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관형으로 내부 반응기 보다 열 복사율이 높은 외부 반응기; 및상기 외부 반응기의 내주면에 결합되는 관형으로, 상기 외부 반응기 보다 열 전도율이 높은 상기 내부 반응기;를 포함하는 파우더 ALD 장치용 듀얼 반응기
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제1항에 있어서,상기 외부 반응기의 소재는 스테인리스 스틸이고, 상기 내부 반응기의 소재는 알루미늄인 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 듀얼 반응기
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제2항에 있어서,상기 외부 반응기는 0
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제3항에 있어서,상기 내부 반응기는 0
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제1항에 있어서,상기 내부 반응기의 두께가 상기 외부 반응기의 두께 보다는 두꺼운 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 듀얼 반응기
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제1항에 있어서,상기 외부 반응기와 상기 내부 반응기는 끼움 결합되어 상기 외부 반응기의 내주면에 상기 내부 반응기의 외주면이 밀착되는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 듀얼 반응기
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7
제6항에 있어서,상기 외부 반응기의 내주면과 상기 내부 반응기의 외주면에 서로 대응되게 형성된 키와, 상기 키에 결합되는 키홈을 이용하여 끼움 결합되는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 듀얼 반응기
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열을 공급하는 열원; 및상기 열원으로부터 열을 공급받아 내부에 제공된 파우더의 표면에 원자층 증착(Atomic Layer Deposition; ALD)을 수행하는 듀얼 반응기;를 포함하고,상기 듀얼 반응기는,관형으로 내부 반응기 보다 열 복사율이 높은 외부 반응기; 및상기 외부 반응기의 내주면에 결합되는 관형으로, 상기 외부 반응기 보다 열 전도율이 높은 상기 내부 반응기;를 포함하는 파우더 ALD 장치
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제8항에 있어서,상기 열원은 상기 듀얼 반응기의 외주면을 둘러싸는 관형의 히터인 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치
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10
제8항에 있어서,상기 외부 반응기의 소재는 스테인리스 스틸이고, 상기 내부 반응기의 소재는 알루미늄인 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치
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제10항에 있어서,상기 외부 반응기는 0
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제8항에 있어서,상기 외부 반응기의 내주면과 상기 내부 반응기의 외주면에 서로 대응되게 형성된 키와, 상기 키에 결합되는 키홈을 이용하여 끼움 결합되는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치
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