| 1 |
1
관 형의 외부 반응기; 및이종 소재의 블록 복수 개가 상기 외부 반응기의 내주면에 결합되어 관 형을 형성하는 내부 반응기;를 포함하는 파우더 ALD 장치용 분할형 듀얼 반응기
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 이종 소재의 블록은,파우더의 비전하를 양으로 대전하는 적어도 하나의 제1 블록; 및파우더의 비전하를 음으로 대전하는 적어도 하나의 제2 블록;을 포함하고,상기 제1 및 제2 블록이 교대로 상기 외부 반응기의 내주면에 결합되어 상기 내부 반응기를 형성하는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 분할형 듀얼 반응기
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 제1 블록과 상기 제2 블록의 개수가 동일한 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 분할형 듀얼 반응기
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 제1 블록의 소재는 스테인리스 스틸을 포함하고,상기 제2 블록의 소재는 알루미늄, 황동 또는 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 분할형 듀얼 반응기
|
| 5 |
5
제3항에 있어서, 상기 내부 반응기는,상기 외부 반응기의 축 방향으로 분할된 복수의 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 분할형 듀얼 반응기
|
| 6 |
6
제3항에 있어서, 상기 내부 반응기는,상기 외부 반응기의 원주 방향으로 분할된 복수의 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 분할형 듀얼 반응기
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 외부 반응기와 상기 블록은 끼움 결합되어 상기 외부 반응기의 내주면에 상기 블록의 외주면이 밀착되는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 분할형 듀얼 반응기
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,상기 외부 반응기의 내주면과 상기 블록의 외주면에 서로 대응되게 형성된 키와, 상기 키에 결합되는 키홈을 이용하여 끼움 결합되는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치용 분할형 듀얼 반응기
|
| 9 |
9
열을 공급하는 열원; 및상기 열원으로부터 열을 공급받아 내부에 제공된 파우더의 표면에 원자층 증착(Atomic Layer Deposition; ALD)을 수행하는 분할형 듀얼 반응기;를 포함하고,상기 분할형 듀얼 반응기는,관 형의 외부 반응기; 및이종 소재의 블록 복수 개가 상기 외부 반응기의 내주면에 결합되어 관 형을 형성하는 내부 반응기;를 포함하는 파우더 ALD 장치
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,상기 열원은 상기 듀얼 반응기의 외주면을 둘러싸는 관형의 히터인 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치
|
| 11 |
11
제9항에 있어서, 상기 이종 소재의 블록은,파우더의 비전하를 양으로 대전하는 적어도 하나의 제1 블록; 및파우더의 비전하를 음으로 대전하는 적어도 하나의 제2 블록;을 포함하고,상기 제1 및 제2 블록이 교대로 상기 외부 반응기의 내주면에 결합되어 상기 내부 반응기를 형성하는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치
|
| 12 |
12
제11항에 있어서,상기 제1 블록의 소재는 스테인리스 스틸을 포함하고,상기 제2 블록의 소재는 알루미늄, 황동 또는 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 파우더 ALD 장치
|
