1 |
1
직접용착적층장치(Direct Energy Deposition, DED)에 의한 면적층 방법으로서, 직접용착적층장치의 노즐의 제1 선형 이동에 의한 적층된 제1 비드열과 상기 제1 비드열을 오버랩하도록 구성된 직접용착적층장치의 노즐의 제2 선형 이동에 의한 제1 비드열을 일부 오버랩 적층된 제2 비드열을 형성하는 방법에서,제1 및 제2 비드열 사이에 기공 발생시, 피적층면이 이루는 경사 정도 크게함을 특징으로 하는,비드열과 비드열 사이에 기공이 없는 직접용착적층장치에 의한 면적층 방법
|
2 |
2
직접용착적층장치(Direct Energy Deposition, DED)에 의한 면적층 방법으로서, 직접용착적층장치의 노즐의 제1 선형 이동에 의한 적층된 제1 비드열과 상기 제1 비드열을 오버랩하도록 구성된 직접용착적층장치의 노즐의 제2 선형 이동에 의한 제1 비드열을 일부 오버랩 적층된 제2 비드열을 형성하는 방법에서,피적층면의 경사가 증가된 경우, 직접용착적층장치의 레이저 출력을 높임을 특징으로 하는,비드열과 비드열 사이에 기공이 없는 직접용착적층장치에 의한 면적층 방법
|
3 |
3
제2항에 있어서,상기 직접용착적층장치의 피적층면의 기울기가 평면인 경우의 제1 및 제2 비드열의 너비(w)와 상기 제1 및 제2 비드열을 오버랩 길이(a)에서, 상기 피적층면의 기울기(θ)의 cos(θ)가 (w-a)/w 보다 같거나 작으면 레이저의 강도를 높임을 특징으로 하는, 비드열과 비드열 사이에 기공이 없는 직접용착적층장치에 의한 면적층 방법
|
4 |
4
직접용착적층장치(Direct Energy Deposition, DED)에 의한 면적층 장치로서, 직접용착적층장치의 노즐의 제1 선형 이동에 의한 적층된 제1 비드열과 상기 제1 비드열을 오버랩하도록 구성된 직접용착적층장치의 노즐의 제2 선형 이동에 의한 제1 비드열을 일부 오버랩 적층된 제2 비드열을 형성하는 장치에서,비드열과 비드열 사이에 기공 발생을 확인하는 기공 여부 확인 수단; 및상기 기공 여부 확인 수단에 의한 기공 확인시, 피적층면이 이루는 경사 정도를 조절하는 경사면 제어수단을 포함하는, 비드열과 비드열 사이에 기공이 없는 직접용착적층장치에 의한 면적층 장치
|
5 |
5
직접용착적층장치(Direct Energy Deposition, DED)에 의한 면적층 방법로서, 직접용착적층장치의 노즐의 제1 선형 이동에 의한 적층된 제1 비드열과 상기 제1 비드열을 오버랩하도록 구성된 직접용착적층장치의 노즐의 제2 선형 이동에 의한 제1 비드열을 일부 오버랩 적층된 제2 비드열을 형성하는 장치에서,비드열과 비드열 사이에 기공 발생을 확인하는 기공 여부 확인 수단; 및상기 기공 여부 확인 수단에 의한 기공 확인시, 직접용착적층장치의 레이저 출력을 높이는 레이저 출력제어수단을 포함하는, 비드열과 비드열 사이에 기공이 없는 직접용착적층장치에 의한 면적층 장치
|
6 |
6
제5항에 있어서,상기 기공 여부 확인 수단은,상기 직접용착적층장치의 피적층면의 기울기가 평면인 경우의 설정된 제1 및 제2 비드열의 너비(w)와 상기 제1 및 제2 비드열을 오버랩 길이(a)에서, 상기 피적층면의 기울기(θ)의 cos(θ)가 (w-a)/w 보다 같거나 작은지를 판단하고, 같거나 작으면 레이저의 강도를 높이도록 구성된 제어부를 포함하는, 비드열과 비드열 사이에 기공이 없는 직접용착적층장치에 의한 면적층 장치
|