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인라인 방식으로 이송된 기판 상에 박막을 증착시키는 인라인 스퍼터링 시스템에 있어서,기판 상에 박막 증착공정을 수행하는 챔버;상기 챔버 내에서 상기 기판을 이송하는 이송 유닛; 및상기 챔버 내에서 증착 물질을 제공하는 복수의 타겟을 포함하고,상기 기판에서 상기 타겟과 마주보는 기판의 일 면, 및 상기 타겟에서 상기 기판과 마주보는 타겟의 일 면 중 적어도 어느 하나는 증착 공정 중에 소정의 각도로 기울어지게 구비되는 것을 특징으로 하는 인라인 스퍼터링 시스템
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제1항에 있어서,상기 기판을 수용하는 트레이를 더 포함하고,상기 트레이는, 지지부; 및상기 지지부 상에 각 기판이 안착되는 수용부를 포함하고,상기 수용부는 분리되어 상기 기판의 이송 방향을 따라 배치되는 제1 수용부 및 제2 수용부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인라인 스퍼터링 시스템
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제1항에 있어서,상기 기판을 수용하는 트레이를 더 포함하고,상기 트레이는, 각 기판이 안착되는 수용부를 포함하고,상기 수용부는 분리되어 상기 기판의 이송 방향을 따라 배치되는 제1 수용부 및 제2 수용부를 포함하고,제1 수용부 및 제2 수용부는 연결부를 통해 연결되는 것을 특징으로 하는 인라인 스퍼터링 시스템
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제1항에 있어서,상기 이송 유닛은, 복수의 롤러부; 및상기 롤러부의 높이를 조정하는 높이 조절부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인라인 스퍼터링 시스템
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제1항에 있어서,상기 높이 조절부는 상기 복수의 롤러부 하부에 배치되고, 상하로 이동 가능하게 구비되는 것을 특징으로 하는 인라인 스퍼터링 시스템
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제1항에 있어서, 상기 높이 조절부는 상기 복수의 롤러부 각각의 하부에 배치되는 것을 특징으로 하는 인라인 스퍼터링 시스템
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제1항에 있어서,상기 복수의 타겟 각각의 높이 및 각도를 조절하는 타겟 조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인라인 스퍼터링 시스템
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제1항에 있어서,상기 복수의 타겟은 두께가 서로 다른 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 인라인 스퍼터링 시스템
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제8항에 있어서,상기 복수의 타겟 각각의 후면에 자기장을 발생시키는 제1 자석 및 제2 자석이 배치되고,상기 제1 자석 및 상기 제2 자석은 상기 타겟의 두께에 따라 자기장의 세기가 조절되는 것을 특징으로 하는 인라인 스퍼터링 시스템
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