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가공된 임플란트를 아민계 단량체를 이용하여 플라즈마 코팅하도록 형성된 플라즈마 코팅유닛;과상기 임플란트를 플라즈마 코팅 시 상기 임플란트를 고정하도록 형성된 임플란트 고정유닛;을 구비하고상기 플라즈마 코팅유닛은 상압고온으로 아민플라즈마 코팅하는 것을 특징으로 하는,치과용 임플란트 기능성 표면처리를 위한 상압저온 플라즈마 코팅장치
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 코팅유닛에 공급되는 단량체는 아민계의 디아미노사이클로헥산(DACH, Diaminocyclohexane)를 사용하는 것으로 특징으로 하는,치과용 임플란트 기능성 표면처리를 위한 상압저온 플라즈마 코팅장치
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제2항에 있어서, 상기 고정유닛은 상기 임플란트를 플라즈마 코팅 시 임플란트를 고정하도록 형성된 내부에 수용공간이 형성되고, 다수개의 임플란트가 삽입되어 고정되도록 형성되는 특징으로 하는,치과용 임플란트 기능성 표면처리를 위한 상압저온 플라즈마 코팅장치
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제3항에 있어서, 상기 고정유닛은 상기 임플란트가 고정되는 고정부가 마련된 제1프레임과,상기 고정부에 대향되도록 상기 제1프레임에 좌우방향으로 슬라이딩 가능하게 형성되고, 상기 플라즈마 코팅유닛이 설치되는 제2프레임이 구비되는 것을 특징으로 하는,치과용 임플란트 기능성 표면처리를 위한 상압저온 플라즈마 코팅장치
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제3항에 있어서,상기 플라즈마 코팅유닛으로 플라즈마 가스를 공급하는 가스공급유닛;을 구비되는 것을 특징으로 하는,치과용 임플란트 기능성 표면처리를 위한 상압저온 플라즈마 코팅장치
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제5항에 있어서,상기 플라즈마 가스에 의해 상기 플라즈마 반응관에서 플라즈마가 발생하도록 상기 플라즈마 반응관에 고전압을 인가하는 전원유닛;을 구비하고상기 플라즈마 코팅유닛은 상기 가스공급유닛으로부터 상기 플라즈마 가스가 공급되고, 상하 연통되도록 형성된 중공을 갖는 플라즈마 반응관과,상기 플라즈마 반응관에 상기 단량체를 공급하도록 형성된 단량체 공급부를 구비되는 것을 특징으로 하는,치과용 임플란트 기능성 표면처리를 위한 상압저온 플라즈마 코팅장치
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제6항에 있어서,상기 단량체 공급부는 상기 가스공급유닛에서 공급되는 플라즈마 가스와 소정비율로 단량체를 혼합하여 상기 플라즈마 반응관으로 공급하도록 구비되는 것을 특징으로 하는,치과용 임플란트 기능성 표면처리를 위한 상압저온 플라즈마 코팅장치
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제7항에 있어서,상기 전원유닛은 상기 플라즈마 반응관의 단부에 설치되어 전원을 인가하는 제1전극부와,상기 플라즈마 반응관의 단부에 대해 소정거리 이격되어 설치되어 상기 임플란트에 전원을 인가하는 제2전극부를 구비되는 것을 특징으로 하는,치과용 임플란트 기능성 표면처리를 위한 상압저온 플라즈마 코팅장치
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제8항에 있어서,상기 제1전극부는 상기 플라즈마 반응관의 감싸도록 형성된 것을 특징으로 하는,치과용 임플란트 기능성 표면처리를 위한 상압저온 플라즈마 코팅장치
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제4항에 있어서,상기 고정유닛은 상기 제2프레임이 좌우방향으로 이동시키는 이동부를 더 구비하고,상기 이동부는 리니어 모터로 형성된 것을 특징으로 하는,치과용 임플란트 기능성 표면처리를 위한 상압저온 플라즈마 코팅장치
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