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파장 가변 레이저;제1 함수 발생기에 의해 생성되는 전류 인가 신호에 따라 상기 파장 가변 레이저에 인가되는 전류를 제어하는 레이저 전류 제어기;제2 함수 발생기에 의해 생성되는 온도 조절 신호에 따라 상기 파장 가변 레이저의 온도를 제어하는 레이저 온도 제어기; 및측정 대상 기체를 통과한 상기 파장 가변 레이저의 광량을 측정하는 광센서를 포함하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 시스템
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청구항 1에 있어서,상기 전류 인가 신호 또는 상기 온도 조절 신호 중 하나는 경사 파형(ramp waveform)을 가지는 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 시스템
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청구항 2에 있어서,상기 전류 인가 신호 또는 상기 온도 조절 신호 중 나머지 하나는 듀티(duty) 파형, 사다리꼴 파형 및 계단 파형 중 하나의 파형을 가지는 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 시스템
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청구항 3에 있어서,상기 전류 인가 신호 및 상기 온도 조절 신호의 주기는 동일한 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 시스템
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청구항 3에 있어서,상기 광센서에 수신되는 상기 파형 가변 레이저의 파형은 경사진 계단 파형(ramped step waveform)인 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 시스템
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청구항 3에 있어서,상기 측정 대상 기체는 2 이상의 화학종이 포함된 기체인 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 시스템
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청구항 6에 있어서,상기 광센서에서 측정되는 신호는 상기 온도 조절 신호의 조절에 의해 상기 화학종 별로 흡수선 측정이 가능한 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 시스템
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제1 함수 발생기에 의해 전류 인가 신호를 생성하는 단계;제2 함수 발생기에 의해 온도 조절 신호를 생성하는 단계;상기 전류 인가 신호에 따라 파장 가변 레이저에 인가되는 전류를 제어하는 단계;상기 온도 조절 신호에 따라 상기 파장 가변 레이저의 온도를 제어하는 단계; 및측정 대상 기체를 통과한 상기 파장 가변 레이저의 광량을 측정하는 단계를 포함하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 방법
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청구항 8에 있어서,상기 전류 인가 신호를 생성하는 단계 및 상기 온도 조절 신호를 생성하는 단계에서, 상기 전류 인가 신호 및 상기 온도 조절 신호 중 어느 하나는 경사 파형으로 생성하는 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 방법
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10
청구항 9에 있어서,상기 전류 인가 신호를 생성하는 단계 및 상기 온도 조절 신호를 생성하는 단계에서, 상기 전류 인가 신호 및 상기 온도 조절 신호 중 나머지 하나는 듀티(duty) 파형, 사다리꼴 파형 및 계단 파형 중 하나의 파형으로 생성하는 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 방법
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11
청구항 10에 있어서,상기 전류 인가 신호를 생성하는 단계 및 상기 온도 조절 신호를 생성하는 단계에서, 상기 전류 인가 신호 및 상기 온도 조절 신호의 주기는 동일하게 생성하는 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 방법
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12
청구항 10에 있어서,상기 측정 대상 기체는 2 이상의 화학종이 포함된 기체인 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 방법
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청구항 12에 있어서,상기 파장 가변 레이저의 광량을 측정하는 단계에서 측정되는 신호는 상기 온도 조절 신호의 조절에 의해 상기 화학종 별로 흡수선 측정이 가능한 것을 특징으로 하는,단일 레이저를 사용하는 흡수분광법에 의한 흡수선 측정 방법
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