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티타늄 또는 티타늄 합금으로 이루어진 임플란트에 레이저를 조사하여 상기 임플란트의 표면에 마이크로 크기의 거칠기 패턴을 형성하는 단계; 및상기 마이크로 크기의 거칠기 패턴이 형성된 임플란트의 표면에 전기화학적 에칭법으로 에칭하여 나노 크기의 거칠기 패턴을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지고,상기 임플란트는,표면에 상기 마이크로 크기의 거칠기 패턴과 상기 나노 크기의 거칠기 패턴을 동시에 가짐으로써, 생체 적합성을 갖는 것을 특징으로 하는 멀티 스케일 구조를 갖는 임플란트 표면 처리방법
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제1항에 있어서,상기 마이크로 크기의 거칠기 패턴을 형성하는 단계는,마이크로(10-6)초, 나노(10-9)초, 피코(10-12)초, 펨토(10-15)초 및 아토(10-18)초 중 어느 하나 이상의 펄스 폭 레이저빔을 조사하는 것을 특징으로 하는 멀티 스케일 구조를 갖는 임플란트 표면 처리방법
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제1항에 있어서,상기 나노 크기의 거칠기 패턴을 형성하는 단계는,상기 임플란트를 양극으로 하고, 은(Ag), 백금(Pt) 및 텅스텐(W) 중 어느 하나 이상의 금속을 음극으로 하여,전해액 중에서 상기 양극을 산화시키는 것을 특징으로 하는 멀티 스케일 구조를 갖는 임플란트 표면 처리방법
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제3항에 있어서,상기 전해액은,에틸렌글리콜과 물을 혼합한 혼합액에 불화암모늄 염을 첨가하여 제조되는 것을 특징으로 하는 멀티 스케일 구조를 갖는 임플란트 표면 처리방법
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제1항에 있어서,상기 나노 크기의 거칠기 패턴을 형성하는 단계는,상기 마이크로 크기의 거칠기 패턴 상에 20 내지 400nm 폭 범위의 산화티타늄 나노튜브를 형성하는 것을 특징으로 하는 멀티 스케일 구조를 갖는 임플란트 표면 처리방법
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제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 방법으로 표면 처리되고,표면에 마이크로 크기의 거칠기 패턴과, 상기 마이크로 크기의 거칠기 패턴 상에 나노 크기의 거칠기 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 임플란트
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