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구동 전압이 인가되는 전극;상기 전극을 감싸며 방전 공간을 형성하는 하우징; 및을 포함하고,상기 하우징은 플라즈마를 배출시키는 토출구와 상기 토출구와 연결되며 하부로 갈수록 외측으로 확장된 확장부를 포함하는 것을 특징으로 하는 스크러버
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제1 항에 있어서,상기 하우징에 하부에 고정 설치되며 아크를 회전시키는 자석을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스크러버
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제1 항에 있어서,상기 확장부의 하단에는 내측으로 돌출된 아크유지 돌기가 형성되며, 상기 아크유지 돌기는 상기 하우징의 둘레방향으로 이어져 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버
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제1 항에 있어서,상기 확장부의 내면은 상기 하우징의 중심축에 대하여 5도 내지 45도로 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버
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제1 항에 있어서,상기 확장부에서 상기 아크는 상기 하우징의 중심축에 대하여 경사지게 휘어지는 것을 특징으로 하는 스크러버
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6
제1 항에 있어서,상기 하우징은 상기 전극을 감싸는 전극 수용부와 상기 전극 수용부의 하부에 연결되며 하부로 갈수록 좁아지는 도입부와 상기 도입부와 상기 확장부를 연결하는 아크 통로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스크러버
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제6 항에 있어서,상기 하우징은 냉각수가 수용된 냉각부를 더 포함하고, 상기 냉각부는 상기 아크 통로에서 상기 확장부까지 이어져 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버
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8
제6 항에 있어서,상기 전극 수용부에는 플라즈마를 유도하는 반응가스가 유입되는 반응가스 공급구와 과불화화합물을 포함하는 처리가스가 유입되는 처리가스 공급구가 연결된 것을 특징으로 하는 스크러버
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9
제6 항에 있어서,상기 확장부의 하단의 직경은 상기 전극 수용부의 직경보다 더 크게 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버
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10
제2 항에 있어서,상기 자석은 상기 확장부를 향하는 경사면을 갖고 하부로 갈수록 폭이 점진적으로 감소하도록 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버
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11
제2 항에 있어서,상기 자석은 상기 확장부를 이루는 벽면 내부에 삽입되며, 상기 하우징의 중심축에 대하여 경사지게 배치된 것을 특징으로 하는 스크러버
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12
플라즈마 아크를 발생시켜 토출하는 스크러버;상기 스크러버로부터 가스를 전달받아 물을 분사하여 습식 처리하는 습식 처리부와 습식 타워를 포함하며,상기 스크러버는,구동전압이 인가된 전극, 및상기 전극을 감싸며 방전 공간을 형성하는 하우징,을 포함하고,상기 하우징은 플라즈마를 배출시키는 토출구와 상기 토출구와 연결되며 하부로 갈수록 외측으로 확장된 확장부를 포함하는 스크러버 시스템
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제12 항에 있어서,상기 하우징에 하부에 고정 설치되며 아크를 회전시키는 자석을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스크러버 시스템
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제12 항에 있어서,상기 확장부의 내면은 상기 하우징의 중심축에 대하여 5도 내지 45도로 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버 시스템
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제12 항에 있어서,상기 확장부에서 상기 아크는 상기 하우징의 중심축에 대하여 경사지게 휘어지는 것을 특징으로 하는 스크러버 시스템
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전극에 구동 전압을 인가하여 아크를 생성하는 아크 생성 단계;반응가스를 상기 전극이 삽입된 하우징 내부로 공급하여 플라즈마를 생성시키는 플라즈마 생성 단계;처리가스를 회전 유동시키면서 상기 하우징 내부로 공급하여 상기 아크를 연장시키며 상기 하우징의 중심축에 경사지게 배치된 확장부까지 상기 아크를 연장하여 상기 아크의 회전 반경을 증가시키는 아크 연장 단계; 및자석을 이용하여 상기 아크를 회전시키는 아크 회전 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스크러버의 구동 방법
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제16 항에 있어서,상기 아크 연장 단계는 상기 확장부의 하단에서 내측으로 돌출된 아크유지 돌기까지 아크를 연장시키는 것을 특징으로 하는 스크러버의 구동 방법
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