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인쇄패턴에 대응되는 형태의 관통홀이 형성되고,하면에는 기판과 밀착력을 감소시키는 미세패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴이 형성된 인쇄 공정용 스텐실
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제1항에 따른 인쇄 공정용 스텐실 제조방법에 있어서,유리기판 상면에 인쇄패턴에 대응되는 형태의 제1크롬패턴과 투명전극층이 적층 형성된 노광 공정용 기판을 준비하는 제1단계;상기 노광 공정용 기판의 투명전극층 위에 밀착력 감소용 감광제패턴을 제작하는 제2단계;상기 밀착력 감소용 감광제패턴을 이용하여 스텐실용 감광제패턴을 제작하는 제3단계; 및상기 스텐실용 감광제패턴을 이용하여 스텐실을 제작하는 제4단계;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 패턴이 형성된 인쇄 공정용 스텐실 제조방법
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제2항에 있어서,상기 노광 공정용 기판을 준비하는 제1단계는,유리기판 상면에 인쇄패턴에 대응하도록 제1a크롬패턴이 형성된 제1a포토마스크를 형성시키는 제1-1(a)단계;상기 제1a포토마스크 상면에 투명전극층을 형성시키는 제1-2(a)단계;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 패턴이 형성된 인쇄 공정용 스텐실 제조방법
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제2항에 있어서,상기 노광 공정용 기판을 준비하는 제1단계는,유리기판에 투명전극층 및 크롬층을 차례로 형성시키고, 상기 크롬층 위에 감광제를 도포하는 제1-1(b)단계;인쇄패턴에 대응하도록 제1크롬패턴이 형성된 제1b포토마스크를 상기 제1-1(b)단계의 감광제 상단에 배치하고, 자외선 조사 및 현상 공정을 통해 제1감광제패턴을 형성시키는 제1-2(b)단계;상기 제1감광제패턴을 마스크로 하여 상기 크롬층을 식각하여 제1크롬패턴을 형성시키는 제1-3(b)단계;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 패턴이 형성된 인쇄 공정용 스텐실 제조방법
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제2항에 있어서,상기 밀착력 감소용 감광제패턴을 제작하는 제2단계는,유리기판에 제2크롬패턴이 형성된 제2포토마스크를 형성시키는 제2-1(a)단계;상기 노광 공정용 기판 상단에 감광제를 도포하고, 상기 제2포토마스크를 배치하여 자외선 조사 및 현상 공정을 통해 제2감광제패턴을 형성시키는 제2-2(a)단계;상기 제2감광제패턴을 열처리하여 밀착력 감소용 마이크로 감광제패턴을 형성시키는 제2-3(a)단계;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 패턴이 형성된 인쇄 공정용 스텐실 제조방법
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제2항에 있어서,상기 밀착력 감소용 감광제패턴을 제작하는 제2단계는,유리기판에 제2크롬패턴이 형성된 제2포토마스크를 형성시키는 제2-1(b)단계;감광제가 도포된 기판 상단에 상기 제2포토마스크를 배치하여 자외선 조사 및 현상 공정을 통해 제2감광제패턴이 형성된 위상마스크 제작용 기판을 제작하는 제2-2(b)단계;상기 위상마스크 제작용 기판의 상기 제2감광제패턴 위에 투명한 액상의 고분자를 부어 경화시킨 후 분리하여 위상마스크를 제작하는 제2-3(b)단계;상기 노광 공정용 기판 상단에 상기 위상마스크를 배치하여 자외선 조사 및 현상 공정을 통해 제3감광제패턴을 형성시키는 제2-4(b)단계;상기 제3감광제패턴을 열처리하여 밀착력 감소용 나노 감광제패턴을 형성시키는 제2-5(b)단계;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 패턴이 형성된 인쇄 공정용 스텐실 제조방법
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제2항에 있어서,상기 스텐실용 패턴을 제작하는 제3단계는,상기 노광 공정용 기판에 형성된 밀착력 감소용 감광제패턴의 상단에 감광제를 도포하는 제3-1단계;상기 노광 공정용 기판의 하면에서 자외선을 조사하는 현상 공정을 통해 스텐실용 감광제패턴을 형성시키는 제3-2단계;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 패턴이 형성된 인쇄 공정용 스텐실 제조방법
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제2항에 있어서,상기 스텐실을 제작하는 제4단계는,상기 스텐실용 감광제패턴 위에 금속 전주 도금공정을 수행하여 상기 투명전극층으로부터 금속도금층을 형성시켜 스텐실을 제작하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴이 형성된 인쇄 공정용 스텐실 제조방법
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