| 1 |
1
페로브스카이트 구조 결정; 및상기 페로브스카이트 구조 결정의 입계에 형성된 루이스 염기 결정;을 포함하는, 부동화된 결정입계를 갖는 페로브스카이트 박막
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서,상기 루이스 염기는 N, O 및 S에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 전자주개 원소를 포함하는 화합물인 것을 특징으로 하는, 부동화된 결정입계를 갖는 페로브스카이트 박막
|
| 3 |
3
제 2항에 있어서,상기 루이스 염기는 pKa 값이 8 이상인 것을 특징으로 하는, 부동화된 결정입계를 갖는 페로브스카이트 박막
|
| 4 |
4
제 1항에 있어서,상기 루이스 염기는 피페라진, 모르폴린, 4-디메틸아미노피리딘, 피페리딘, 1-메틸피페리딘, 피롤리딘, 1-메틸피롤리딘, 디에틸아민, 트리에틸아민, 테트라메틸에틸렌디아민 및 메틸-4-피리딘메틸아민에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인, 부동화된 결정입계를 갖는 페로브스카이트 박막
|
| 5 |
5
제 1항에 있어서,상기 페로브스카이트 구조 결정은 하기 화학식 1을 만족하는 화합물 및 하기 화학식 2를 만족하는 금속할로겐화물을 포함하는 페로브스카이트 전구체 용액을 열처리하여 형성된 것을 특징으로 하는, 부동화된 결정입계를 갖는 페로브스카이트 박막
|
| 6 |
6
제 5항에 있어서,상기 화학식 1의 A는 하기 화학식 3 또는 화학식 4로 표시되는 화합물인, 부동화된 결정입계를 갖는 페로브스카이트 박막
|
| 7 |
7
기판에 페로브스카이트 전구체 용액을 도포 및 1차 열처리하여 페로브스카이트 구조 결정을 형성하는 단계; 및상기 페로브스카이트 구조 결정에 루이스 염기용액을 도포 및 2차 열처리하여 상기 페로브스카이트 구조 결정 입계에 루이스 염기 결정을 형성시키는 단계;를 포함하는, 부동화된 결정입계를 갖는 페로브스카이트 박막의 제조방법
|
| 8 |
8
제 7항에 있어서,상기 루이스 염기용액은 pKa값이 8 이상인 루이스 염기를 포함하는 것을 특징으로 하는, 부동화된 결정입계를 갖는 페로브스카이트 박막의 제조방법
|
| 9 |
9
제 8항에 있어서,상기 루이스 염기는 피페라진, 모르폴린, 4-디메틸아미노피리딘, 피페리딘, 1-메틸피페리딘, 피롤리딘, 1-메틸피롤리딘, 디에틸아민, 트리에틸아민, 테트라메틸에틸렌디아민 및 메틸-4-피리딘메틸아민에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 것을 특징으로 하는, 부동화된 결정입계를 갖는 페로브스카이트 박막의 제조방법
|
| 10 |
10
제 7항에 있어서,상기 1차 열처리는 50 내지 300℃의 온도에서 수행되며, 2차 열처리는 50 내지 150℃의 온도에서 수행되는, 페로브스카이트 박막의 제조방법
|
| 11 |
11
제 1항 내지 7항에서 선택되는 어느 한 항의 페로브스카이트 박막을 포함하는 전자 소자
|
| 12 |
12
제 11항에 있어서, 상기 전자 소자는 페로브스카이트 태양전지인 전자
|
