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수평 방향으로 회전 가능하게 설치되는 파우더 ALD 장치용 반응기로서,원통 형태를 갖는 외주면; 및 상기 외주면에 반대되며 원통 형태를 갖는 내주면으로, 한 쪽에 가스가 주입되는 제1 개방부가 형성되어 있고, 다른 쪽에 상기 제1 개방부로 주입된 가스가 배출되는 제2 개방부가 형성되어 있고, 상기 제1 개방부에서 상기 제2 개방부 쪽으로 주름지게 형성되는 상기 내주면;을 포함하는 내주면이 주름진 파우더 ALD 장치용 반응기
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제1항에 있어서, 상기 내주면은,골과 마루가 반복되는 형태의 주름으로 형성된 것을 특징으로 하는 내주면이 주름진 파우더 ALD 장치용 반응기
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제2항에 있어서, 상기 내주면은,상기 골들과, 상기 마루들이 각각 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 내주면이 주름진 파우더 ALD 장치용 반응기
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제2항에 있어서, 상기 내주면은,상기 골들과, 상기 마루들이 각각 연결된 나선형으로 형성된 것을 특징으로 하는 내주면이 주름진 파우더 ALD 장치용 반응기
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제1항에 있어서, 상기 내주면은,상기 제1 개방부의 내경이 상기 제2 개방부의 내경 보다는 큰 원추면으로 형성되어, 상기 개방부와 제2 개방부 사이에 경사가 형성되는 것을 특징으로 하는 내주면이 주름진 파우더 ALD 장치용 반응기
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제1항에 있어서, 상기 내주면은,수평 방향의 중심축에 대해서 상기 제1 개방부와 상기 제2 개방부가 상하로 서로 어긋나게 배치되어 상기 개방부와 제2 개방부 사이에 경사가 형성되는 것을 특징으로 하는 내주면이 주름진 파우더 ALD 장치용 반응기
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7
수평 방향으로 회전 가능하게 설치되는 파우더 ALD 장치용 반응기로서,관 형의 외부 반응기; 및상기 외부 반응기의 내주면에 결합되어 관 형을 형성하는 내부 반응기;를 포함하고,상기 내부 반응기는,원통 형태를 갖는 외주면; 및 상기 외주면에 반대되며 원통 형태를 갖는 내주면으로, 한 쪽에 가스가 주입되는 제1 개방부가 형성되어 있고, 다른 쪽에 상기 제1 개방부로 주입된 가스가 배출되는 제2 개방부가 형성되어 있고, 상기 제1 개방부에서 상기 제2 개방부 쪽으로 주름지게 형성되는 상기 내주면;을 포함하는 내주면이 주름진 파우더 ALD 장치용 반응기
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제7항에 있어서, 상기 내주면은,골과 마루가 반복되는 형태의 주름으로 형성된 것을 특징으로 하는 내주면이 주름진 파우더 ALD 장치용 반응기
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제7항에 있어서, 상기 내부 반응기는,수평 방향의 중심축 방향으로 분할된 복수의 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 경사면을 갖는 파우더 ALD 장치용 반응기
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수평 방향으로 회전 가능하게 설치되는 파우더 ALD 장치로서,열을 공급하는 열원; 및상기 열원 내부에 수평 방향으로 회전 가능하게 설치되며, 상기 열원으로부터 열을 공급받아 내부에 제공된 파우더의 표면에 원자층 증착(Atomic Layer Deposition; ALD)을 수행하는 반응기;를 포함하고,상기 반응기는,원통 형태를 갖는 외주면; 및 상기 외주면에 반대되며 원통 형태를 갖는 내주면으로, 한 쪽에 가스가 주입되는 제1 개방부가 형성되어 있고, 다른 쪽에 상기 제1 개방부로 주입된 가스가 배출되는 제2 개방부가 형성되어 있고, 상기 제1 개방부에서 상기 제2 개방부 쪽으로 주름지게 형성되는 상기 내주면;을 포함하는 내주면이 주름진 파우더 ALD 장치
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제10항에 있어서, 상기 반응기는,상기 내주면이 골과 마루가 반복되는 형태의 주름으로 형성된 것을 특징으로 하는 내주면이 주름진 파우더 ALD 장치
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