| 1 |
1
(a) 산화 철(Fe3O4) 분말을 포함하는 세라믹 필러, 희석제 및 무기 나노졸을 혼합하여 액상 세라믹 충전제를 제조하는 단계;(b) 기판의 적어도 일면에 상기 액상 세라믹 충전제를 도포하는 단계; 및 (c) 상기 기판을 건조시키는 경화처리를 하여 코팅막을 제조하는 단계; 를 포함하는, 고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 액상 세라믹 충전제는 세라믹 필러 10내지50 중량%, 희석제 10내지30중량% 및 무기 나노졸 20내지80중량%을 혼합하여 제조되는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 산화 철(Fe3O4) 함량은 세라믹 필러 함량 기준으로 20 내지 60 중량%인,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 4 |
4
제 3 항에 있어서, 상기 산화 철(Fe3O4) 함량은 세라믹 필러 함량 기준으로 30 내지 50 중량%인,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계는,세라믹 필러, 희석제 및 무기 나노졸을 동시에 혼합하거나, 세라믹 필러 및 희석제를 혼합한 용액에 무기 나노졸을 첨가 혼합하는, 고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 6 |
6
제 1 항에 있어서,상기 세라믹 필러는,분말 형태의 티탄산바륨(BaTiO3), 알루미나(Al2O3) 지르코니아(ZrO2), 탄화규소(SiC), 진주(pearl) 및 이의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 7 |
7
제 1 항에 있어서,상기 세라믹 필러는,500 내지 1500nm의 입자크기를 가지는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 8 |
8
제 1 항에 있어서,상기 액상 세라믹 충전제는 볼 밀 공정에 의해 혼합된,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 9 |
9
제 1 항에 있어서,상기 희석제는 증류수 또는 알코올인,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 10 |
10
제 9 항에 있어서,상기 알코올은 IPA 혹은 n-butanol인,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 11 |
11
제 1 항에 있어서,상기 무기나노졸은 실리카 졸(silica sol) 또는 실리카 하이브리드졸(silica-hybrid sol)인,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 12 |
12
제1 항에 있어서,상기 (b) 단계는,브러쉬 코팅(Brush coating), 스핀 코팅(Spin coating), 스프레이 코팅(Spray coating) 및 딥 코팅(dip coating)으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 수행되는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 13 |
13
제 1 항에 있어서,상기 무기나노졸은 알콕시 실란에 용매를 첨가하고 교반하여 얻어지고, 상기 알콕시 실란은 메틸트리메톡시실란(methyltrimethoxysilane), 메틸트리클로로실란(methyltrichlorosilane), 에틸트리메톡시실란(ethyltrimethoxysilane), 에틸트리에톡시실란(ethyltriethoxysilane), 페닐트리메톡시실란(phenyltrimethoxysilane), 페닐트리클로로실란(phenyltrichlorosilane), 페닐아미노프로필트리메톡시실란(phenylaminopropyltrimethoxysilane), 옥틸트리메톡시실란(octyltrimethoxysilane), 옥틸트리클로로실란(octyltrichlorosilane), 옥타데실트리메톡시실란(octadecyltrimethoxysilane), 옥타데실트리클로로실란(octadecyltrichlorosilane), 프로필트리메톡시실란(propyltrimethoxysilane), n-프로필트리에톡시실란(n-propyltriethoxysilane), 이소프로필트리에톡시실란(isopropyltriethoxysilane), 이소부틸트리메톡시실란(isobutyltrimethoxysilane), 비닐트리에틸옥시실란(vinyltriethyloxysilane), 비닐트리메톡시실란(vinyltrimethoxysilane) 및 알릴트리메톡시실란(allyltrimethoxysilane)으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 14 |
14
제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계는 20℃ 내지 200℃의 온도범위에서 2 내지 24시간 동안 수행되는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 15 |
15
제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계 이후에, (d) 기판의 표면에 잔류하는 불순물을 제거하는 단계;를 더 포함하는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 16 |
16
제 1 항에 있어서,상기 기판은 알루미늄, 강판, 티타늄, 구리 또는 스테인리스 합금 재질로 형성되는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 17 |
17
제 1 항에 있어서,(b) 단계 이전에 상기 기판을 표면처리하는 단계를 더 포함하는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 18 |
18
제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계 이후에, (d') 실란 용액을 희석제에 분산시켜 발수성 용액을 제조하는 단계;(e) 상기 경화처리가 완료된 코팅막의 적어도 일면에 상기 발수성 용액을 도포하는 단계; 및 (f) 상기 발수성 용액이 도포된 코팅막을 건조시키는 경화처리를 하여 발수 코팅막을 제조하는 단계;를 포함하는, 고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 19 |
19
제 18 항에 있어서,상기 발수성 용액은 상기 실란 용액10 내지30 중량% 및 상기 희석제 70 내지 90중량%를 혼합하여 제조되는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 20 |
20
제 18 항에 있어서,상기 실란 용액은,hexadecyltrimethoxysilane(HDTMS), methyltriethoxysilane(MTES), phenyl triethoxysilane (PhTES), diethoxy(3-glycidyloxypropyl)methylsilane (GPTMS), tetraethylorthosilicate(TEOS), 및 octal triethoxysilane(OTES)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 21 |
21
제 18 항에 있어서,상기 희석제는 증류수 또는 알코올인,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 22 |
22
제 18 항에 있어서,상기 (e) 단계는,브러쉬 코팅(Brush coating), 스핀 코팅(Spin coating), 스프레이 코팅(Spray coating) 및 딥 코팅(dip coating)으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 수행되는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 23 |
23
제 18 항에 있어서,상기 (f) 단계는 80℃ 내지 130℃의 온도범위에서 0
|
| 24 |
24
제 18 항에 있어서,상기 (f) 단계 이후에, (g) 표면에 잔류하는 불순물을 제거하는 단계;를 더 포함하는,고내열성 코팅막의 제조방법
|
| 25 |
25
제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 방법에 의해 제조되고,기판의 적어도 일면에 형성되고, 산화 철(Fe3O4) 분말을 포함하는,고내열성 코팅막
|
| 26 |
26
제 25 항에 있어서,상기 코팅막의 내열 온도는 900℃ 내지 1000 ℃인,고내열성 코팅막
|
| 27 |
27
제 25 항에 있어서,상기 코팅막의 두께는 15 내지 100㎛인, 고내열성 코팅막
|
| 28 |
28
제 25 항에 있어서,상기 코팅막의 평균 입자크기는 500 내지 1500nm인,고내열성 코팅막
|
| 29 |
29
제 25 항에 있어서,상기 기판은 알루미늄, 강판, 티타늄, 구리 또는 스테인리스 합금 재질로 이루어지는,고내열성 코팅막
|
| 30 |
30
제 18 항 내지 제 24 항 중 어느 한 방법에 의해 제조된 발수 코팅막을 포함하는,고내열성 코팅막
|
| 31 |
31
제 30 항에 있어서,상기 발수 코팅막의 두께는 0
|
