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광원으로부터 출광된 광을 입광하여, 기준빔과 신호빔이 서로 다른 방향으로 출광하도록 하는 분할부;입광하는 신호빔이 렌즈에 의한 구면파에 기반하여 변조되도록 하는 공간광변조기; 및 출광된 기준빔과 변조된 신호빔의 간섭 패턴을 저장하는 기록매질;을 포함하는 홀로그래픽 광학소자 제작 장치
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청구항 1에 있어서,변조된 신호빔의 입광 각도 범위인 θsig는, 공간광변조기의 픽셀 크기와 관계 없이 사용되는 렌즈의 초점거리와 구면파의 곡률에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자 제작 장치
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청구항 2에 있어서,공간광변조기는, 개별 호겔에서 제공할 수 있는 신호빔의 입광 각도 범위가 증대되도록, 임계 초점 거리 이하의 렌즈를 사용하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자 제작 장치
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청구항 2에 있어서,공간광변조기는, 광기록에 요구되는 에너지와 기록 시간을 고려하여, 1차항 및 0차항 모두를 신호빔으로 사용하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자 제작 장치
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청구항 2에 있어서,공간광변조기는, 구면파를 발생시키는 렌즈와 홀로그래픽 기록매질 사이의 거리를 조정함으로써, 호겔의 크기를 조정하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자 제작 장치
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청구항 5에 있어서,신호빔에서 인가되는 호겔의 크기인 SHogel는,렌즈의 유효경을 D, 초점거리를 f, 렌즈와 기록매질 사이의 거리를 d라고 하는 경우, 하기 수식 1에 따라 조정되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자 제작 장치
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청구항 1에 있어서,공간광변조기는, 기록매질 위치에서의 요구되는 위상 변조 패턴인 Target domain의 파면을 호겔 domain으로 역전파 시킨 뒤, 생성된 파면 중 위상 정보만을 추출하여 다시 Target domain으로 전파시키도록 하며, Target domain에서는 전파해온 파면 중 세기 정보를 유지하되, 위상 정보를 Target 위상 변조 패턴으로 업데이트하여 다시 호겔 domain으로 역전파시키는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학소자 제작 장치
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홀로그래픽 광학소자 제작 장치가, 기준빔과 신호빔이 서로 다른 방향으로 출광하도록 하는 단계;홀로그래픽 광학소자 제작 장치가, 입광하는 신호빔을 렌즈에 의한 구면파에 기반하여 변조시키는 단계; 및 홀로그래픽 광학소자 제작 장치가, 출광된 기준빔과 변조된 신호빔의 간섭 패턴이 저장되도록 하는 단계;를 포함하는 홀로그래픽 광학소자 제작방법
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