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유전체에 의해 분리된 제1 전극과 제2 전극을 포함하며, 제1 전극과 제2 전극의 전압 차에 의해 유전체와 이웃한 방전 공간의 가스를 이온화하여 플라즈마를 생성하는 방전부;상기 방전 공간으로 가스를 주입하도록 제공된 가스 주입부; 및상기 방전 공간에서 상기 방전부와 거리를 두고 위치하며, 복수의 날개를 구비하고, 상기 방전부에 의해 생성된 플라즈마를 회전에 의해 처리 대상물을 향해 불어내는 팬을 포함하는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 제1 전극은 판형이고,상기 유전체는 상기 제1 전극의 일면을 덮으며,상기 제2 전극은 상기 유전체의 일면에 위치하고, 상기 유전체의 일부를 노출시키는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 서로간 거리를 나란히 위치하고,상기 유전체는 상기 제1 전극과 상기 제2 전극을 모두 덮는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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4
제2항 또는 제3항에 있어서,상기 팬을 사이에 두고 상기 방전부와 마주하는 다공성 부재를 더 포함하며,상기 처리 대상물은 상기 다공성 부재의 외측에 위치하는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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5
제1항에 있어서,상기 제1 전극은 판형이고,상기 제2 전극은 상기 팬을 사이에 두고 상기 제1 전극과 마주하며, 복수의 개구를 구비하고,상기 유전체는 상기 제1 전극의 일면을 덮는 제1 유전체와, 상기 제2 전극의 표면을 덮는 제2 유전체를 포함하며,상기 처리 대상물은 상기 제2 전극의 외측에 위치하는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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6
제5항에 있어서,상기 복수의 날개는 도전체와 유전체 중 어느 하나로 구성되고,상기 복수의 날개 중 적어도 두 개의 날개는 두께와 피치각 중 어느 하나가 서로 다르게 구성되는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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7
제6항에 있어서,상기 복수의 날개는 도전체로 구성되며, 전기적으로 플로팅 상태를 유지하거나 고주파 전압을 인가받거나 접지되는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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8
제7항에 있어서,상기 제1 유전체와 마주하는 상기 날개의 제1면과, 상기 제2 유전체와 마주하는 상기 날개의 제2면 중 적어도 일면에 복수의 돌기가 위치하는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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9
제6항에 있어서,상기 복수의 날개는 유전체로 구성되며,상기 제1 유전체와 마주하는 상기 날개의 제1면과, 상기 제2 유전체와 마주하는 상기 날개의 제2면 중 적어도 일면에, 적어도 하나의 뾰족한 부분을 가진 전도성 패턴이 위치하는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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10
제1항 내지 제3항, 제5항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가스 주입부는 상기 팬의 둘레를 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 복수의 가스 유로와, 복수의 가스 유로에 가스를 공급하는 가스 공급기를 포함하고,상기 팬은 상기 복수의 가스 유로에서 배출되는 가스의 유압에 의해 회전하는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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11
제10항에 있어서,상기 복수의 가스 유로는 상기 팬의 중심을 향하는 위치로부터 시계 방향과 반시계 방향 중 어느 한 방향을 따라 미리 설정된 경사각으로 기울어지게 위치하는 유전체 격벽 방전 플라즈마 반응기
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