| 1 |
1
탄닌산(tannic acid)을 포함하는 폴리페놀 화합물;폴리바이닐 알코올(polyvinyl alcohol)을 포함하는 고분자; 및물 및 알코올을 포함하는 용매를 포함하는 접착제용 조성물
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서,상기 고분자는 수화된 폴리바이닐 알코올을 포함하는 접착제용 조성물
|
| 3 |
3
제 1항에 있어서,상기 알코올은 에탄올을 포함하는 접착제용 조성물
|
| 4 |
4
제 1항에 있어서,상기 탄닌산의 중량에 대한 상기 폴리바이닐 알코올의 중량의 비는 0
|
| 5 |
5
제 1항에 있어서,상기 물의 중량에 대한 상기 알코올의 중량의 비는 0
|
| 6 |
6
제 1항에 있어서,상기 접착제용 조성물 100 중량%에 대하여,상기 탄닌산의 함량은 5 중량% 내지 45 중량%이고,상기 폴리바이닐 알코올의 함량은 5 중량% 내지 45 중량%인 접착제용 조성물
|
| 7 |
7
제 1항에 있어서,상기 폴리바이닐 알코올의 중량 평균 분자량은 9,000 내지 10,000인 접착제용 조성물
|
| 8 |
8
제 1항에 있어서,산화 실리콘(silicon oxide)을 더 포함하는 접착제용 조성물
|
| 9 |
9
제 8항에 있어서,상기 접착제용 조성물 100 중량%에 대하여,상기 탄닌산의 함량은 5 중량% 내지 45 중량%이고,상기 폴리바이닐 알코올의 함량은 5 중량% 내지 45 중량%이고,상기 산화 실리콘의 함량은 0
|
| 10 |
10
제 1항에 있어서,산화 그래핀(graphene oxide)을 더 포함하는 접착제용 조성물
|
| 11 |
11
제 10항에 있어서,상기 접착제용 조성물 100 중량%에 대하여,상기 탄닌산의 함량은 5 중량% 내지 45 중량%이고,상기 폴리바이닐 알코올의 함량은 5 중량% 내지 45 중량%이고,상기 산화 그래핀의 함량은 0
|
| 12 |
12
탄닌산(tannic acid)을 포함하는 폴리페놀 화합물; 및폴리바이닐 알코올(polyvinyl alcohol)을 포함하는 고분자를 포함하되,분말 형태인 접착제용 조성물
|
| 13 |
13
제 12항에 있어서,상기 탄닌산의 중량에 대한 상기 폴리바이닐 알코올의 중량의 비는 0
|
| 14 |
14
제 13항에 있어서,용매를 비포함하는 접착제용 조성물
|
| 15 |
15
제 12항에 있어서,동결 건조에 의해 제조되는 접착제용 조성물
|
| 16 |
16
탄닌산(tannic acid)을 포함하는 폴리페놀 수용액을 제공하고,폴리바이닐 알코올(polyvinyl alcohol)을 포함하는 고분자 수용액을 제공하고,상기 고분자 수용액과 상기 폴리페놀 수용액을 혼합하여 혼합 수용액을 형성하고,상기 혼합 수용액을 건조하여 분말 조성물을 형성하고,상기 분말 조성물을 물 및 알코올을 포함하는 용매에 용해시키는 것을 포함하는 접착제용 조성물의 제조 방법
|
| 17 |
17
포토 마스크;상기 포토 마스크로부터 돌출되는 스터드;상기 포토 마스크 상에 상기 스터드를 접착하는 펠리클 접착층;상기 스터드에 의해 상기 포토 마스크 상에 고정되는 펠리클을 포함하되,상기 펠리클 접착층은, 탄닌산(tannic acid)을 포함하는 폴리페놀 화합물과, 폴리바이닐 알코올(polyvinyl alcohol)을 포함하는 고분자를 포함하는 레티클 어셈블리
|
| 18 |
18
제 17항에 있어서,상기 탄닌산의 중량에 대한 상기 폴리바이닐 알코올의 중량의 비는 0
|
| 19 |
19
제 17항에 있어서,상기 펠리클은,투광성의 펠리클 멤브레인과,상기 펠리클 멤브레인을 지지하는 프레임과,상기 프레임을 관통하여 상기 스터드와 체결되는 고정체를 포함하는 레티클 어셈블리
|
| 20 |
20
제 19항에 있어서,상기 프레임 상에 상기 펠리클 멤브레인을 접착하는 멤브레인 접착층을 더 포함하는 레티클 어셈블리
|
