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기판;상기 기판 상에 제공되며, 광을 방출하는 발광층; 및상기 발광층 상에 제공되는 복수 개의 단위 구조체들을 포함하되,상기 단위 구조체들은 방사 방향(radial direction) 및 원주 방향(tangential direction)을 따라 배열되어 유효 굴절률 제어 패턴을 이루고,상기 유효 굴절률 제어 패턴은 상기 단위 구조체들 각각의 폭으로 정의되는 제1 변수, 상기 단위 구조체들이 상기 원주 방향으로 배열되는 주기로 정의되는 제2 변수, 상기 방사 방향으로 인접하는 상기 단위 구조체들이 배열되는 주기로 정의되는 제3 변수, 및 상기 단위 구조체들의 굴절률과 상기 단위 구조체들을 둘러싸는 물질의 굴절률 간의 차이로 정의되는 제4 변수를 통해 유효 굴절률을 제어하도록 구성되고,상기 제1 변수는 상기 발광층에서 방출되는 상기 광의 중심 파장보다 작고, 상기 유효 굴절률 제어 패턴은 회전 대칭성(rotational symmetry)을 갖는 광원
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제 1 항에 있어서,상기 단위 구조체들의 밀도는 상기 방사 방향으로 가면서 변하는 광원
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제 2 항에 있어서,상기 단위 구조체들의 상기 밀도는 상기 방사 방향으로 가면서 단조 증가하거나, 단조 감소하거나, 증감이 반복되는 광원
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제 1 항에 있어서,상기 유효 굴절률 제어 패턴에서 상기 제1 변수는 일정한 광원
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제 4 항에 있어서,상기 유효 굴절률 제어 패턴에서 상기 제2 변수는 상기 방사 방향으로 가면서 증가하는 광원
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제 4 항에 있어서,상기 유효 굴절률 제어 패턴에서 상기 제2 변수는 상기 방사 방향으로 가면서 감소하는 광원
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제 1 항에 있어서,상기 유효 굴절률 제어 패턴에서 상기 제3 변수는 상기 광의 중심 파장보다 작은 광원
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제 7 항에 있어서,상기 유효 굴절률 제어 패턴에서 상기 제1 변수는 상기 방사 방향으로 가면서 감소하는 광원
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제 7 항에 있어서,상기 유효 굴절률 제어 패턴에서 상기 제1 변수는 상기 방사 방향으로 가면서 증가하는 광원
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제 1 항에 있어서,상기 단위 구조체들 각각의 높이는 상기 제4 변수에 따라 결정되는 광원
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기판;상기 기판 상에 제공되며, 광을 방출하는 발광층;상기 발광층 상에 제공되는 복수 개의 단위 구조체들;상기 단위 구조체들을 덮는 배리어층; 및상기 단위 구조체들 및 상기 배리어층을 덮는 평탄화층을 포함하되,상기 단위 구조체들은 방사 방향 및 원주 방향을 따라 배열되어 유효 굴절률 제어 패턴을 이루고,상기 유효 굴절률 제어 패턴은 상기 단위 구조체들 각각의 폭으로 정의되는 제1 변수, 상기 단위 구조체들이 상기 원주 방향으로 배열되는 주기로 정의되는 제2 변수, 상기 방사 방향으로 인접하는 상기 단위 구조체들이 배열되는 주기로 정의되는 제3 변수, 및 상기 단위 구조체들의 굴절률과 상기 단위 구조체들을 둘러싸는 물질의 굴절률 간의 차이로 정의되는 제4 변수를 통해 유효 굴절률을 제어하도록 구성되고,상기 제1 변수는 상기 발광층에서 방출되는 상기 광의 중심 파장보다 작고, 상기 유효 굴절률 제어 패턴은 회전 대칭성을 갖는 광원
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12
제 11 항에 있어서,상기 단위 구조체들은 상기 평탄화층보다 굴절률이 낮거나 같은 물질을 포함하는 광원
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13
제 12 항에 있어서,상기 단위 구조체들은 각각 기체를 포함하는 캐비티 구조를 갖는 광원
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14
제 11 항에 있어서,상기 배리어층의 굴절률은 상기 단위 구조체들의 굴절률보다 크거나 같고, 상기 평탄화층의 굴절률보다 작거나 같은 광원
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15
제 11 항에 있어서,상기 단위 구조체들 각각의 높이는 하기 [수학식 1]에 따라 결정되는 임계값 이상의 크기를 갖는 광원
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제 11 항에 있어서,상기 발광층과 상기 단위 구조체들 사이의 반도체층을 더 포함하되,상기 기판 및 상기 반도체층은 각각 도핑된 반도체 물질을 포함하고,상기 발광층은 양자 우물 구조, 양자선 구조 또는 양자점 구조를 갖는 반도체 물질을 포함하는 광원
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17
제 11 항에 있어서,상기 발광층은 형광 현상(fluorescence) 내지 인광 현상(phosphorescence)을 일으키는 색변환 소재를 포함하는 광원
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기판;상기 기판 상에 제공되며, 광을 방출하는 발광층;상기 발광층 상에 제공되는 복수의 렌즈들을 포함하되,상기 렌즈들은 반복적으로 배치되어 평면을 채우도록 배열되고,상기 렌즈들은 각각:방사 방향 및 원주 방향을 따라 배열되는 복수 개의 단위 구조체들을 포함하는 유효 굴절률 제어 패턴을 가지고,상기 유효 굴절률 제어 패턴은 상기 단위 구조체들 각각의 폭으로 정의되는 제1 변수, 상기 단위 구조체들이 상기 원주 방향으로 배열되는 주기로 정의되는 제2 변수, 상기 방사 방향으로 인접하는 상기 단위 구조체들이 배열되는 주기로 정의되는 제3 변수, 및 상기 단위 구조체들의 굴절률과 상기 단위 구조체들을 둘러싸는 물질의 굴절률 간의 차이로 정의되는 제4 변수를 통해 유효 굴절률을 제어하도록 구성되고,상기 제1 변수는 상기 발광층에서 방출되는 상기 광의 중심 파장보다 작고, 상기 유효 굴절률 제어 패턴은 회전 대칭성을 갖는 광원
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제 18 항에 있어서,상기 단위 구조체들은 각각 기체를 포함하는 캐비티 구조를 갖는 광원
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제 18 항에 있어서,상기 렌즈들 각각의 상기 유효 굴절률 제어 패턴에서, 상기 단위 구조체들의 밀도는 상기 방사 방향으로 가면서 단조 증가하거나, 단조 감소하거나, 증감이 반복되는 광원
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