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플라즈마 아크를 발생시키는 플라즈마 발생기; 및상기 플라즈마 발생기와 연결되며 처리가스의 분해 공간을 제공하는 반응기;를 포함하고,상기 플라즈마 발생기는 구동 전압이 인가되는 전극, 및 상기 전극을 감싸며 방전 공간을 형성하는 하우징을 포함하고,상기 전극은 상기 하우징의 하단에서 돌출되어 상기 반응기 내부로 삽입된 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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제1 항에 있어서,상기 전극의 외주면에 제1 아크점이 형성되고 상기 하우징의 내면에 제2 아크점이 형성된 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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제2 항에 있어서,상기 아크 중 일부는 상기 반응기 내부에 위치하는 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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제2 항에 있어서,상기 하우징은 상기 전극과 제1 갭을 형성하는 제1 관부와 상기 전극과 제2 갭을 형성하는 제2 관부를 포함하며, 상기 제2 관부는 상기 제1 관부의 하부에 위치하며, 상기 제2 갭은 상기 제1 갭보다 더 큰 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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5
제2 항에 있어서,상기 제1 아크점은 상기 하우징의 내주면을 따라 이동하고, 상기 제2 아크점은 상기 전극의 외주면을 따라 이동하는 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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6
제2 항에 있어서,상기 하우징에는 과불화화합물을 포함하는 처리가스가 유입되는 제1 가스 공급구가 연결된 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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7
제6 항에 있어서,상기 하우징에는 상기 제1 가스 공급구와 연결되며 상기 하우징의 둘레 방향으로 이어진 처리가스 통로와 하우징의 내부로 처리가스를 분사하는 적어도 하나 이상의 처리가스 분사홀이 형성되고, 상기 처리가스 분사홀은 회전 유동을 유도할 수 있도록 상기 하우징의 중심에 대하여 편심된 방향으로 이어진 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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8
제7 항에 있어서,상기 처리가스 분사홀들은 상기 전극의 길이방향으로 서로 다른 위치에 형성된 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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9
제8 항에 있어서,상기 처리가스 분사홀들은 상기 전극의 하단을 향하여 경사지게 이어져 형성된 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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10
제7 항에 있어서,상기 하우징에는 반응가스가 유입되는 제2 가스 공급구가 형성되며, 상기 제2 가스 공급구에는 반응가스가 이동하는 제2 공급관이 연결된 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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11
제10 항에 있어서,상기 반응가스는 불활성 기체로 이루어진 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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제10 항에 있어서,상기 제1 가스 공급구에는 처리가스가 이동하는 제1 공급관이 연결되고, 상기 제1 공급관 및 상기 제2 공급관에는 상기 제1 공급관을 통해서 이동하는 처리가스를 상기 제2 공급관으로 이동시키는 분기관이 연결된 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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제12 항에 있어서,초기 플라즈마 발생 시에는 상기 제2 공급구에 상기 제2 공급관을 통해서 반응가스가 공급되며, 플라즈마가 발생된 이후에는 상기 제 2 공급관으로의 반응기체 공급이 중단되고, 상기 제1 가스 공급구를 통해서 처리가스가 상기 하우징 내부로 공급되는 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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제12 항에 있어서,초기 플라즈마 발생 시에는 상기 제2 공급관을 통해서 반응가스가 공급되며, 플라즈마가 발생된 이후에는 상기 제1 가스 공급구 및 상기 제2 가스 공급구를 통해서 처리가스가 상기 하우징 내부로 공급되는 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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제1 항에 있어서,상기 하우징에는 상기 아크를 회전시키는 자석이 설치된 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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제1 항에 있어서,상기 반응기에는 상기 반응기 내부로 물을 분사하는 노즐이 설치된 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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플라즈마 아크를 발생시켜 토출하는 스크러버;상기 스크러버로부터 가스를 전달받아 물을 분사하여 습식 처리하는 습식 처리부; 및상기 습식 처리부에서 배출되는 가스에 물을 분사하여 습식 처리 하는 습식 타워;를 포함하며,상기 스크러버는 아크와 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생기, 및 상기 플라즈마 발생기와 연결되며 처리가스의 분해 공간을 제공하는 반응기를 포함하고,상기 플라즈마 발생기는 구동 전압이 인가되는 전극, 및 상기 전극을 감싸며 방전 공간을 형성하는 하우징을 포함하고,상기 전극은 상기 하우징의 하단에서 돌출되어 상기 반응기 내부로 삽입된 것을 특징으로 하는 스크러버 시스템
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제17 항에 있어서,상기 전극의 외주면에 제1 아크점이 형성되고 상기 하우징의 내면에 제2 아크점이 형성된 것을 특징으로 하는 스크러버 시스템
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제18 항에 있어서,상기 아크 중 일부는 상기 반응기 내부에 위치하는 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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제18 항에 있어서,상기 하우징은 상기 전극과 제1 갭을 형성하는 제1 관부와 상기 전극과 제2 갭을 형성하는 제2 관부를 포함하며, 상기 제2 관부는 상기 제1 관부의 하부에 위치하며, 상기 제2 갭은 상기 제1 갭보다 더 큰 것을 특징으로 하는 돌출 전극을 갖는 스크러버
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플라즈마 발생부의 전극이 접지된 하우징의 하단에서 돌출되어 전극의 외주면과 하우징의 내면 사이에 아크를 생성시키는 아크 생성 단계와,상기 하우징의 내부로 처리가스를 회전하도록 공급하여 아크를 회전시키는 아크 회전 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스크러버 구동 방법
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제21 항에 있어서,상기 아크 생성 단계에서 상기 전극의 외주면에 제1 아크 점이 형성되고, 상기 하우징의 내주면에 제2 아크 점이 형성되는 것을 특징으로 하는 스크러버 구동 방법
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제16 항에 있어서,상기 하우징은 상기 전극과 제1 갭을 형성하는 제1 관부와 상기 제1 갭보다 더 큰 제2 갭을 형성하는 제2 관부를 포함하며, 상기 아크 생성 단계에서 상기 제1 관부의 내주면에 제2 아크점이 형성된 후 아크의 발달에 의해 상기 제2 아크점은 상기 제2 관부로 이동하는 것을 특징으로 하는 스크러버 구동 방법
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제22 항에 있어서,상기 아크 회전 단계에서 상기 제1 아크 점이 상기 전극의 외주면을 따라 이동하며, 상기 제2 아크 점이 상기 하우징의 내주면을 따라 이동하는 것을 특징으로 하는 스크러버 구동 방법
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제15 항에 있어서,상기 아크 생성 단계는 제1 가스 공급구로 처리가스를 공급하고, 제2 가스 공급구로 반응가스를 공급하되, 상기 아크 회전 단계는 상기 제 2 가스 공급구로의 반응가스의 공급을 중단하고, 상기 제1 가스 공급구로 처리가스를 계속 공급하는 것을 특징으로 하는 스크러버 구동 방법
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제25 항에 있어서,상기 아크 회전 단계는 상기 제1 가스 공급구 및 상기 제2 가스 공급구로 처리가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 스크러버 구동 방법
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제21 항에 있어서,상기 아크 생성 단계 및 상기 아크 회전 단계는 상기 제1 가스 공급구로 공급되는 처리가스를 하우징의 중심에 대하여 편심된 방향으로 분사하여 회전력을 형성하되, 상기 제1 가스 공급구로 공급되는 처리가스를 상기 전극의 길이방향으로 서로 다른 위치에 분사하는 것을 특징으로 하는 스크러버 구동 방법
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