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키틴 필름; 및 상기 키틴 필름 상에 에피텍셜 성장된 PVDF-TrFE(폴리비닐리덴플로라이드-코-트리플루오로에틸렌) 필름;을 포함하는, 고분자 필름
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제 1 항에 있어서, 상기 PVDF-TrFE 필름은 상기 키틴 필름 상에 형성된 후, 150℃내지 500℃의 온도에서 어닐링함으로써 에피텍셜 성장되는 것인, 고분자 필름
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제 1 항에 있어서, 상기 PVDF-TrFE 필름은 상기 키틴 필름의 양면 중 적어도 어느 일측에 형성된 것인, 고분자 필름
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제 1 항에 있어서, 상기 키틴 필름 100 중량부를 기준으로 상기 PVDF-TrFE 필름 500 중량부 내지 5,000 중량부를 포함하는 것인, 고분자 필름
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제 1 항에 있어서, 상기 PVDF-TrFE 필름의 두께는 100 nm 내지 1
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기재 상에 키틴 필름을 형성하는 단계; 상기 키틴 필름의 일측면에 PVDF-TrFE 필름을 형성하는 단계; 및 상기 PVDF-TrFE 필름이 형성된 고분자 필름을 150℃내지 500℃의 온도에서 어닐링하는 단계;를 포함하며, 상기 어닐링하는 단계에서 상기 PVDF-TrFE 필름이 에피텍셜 성장되어 형성되는 것인, 고분자 필름의 제조 방법
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제 6 항에 있어서, 상기 어닐링하는 단계 이후에, 상기 기재를 제거하는 단계;를 더 포함하는 것인, 고분자 필름의 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 기재를 제거하는 단계 이후에, 상기 PVDF-TrFE 필름이 형성된 키틴 필름의 타측면에 상기 PVDF-TrFE 필름을 형성하는 단계; 및 상기 키틴 필름의 타측면에 형성된 상기 PVDF-TrFE 필름을 150℃내지 500℃의 온도에서 어닐링하는 단계;를 더 포함하는 것인, 고분자 필름의 제조 방법
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제 6 항에 있어서, 상기 키틴 필름 100 중량부를 기준으로 상기 PVDF-TrFE 필름 500 중량부 내지 5,000 중량부를 포함하는 것인, 고분자 필름의 제조 방법
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제 6 항에 있어서, 상기 어닐링하는 단계는 10분 내지 2시간 동안 수행하는 것인, 고분자 필름의 제조 방법
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제 1 전극; 상기 제 1 전극 상에 형성되는 마찰층; 상기 마찰층의 상부에 소정 간격 이격되어 배치되는 제 2 전극;을 포함하고, 상기 마찰층은 키틴 필름 및 PVDF-TrFE 필름을 포함하며, 상기 PVDF-TrFE 필름은 상기 키틴 필름 상에 에피텍셜 성장되어 형성된 것인, 마찰전기 나노 발전기
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제 11 항에 있어서, 상기 키틴 필름의 일측면은 상기 제 1 전극 상에 접촉되어 형성되고, 상기 PVDF-TrFE 필름은 상기 키틴 필름의 타측면에 형성되는 것인, 마찰전기 나노 발전기
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제 11 항에 있어서, 상기 마찰층은 상기 키틴 필름의 상면 및 하면에 상기 PVDF-TrFE 필름이 형성된 것인, 마찰전기 나노 발전기
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제 1 전극; 상기 제 1 전극 상에 형성된 키틴 필름; 상기 키틴 필름 상에 에피텍셜 성장되어 형성된 PVDF-TrFE 필름; 및 제 2 전극;을 포함하는 커패시터
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