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배아 타액선 배양용 플레이트 코팅방법 및 타액선 배양용 플레이트

  • 기술번호 : KST2022002045
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 의한 원포트 코팅법을 통한 히알유론산의 코팅 및 타액선 조직재생 플랫폼은 히알유론산과 도파민을 이용하여 한 번에 코팅이 가능한 원-포트 히알유론산 코팅 방법 및 타액선 배양 방법을 개시한다.
Int. CL C12M 3/00 (2006.01.01) C12M 1/12 (2006.01.01) C12N 5/071 (2010.01.01) A61P 1/02 (2006.01.01) A61K 35/24 (2015.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020210106737 (2021.08.12)
출원인 서울대학교산학협력단, 원광대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2022-0020794 (2022.02.21) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020200101052   |   2020.08.12
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.08.27)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
2 원광대학교산학협력단 대한민국 전라북도 익산시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박경표 서울특별시 용산구
2 이상우 서울특별시 성북구
3 류지현 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 허정훈 대한민국 서울특별시 강서구 마곡중앙*로 ** 이너매스, ****(다람특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.08.12 수리 (Accepted) 1-1-2021-0932475-30
2 [심사청구]심사청구서·우선심사신청서
2021.08.27 수리 (Accepted) 1-1-2021-0992128-08
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번호 청구항
1 1
1) 히알유론산과 도파민을 섞어 pH 8
2 2
제1항에 있어서,상기 히알유론산은 분자량이 1 kDa ~ 10 MDa인 것을 특징으로 하는 배아 타액선 배양용 플레이트 코팅방법
3 3
제1항에 있어서,상기 히알유론산은 분자량이 5 kDa ~ 1 MDa인 것을 특징으로 하는 배아 타액선 배양용 플레이트 코팅방법
4 4
제1항에 있어서,상기 히알유론산은 분자량이 40 kDa ~ 1 MDa인 것을 특징으로 하는 배아 타액선 배양용 플레이트 코팅방법
5 5
제1항에 있어서,상기 히알유론산은 분자량이 1 MDa ~ 10 MDa인 것을 특징으로 하는 배아 타액선 배양용 플레이트 코팅방법
6 6
제1항에 있어서,상기 코팅은 11 ~ 13시간동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 배아 타액선 배양용 플레이트 코팅방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 세척하는 단계는 3 내지 4회 진행되는 것을 특징으로 하는 배아 타액선 배양용 플레이트 코팅방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 도파민과 상기 히알유론산은 각각 1
9 9
제1항의 배아 타액선 배양용 플레이트 코팅방법에 의하여 제조된 타액선 배양용 플레이트
10 10
도파민과 히알유론산이 각각 1
11 11
제10항에 있어서,상기 조성물은 pH 8
12 12
제10항에 있어서,상기 히알유론산은 분자량이 1 kDa ~ 10 MDa인 것을 특징으로 하는 배아 타액선 배양 플레이트 코팅용 조성물
13 13
제10항에 있어서,상기 히알유론산은 분자량이 5 kDa ~ 1 MDa인 것을 특징으로 하는 배아 타액선 배양 플레이트 코팅용 조성물
14 14
제10항에 있어서,상기 히알유론산은 분자량이 40 kDa ~ 1 MDa인 것을 특징으로 하는 배아 타액선 배양 플레이트 코팅용 조성물
15 15
제10항에 있어서,상기 히알유론산은 분자량이 1 MDa ~ 10 MDa인 것을 특징으로 하는 배아 타액선 배양 플레이트 코팅용 조성물
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 서울대학교 개인기초연구(과기정통부)(R&D) Organotypic 배양 모델을 이용한 타액-외분비선 발생 및 재생에 관한 연구