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알콕시실란을 준비하는 제1단계;상기 알콕시실란에, 유전상수(solvent relative permittivity, ε)가 서로 다른 물과 알코올을 혼합하여 형성되는 반응용매와, 반응촉매를 혼합 반응시켜 복수의 실리카 나노입자를 포함하는 실리카 나노졸을 제조하는 제2단계; 및상기 실리카 나노졸을 표면개질, 용매교체 및 농축하는 제3단계;를 포함하여 이루어지고,상기 실리카 나노입자는,상기 물의 중량에 대한 상기 알코올의 중량 비율이 5~20로 조절됨으로 인해 5~200nm 입도를 가지면서 구형 또는 비구형의 형상으로 제어되는 것을 특징으로 하는,입도 및 형상이 제어되는 반도체 CMP 슬러리용 실리카 나노졸의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제1단계의 알콕시실란은,4개의 알콕시 반응기를 갖는 실란, 3개의 알콕시 반응기를 갖는 실란 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는,입도 및 형상이 제어되는 반도체 CMP 슬러리용 실리카 나노졸의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 제2단계는,상기 알콕시실란 1중량부와, 상기 알콕시실란 1중량부를 기준으로 상기 반응촉매 0
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제1항에 있어서,상기 제2단계는,상기 알콕시실란 1중량부와, 상기 알콕시실란 1중량부를 기준으로 상기 반응용매 4~32중량부를 첨가한 상태에서, 상기 반응촉매 0
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제1항에 있어서,상기 제2단계는,상기 실리카 나노졸에, 상기 알콕시실란, 상기 반응용매 및 상기 반응촉매를 추가 혼합하여 연속 반응을 통하여 비구형 실리카 나노입자를 포함하는 실리카 나노졸을 연속적으로 제조하는 것을 특징으로 하는,입도 및 형상이 제어되는 반도체 CMP 슬러리용 실리카 나노졸의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 농축된 실리카 나노졸에 상기 제2단계의 알콕시실란, 반응용매 및 반응촉매와 동일한 알콕시실란, 반응용매 및 반응촉매를 혼합하여 상기 복수의 실리카 나노입자가 응집되면서 형성되는 비구형 실리카 나노입자를 포함하는 실리카 나노졸을 제조하는 제4단계; 및상기 비구형 실리카 나노입자를 포함하는 실리카 나노졸을 표면개질, 용매교체 및 농축하는 제5단계;를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는,입도 및 형상이 제어되는 반도체 CMP 슬러리용 실리카 나노졸의 제조방법
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제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 실리카 나노졸
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