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(a) 하기 화학식 1로서 표시되는 화합물 및 유기리튬 시약을 제 1 플로우 튜브 반응기에 주입하여 반응시킴으로써 제 1 중간 생성물을 수득하는 것; 및(b) 상기 제 1 중간 생성물 및 TsCN을 제 2 플로우 튜브 반응기에 주입하여 반응시킴으로써 제 2 중간 생성물을 수득하는 것을 포함하는, 연속 흐름 공정; 및(c) 상기 제 2 중간 생성물을 R2-B(OH)2와 위치선택적 스즈키-미아우라 커플링 반응시킴으로써 하기 화학식 2로서 표시되는 밀리논 유도체를 수득하는 것을 포함하는, 밀리논 유도체의 제조방법:[화학식 1];[화학식 2];상기 화학식 1 및 상기 화학식 2에서,R1은 수소; 또는 선형 또는 분지형의 C1-6 알킬기이고,R2는 할로젠기, 치환 또는 비치환된 C6-10 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C3-10 헤테로아릴기이며,상기 C6-10 아릴기 또는 C3-10 헤테로아릴기가 치환되는 경우, 선형 또는 분지형의 C1-6 알킬기, 선형 또는 분지형의 C1-6 알콕시기, 및 C3-10 시클로알킬기 중에서 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환되는 것이고,상기 C3-10 헤테로아릴기는 하나 이상의 N, O 또는 S를 헤테로 원소로서 포함하는 것임
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제 1 항에 있어서,상기 R2는 할로젠기, 피리디닐기, 티오페닐기, , , , 및 중에서 선택되는 것이며, 상기 Ra 및 Rb는, 각각 독립적으로, 선형 또는 분지형의 C1-3 알킬기, 또는 할로젠기 중에서 선택되는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 유기리튬 시약은 메틸리튬, n-부틸리튬, sec-부틸리튬, t-부틸리튬, n-헥실리튬, 2-에틸헥실리튬, 아이소프로필마그네슘·리튬클로라이드, 또는 n-옥틸리튬 중에서 선택되는 하나 이상인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 유기리튬 시약은 0
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제 1 항에 있어서,상기 (c)는 Pd-함유 촉매 존재 하에서 수행되는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c)는 염기 화합물 존재 하에서 수행되는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 염기 화합물은 Na2CO3, K2CO3, KOtBu, Cs2CO3, K3PO4, NaOH 및 NEt3 중에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c)는 알코올, 톨루엔, 및 물 중에서 선택되는 하나 이상의 용매 존재 하에서 수행되는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 화학식 1로서 표시되는 화합물의 주입 유속은 7 mL/분 내지 9 mL/분이고, 상기 유기리튬 시약의 주입 유속은 1 mL/분 내지 3 mL/분이고, 상기 TsCN의 주입 유속은 0
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제 1 항에 있어서,상기 (a)의 반응 시간은 1 초 내지 3 초이고, 상기 (b)의 반응 시간은 7 초 내지 9 초인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (a) 및 (b)의 반응 온도는, 각각 독립적으로, -80℃ 내지 0℃인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c)의 반응 온도는 30℃ 내지 120℃인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 (c)의 반응 시간은 10 분 내지 8 시간인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 플로우 튜브 반응기 및 상기 제 2 플로우 튜브 반응기의 내경은, 각각 독립적으로, 900 ㎛ 내지 1100 ㎛인 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c)는 염기 처리하는 것을 추가 포함하는 것인, 밀리논 유도체의 제조방법
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