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다음 화학식으로 표시되는 고분자 가공용 열안정제: Aw(PO4)x(HPO4)yXz·nH2O 상기 식에서, A는 Ca, Mg, Al, Fe, Ti, Sn, Ba, Zn, Cu, Cd, Pb, Mn, Ni, Sr, 및 Mo로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 다가 양이온으로, w는 2 ~ 5의 범위를 만족하며, X는 Cl-, Br-, NO3-, OH-, 아세테이트(acetate), 시아나이드(cyanide), 티오시아네이트(thiocyanate), 이소시아네이트(isocyanate), 하이드로젠설페이트(hydrogensulfate), 디하이드로젠 포스페이트(dihydrogen phosphate), 포스파이트(phosphite), 폴리포스페이트(polyphosphate), 카보네이트(carbonate), 설포네이트(sulfonate), 보레이트(borate), 카보네이트(carbonate), 설페이트(sulfate), 카복실레이트(carboxylate), 아디페이트, 도데실설페이트, 나이트레이트 및 P2O74-로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 음이온으로, z는 0 ~ 3의 범위이고, x와 y는 각각 독립적으로 0 ~ 5이며, x와 y는 동시에 0이 될 수 없고, 둘 중 하나는 0이 아니며, 상기 식에서 w, x, y, z는 X가 1가의 음이온인 경우 2w = 3x +2y +1z; X가 2가의 음이온인 경우 2w = 3x +2y +0
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제1항에 있어서,상기 화학식에서 A로 표시되는 다가 양이온은 상기 나열된 금속 양이온을 단독으로 사용하거나, 또는 Ca를 포함하는 하나의 금속 양이온의 일부를 전체 A의 몰비 중 50% 이하의 다른 금속 양이온으로 치환시켜 포함되는 것인 고분자 가공용 열안정제
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제1항에 있어서,상기 화학식에서 X는 OH- 음이온을,Cl-, Br-, NO3-, 아세테이트(acetate), 시아나이드(cyanide), 티오시아네이트(thiocyanate), 이소시아네이트(isocyanate), 하이드로젠설페이트(hydrogensulfate), 디하이드로젠 포스페이트(dihydrogen phosphate), 포스파이트(phosphite), 폴리포스페이트(polyphosphate), 카복실레이트(carboxylate), 카보네이트(carbonate), 설포네이트(sulfonate), 보레이트(borate), 카보네이트(carbonate), 설페이트(sulfate), 카복실레이트(carboxylate), 아디페이트, 도데실설페이트, 나이트레이트 및 P2O74-로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 음이온으로 0
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제1항에 있어서,상기 화학식으로 표시되는 고분자 가공용 열안정제는 0
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제1항에 있어서,추가적으로 상기 화학식의 다가 양이온 A에 대해서 리간드 역할을 할 수 있도록 아민(amine), 아마이드(amide), 포스포네이트(phosphonate), 카르복실산(carboxylic acid), 티오에스터(thioester), 알카노에이트(alkanoate), 디케톤(diketones), 케토에스터(ketoesters), 옥살레이트(oxalates), 말로네이트(malonates), 석시네이트(succinates), 글루타레이트(glutarates), 아디페이트(adipates) 중에서 선택되는 1종 이상의 디에스터(diester);하나의 카르복실산과 하나의 에스터기를 가지는 물질(ketoacid);말레산 무수물(maleic anhydride), 호박산 무수물(succinic anhydride), 락타이드를 포함하는 락톤류;카프로락탐을 포함하는 락탐류; 다가 산 또는 그 염을 포함하는 킬레이팅제(chelating agent);비닐 아세테이트를 포함하는 비닐 에스터 유도체; 폴리(에틸렌이민) 및 그 유도체; (메타)아크릴레이트 및 그 유도체; 셀룰로오스 유도체; 및 셀룰로오스 아세테이트 유도체 중에서 선택되는 1종 이상의 분산제를 더 포함하는 것인 고분자 가공용 열안정제
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제7항에 있어서,상기 다가 양이온 A와 상기 분산제에 포함된 리간드가 1:0
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금속염 수용액과 금속 양이온을 포함하는 인산(염)을 pH 10~13, 10분~120분 동안 급속으로 반응시켜 금속인산염을 제조하는 단계를 포함하여,제조되는 금속인산염의 입자크기를 0
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제1항에 따른 화학식에서,X로 표시되는 음이온 중 OH- 음이온을,Cl-, Br-, NO3-, 아세테이트(acetate), 시아나이드(cyanide), 티오시아네이트(thiocyanate), 이소시아네이트(isocyanate), 하이드로젠설페이트(hydrogensulfate), 디하이드로젠 포스페이트(dihydrogen phosphate), 포스파이트(phosphite), 폴리포스페이트(polyphosphate), 카보네이트(carbonate), 설포네이트(sulfonate), 보레이트(borate), 카보네이트(carbonate), 설페이트(sulfate), 카복실레이트(carboxylate), 아디페이트, 도데실설페이트, 나이트레이트 및 P2O74-로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 음이온으로, 0
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제1항에 따른 화학식에서 다가 양이온 A에 대해서 리간드 역할을 하여,a)금속 양이온과 이온결합, 배위 공유결합, 또는 강한 이온-쌍극자 상호작용에 의해 전자쌍을 제공할 수 있거나,b)금속 양이온 A와 음이온 X 간의 이온 거리를 증가시켜 이온 결합력을 감소시키거나,c) 금속 인산염의 결정 형성을 억제시켜 입자 크기를 작게 하여 입자 표면적을 늘릴 수 있도록, 아민(amine), 아마이드(amide), 포스포네이트(phosphonate), 카르복실산(carboxylic acid), 티오에스터(thioester), 알카노에이트(alkanoate), 디케톤(diketones), 케토에스터(ketoesters), 옥살레이트(oxalates), 말로네이트(malonates), 석시네이트(succinates), 글루타레이트(glutarates), 아디페이트(adipates) 중에서 선택되는 1종 이상의 디에스터(diester);하나의 카르복실산과 하나의 에스터기를 가지는 물질(ketoacid);말레산 무수물(maleic anhydride), 호박산 무수물(succinic anhydride), 락타이드를 포함하는 락톤류;카프로락탐을 포함하는 락탐류; 다가 산 또는 그 염을 포함하는 킬레이팅제(chelating agent);비닐 아세테이트를 포함하는 비닐 에스터 유도체; 폴리(에틸렌이민) 및 그 유도체; (메타)아크릴레이트 및 그 유도체; 셀룰로오스 유도체; 및 셀룰로오스 아세테이트 유도체 중에서 선택되는 1종 이상의 분산제를 첨가하는 단계를 포함하여 열안정성을 개선시키는 것을 특징으로 하는 제1항에 따른 금속인산염 고분자 가공용 열안정제의 제조방법
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PVC, PMMA, PS, PB, PC, PE, PP, ABS, 천연고무, 및 합성 고무로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상인 고분자에 상기 제1항에 따른 화학식으로 표시되는 고분자 가공용 열안정제를 포함하는 고분자 조성물
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제10항에 있어서,상기 고분자 가공용 열안정제는 상기 고분자 중량에 대하여 1~5중량부로 포함되는 것인 고분자 조성물
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