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수평 방향으로 회전 가능하게 설치되는 파우더 ALD 장치용 반응기로서,원통 형태를 갖는 외주면; 및 상기 외주면에 반대되며 원통 형태를 갖는 내주면으로, 한 쪽에 가스가 주입되는 제1 개방부가 형성되어 있고, 다른 쪽에 상기 제1 개방부로 주입된 가스가 배출되는 제2 개방부가 형성되어 있고, 상기 제1 개방부에서 상기 제2 개방부 쪽으로 경사면으로 형성되는 상기 내주면;을 포함하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제1항에 있어서, 상기 내주면은,상기 제1 개방부의 내경이 상기 제2 개방부의 내경 보다는 큰 원추면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제1항에 있어서, 상기 내주면은,수평 방향의 중심축에 대해서 상기 제1 개방부와 상기 제2 개방부가 상하로 서로 어긋나게 배치되어 경사면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제1항에 있어서,상기 내주면에 형성되며, 상기 내주면의 중심을 향하여 돌출된 복수의 교반 날개;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제1항에 있어서,상기 반응기는 수평 방향의 중심축 방향으로 분할된 복수의 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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수평 방향으로 회전 가능하게 설치되는 파우더 ALD 장치용 반응기로서,관 형의 외부 반응기; 및상기 외부 반응기의 내주면에 결합되어 관 형을 형성하는 내부 반응기;를 포함하고,상기 내부 반응기는,원통 형태를 갖는 외주면; 및상기 외주면에 반대되며 원통 형태를 갖는 내주면으로, 한 쪽에 가스가 주입되는 제1 개방부가 형성되어 있고, 다른 쪽에 상기 제1 개방부로 주입된 가스가 배출되는 제2 개방부가 형성되어 있고, 상기 제1 개방부에서 상기 제2 개방부 쪽으로 경사면으로 형성되는 상기 내주면;을 포함하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제6항에 있어서, 상기 내주면은,상기 제1 개방부의 내경이 상기 제2 개방부의 내경 보다는 큰 원추면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제6항에 있어서, 상기 내주면은,수평 방향의 중심축에 대해서 상기 제1 개방부와 상기 제2 개방부가 상하로 서로 어긋나게 배치되어 경사면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제6항에 있어서, 상기 내부 반응기는,상기 내주면에 형성되며, 상기 내주면의 중심을 향하여 돌출된 복수의 교반 날개;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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제6항에 있어서, 상기 내부 반응기는,축 방향으로 분할된 복수의 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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수평 방향으로 회전 가능하게 설치되는 파우더 ALD 장치로서,열을 공급하는 열원; 및상기 열원 내부에 수평 방향으로 회전 가능하게 설치되며, 상기 열원으로부터 열을 공급받아 내부에 제공된 파우더의 표면에 원자층 증착(Atomic Layer Deposition; ALD)을 수행하는 반응기;를 포함하고,상기 반응기는,원통 형태를 갖는 외주면; 및 상기 외주면에 반대되며 원통 형태를 갖는 내주면으로, 한 쪽에 가스가 주입되는 제1 개방부가 형성되어 있고, 다른 쪽에 상기 제1 개방부로 주입된 가스가 배출되는 제2 개방부가 형성되어 있고, 상기 제1 개방부에서 상기 제2 개방부 쪽으로 경사면으로 형성되는 상기 내주면;을 포함하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치
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