기 데토네이션 유도기를 향하여 흐를 때 개방되는 역류 방지 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 데토네이션 장치
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13
제 2 항에 있어서,상기 혼합 장치와 상기 데토네이션 유도기는 서로 공간이 분리되어 있어서, 각각 상이한 압력을 가질 수 있는 것을 특징으로 하는 데토네이션 장치
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내부에서 데토네이션이 발생하는 챔버;상기 챔버의 일측에 연결되고 폭연을 데토네이션으로 변환시키는 데토네이션 유도기; 및가연성 가스가 분사되는 제 1 노즐 및 산화제가 분사되는 제 2 노즐을 포함하는 혼합 장치를 포함하고,상기 산화제 및 상기 가연성 가스가 서로 마주보는 방향으로 유입되어 혼합되고, 상기 산화제 및 상기 가연성 가스가 혼합된 혼합 기체가 일 방향으로 이동하여 상기 데토네이션 유도기로 유입되는 것을 특징으로 하는 데토네이션 장치
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제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 기재된 데토네이션 장치를 이용한 충격파 관에 있어서, 상기 챔버의 타측에 위치하며, 연료 또는 금속의 시료를 거치하기 위한 시료 거치대를 더 포함하는 데토네이션 장치를 이용한 충격파 관
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제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 기재된 데토네이션 장치를 이용한 충격파 터널에 있어서,상기 챔버의 타측에 위치하며, 충격파를 토출시키기 위한 토출 노즐을 더 포함하는 데토네이션 장치를 이용한 충격파 터널
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