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타공판 형상의 고전압 전극;상기 고전압 전극과 이격되어 마주하며 위치하는 타공판 형상의 접지 전극;상기 고전압 전극 및 접지 전극 사이에 위치하고 수분을 함유하는, 촉매활성 금속이 담지된 모노리스 담체; 및상기 고전압 전극에 교류 전압을 인가하는 전원공급부;를 포함하고, 상기 전원공급부에 의해 고전압 전극에 전압이 인가되어 코로나 방전에 의해 모노리스 담체 내부에 플라즈마를 생성시키고, 유해가스가 상기 플라즈마 영역으로 도입되어 배출되는 것을 특징으로 하는 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기
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타공판 형상의 고전압 전극;상기 고전압 전극과 이격되어 마주하며 위치하는 타공판 형상의 접지 전극;상기 고전압 전극 및 접지 전극 사이에 위치하고 촉매활성 금속이 담지된 모노리스 담체; 상기 고전압 전극과 모노리스 담체 사이에 배치되어 아크 발생을 방지하는 모노리스 가드부; 및상기 고전압 전극에 전압을 인가하는 전원공급부;를 포함하고, 상기 전원공급부에 의해 고전압 전극에 전압이 인가되어 코로나 방전에 의해 모노리스 담체 내부에 플라즈마를 생성시키고, 유해가스가 상기 플라즈마 영역으로 도입되어 배출되는 것을 특징으로 하는 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기
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타공판 형상의 고전압 전극;상기 고전압 전극과 이격되어 마주하며 위치하는 타공판 형상의 접지 전극;상기 고전압 전극 및 접지 전극 사이에 위치하고 촉매활성 금속이 담지된 모노리스 담체; 및상기 고전압 전극에 양(+)극성 직류 전압을 인가하는 전원공급부;를 포함하고, 상기 전원공급부에 의해 고전압 전극에 전압이 인가되어 코로나 방전에 의해 모노리스 담체 내부에 플라즈마를 생성시키고, 유해가스가 상기 플라즈마 영역으로 도입되어 배출되는 것을 특징으로 하는 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 모노리스 담체는 폭이 9 cm 이상 및/또는 높이가 5 cm 이상인 것을 특징으로 하는 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기
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제2항에 있어서,상기 모노리스 가드부는 전기저항이 16 MΩ 이상인 모노리스인 것을 특징으로 하는 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 접지 전극은 모노리스 담체로부터 2 mm 이하로 이격되어 있고, 유해가스가 배출되는 모노리스 담체 후방에 위치하는 것을 특징으로 하는 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 고전압 전극은 모노리스 담체로부터 1 mm ~ 10 mm로 이격되어 있고, 유해가스가 도입되는 모노리스 담체 전방에 위치하는 것을 특징으로 하는 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 모노리스 담체는 허니컴 형상인 것을 특징으로 하는 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 유해가스는 휘발성 유기화합물, 질소계 화합물, 황산화물, 불소 화합물, 염소 화합물, 시안 화합물, 일산화탄소, 이산화탄소 및 다이옥신으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상이며, 상기 유해가스에는 수분이 함유된 것을 특징으로 하는 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 플라즈마 촉매 반응기는 두개 이상의 모노리스 담체가 직렬로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 유해가스 제거용 플라즈마 촉매 반응기를 이용하여 유해가스를 처리하되, 상기 유해가스 내의 상대습도는 100 vol% 미만인 것을 특징으로 하는 유해가스 처리 방법
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