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제작 장치가, 홀로그래픽 광학소자 내 관심영역을 복수 개의 국소 영역으로 분할하는 단계;제작 장치가, 개별 국소 영역에 대하여 국소 기준빔 및 국소 신호빔을 도출하는 단계;제작 장치가, 도출된 국소 기준빔 및 국소 신호빔을 종합하여 최종 기록에 필요한 보상 기준 파면 및 보상 신호 파면을 도출하는 단계;제작 장치가, 보상 기준 파면 및 보상 신호 파면의 파면 근사화를 수행하는 단계; 및 제작 장치가, 근사화 결과를 기반으로, 홀로그래픽 광학소자의 광기록을 수행하는 단계;를 포함하는 홀로그래픽 광학소자의 파장 보상 방법
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청구항 1에 있어서,국소 기준빔 및 국소 신호빔을 도출하는 단계는, 개별 국소 영역에서 재생광 간 간섭을 통해 생성되어야 하는 격자 모델링을 수행하는 단계;모델링된 격자를 매질 수축 및 파장 편차 보상에 따라 기록에 필요한 보상 격자로 변환하는 단계; 및변환된 보상 격자를 생성할 수 있는 국소 기준빔 및 국소 신호빔을 도출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자의 파장 보상 방법
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청구항 2에 있어서,격자 모델링을 수행하는 단계는, 홀로그래픽 광학소자에 입광하는 파장의 투사빔을 편향시키는 경우, 필요한 격자 벡터가 홀로그래픽 기록매질 내에서 기설정된 격자 기울임 각도를 만족하는 벡터인 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자의 파장 보상 방법
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청구항 3에 있어서,국소 기준빔 및 국소 신호빔의 입광 각도는, λd가 홀로그래픽 광학소자에 θ1,d로 입광하는 파장이고, θ2,d가 파장 λd의 투사빔이며, θ1,r가 국소 기준빔의 입광 각도이고, θ2,r가 국소 신호빔의 입광 각도이면, 하기 수식 1에 따라 정리되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자의 파장 보상 방법
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청구항 3에 있어서,국소 기준빔 및 국소 신호빔의 입광 각도는, θ1,r가 국소 기준빔의 입광 각도이고,θ2,r가 국소 신호빔의 입광 각도이고, λd가 홀로그래픽 광학소자에 θ1,d로 입광하는 파장이고, θ2,d가 파장 λd의 투사빔이며, 인 경우, 하기 수식 2에 따라 정리되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자의 파장 보상 방법
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청구항 1에 있어서,광기록을 수행하는 단계는, 개별 국소 영역에 대하여 도출된 국소 기준빔 및 국소 신호빔이 개별 국소 영역에 입광되도록 하여 광기록을 수행하되, 홀로그래픽 광학소자의 전체 영역에 대하여, 광기록을 반복적으로 수행함으로써, 최종적으로 요구되는 보상 기준 파면 및 보상 신호 파면이 구현되도록 하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자의 파장 보상 방법
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청구항 6에 있어서,광기록을 수행하는 단계는, 단일 광학 소자를 통하여 보상 기록 파면의 구현이 어려운 경우, 공간광변조기(Spatial light modulator, SLM)를 이용하여, 레이저 빔을 복소 변조함으로써, 타겟이 되는 보상 기록 파면을 구현하고, 공간광변조기에 의해 복소 변조된 파면은, 홀로그래픽 기록매질의 표면에서 각 국소 영역의 보상 기준빔 및 보상 신호빔을 만족하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자의 파장 보상 방법
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홀로그래픽 광학소자 내 관심영역을 복수 개의 국소 영역으로 분할하는 분할부;개별 국소 영역에 대하여 국소 기준빔을 도출하는 국소 기준빔 패스;개별 국소 영역에 대하여 국소 신호빔을 도출하는 국소 신호빔 패스;국소 기준빔 패스와 국소 신호빔 패스 각각의 방향을 조절하는 복수의 방향조정부; 및 국소 기준빔 패스와 국소 신호빔 패스 각각에 대하여 레이저의 평행광을 보상 설계한 광파로 변환하는 복수의 파면조정부를 포함하는 것을 파장 보상된 홀로그래픽 광학소자의 제작 장치
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