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백 라이트 유닛; 및상기 백 라이트 유닛에서 제공한 광을 변조하고, 복수의 화소 영역들을 포함하는 디스플레이 패널을 포함하되,상기 화소 영역들 각각은 서로 인접하여 배치되는 제 1 간섭 패턴, 제 2 간섭 패턴 및 제 3 간섭 패턴을 포함하고,상기 제 1 간섭 패턴, 상기 제 2 간섭 패턴 및 상기 제 3 간섭 패턴 각각은 베이스부 및 상기 베이스부 상에 형성된 패턴부를 포함하되, 상기 베이스부와 상기 패턴부는 일체로 제공되고,상기 제 1 간섭 패턴, 상기 제 2 간섭 패턴 및 상기 제 3 간섭 패턴은 서로 다른 파장의 광을 선택적으로 투과시키고,상기 제 1 간섭 패턴, 상기 제 2 간섭 패턴 및 상기 제 3 간섭 패턴은 서로 동일한 물질로 형성되는 홀로그램 재생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 간섭 패턴, 상기 제 2 간섭 패턴 및 상기 제 3 간섭 패턴은 포토 레지스트(photo resist) 물질을 포함하는 홀로그램 재생 장치
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제 2 항에 있어서,상기 제 1 간섭 패턴의 상기 베이스부 및 상기 패턴부는 제 1 색의 포토 레지스트 물질로 구성되고,상기 제 2 간섭 패턴의 상기 베이스부 및 상기 패턴부는 제 2 색의 포토 레지스트 물질로 구성되고,상기 제 3 간섭 패턴의 상기 베이스부 및 상기 패턴부는 제 3 색의 포토 레지스트 물질로 구성되는 홀로그램 재생 장치
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제 2 항에 있어서,상기 포토 레지스트 물질은 네거티브형 포토 레지스트 물질을 포함하는 홀로그램 재생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 간섭 패턴의 상기 베이스부, 상기 제 2 간섭 패턴의 상기 베이스부 및 상기 제 3 간섭 패턴의 상기 베이스부는 서로 연결되는 홀로그램 재생 장치
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제 1 영역, 제 2 영역 및 제3 영역을 갖는 투명 기판을 제공하는 것;상기 투명 기판 상에 제 1 색의 제 1 포토 레지스트(photo resist) 물질을 도포하는 것;상기 제 1 포토 레지스트 물질 상에 제 1 리소그래피(lithography) 공정을 수행하여, 상기 제 1 영역 상에 제 1 간섭 패턴을 형성하는 것;상기 투명 기판 상에 제 2 색의 제 2 포토 레지스트(photo resist) 물질을 도포하는 것;상기 제 2 포토 레지스트 물질 상에 제 2 리소그래피(lithography) 공정을 수행하여, 상기 제 2 영역 상에 제 2 간섭 패턴을 형성하는 것;상기 투명 기판 상에 제 3 색의 제 3 포토 레지스트(photo resist) 물질을 도포하는 것; 및상기 제 3 포토 레지스트 물질 상에 제 3 리소그래피(lithography) 공정을 수행하여, 상기 제 3 영역 상에 제 3 간섭 패턴을 형성하는 것을 포함하되,상기 제 1 리소그래피 공정은: 상기 투명 기판의 상기 제 1 영역 상에 광을 조사하여 상기 제 1 포토 레지스트 물질을 노광하는 것; 및 상기 제 1 포토 레지스트 물질을 현상하여, 상기 투명 기판의 상기 제 2 영역 및 상기 제 3 영역 상에서 상기 제 1 포토 레지스트 물질을 제거하고, 상기 제 1 영역 상에 상기 제 1 간섭 패턴을 형성하는 것을 포함하고,상기 제 2 리소그래피 공정은: 상기 투명 기판의 상기 제 2 영역 상에 광을 조사하여 상기 제 2 포토 레지스트 물질을 노광하는 것; 및 상기 제 2 포토 레지스트 물질을 현상하여, 상기 투명 기판의 상기 제 1 영역 및 상기 제 3 영역 상에서 상기 제 2 포토 레지스트 물질을 제거하고, 상기 제 2 영역 상에 상기 제 2 간섭 패턴을 형성하는 것을 포함하고,상기 제 3 리소그래피 공정은: 상기 투명 기판의 상기 제 3 영역 상에 광을 조사하여 상기 제 3 포토 레지스트 물질을 노광하는 것; 및 상기 제 3 포토 레지스트 물질을 현상하여, 상기 투명 기판의 상기 제 1 영역 및 상기 제 2 영역 상에서 상기 제 3 포토 레지스트 물질을 제거하고, 상기 제 3 영역 상에 제 3 간섭 패턴을 형성하는 것을 포함하는 홀로그램 재생 장치의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 내지 제 3 포토 레지스트 물질들은 네거티브형 포토 레지스트 물질을 포함하고,상기 제 1 내지 제 3 포토 레지스트 물질들의 현상 공정 시, 상기 제 1 내지 제 3 포토 레지스트 물질들의 노광되지 않은 부분들이 제거되는 홀로그램 재생 장치의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 제 1 내지 제 3 포토 레지스트 물질들의 상기 현상 공정 후,상기 제 1 내지 상기 제 3 간섭 패턴들은 상기 투명 기판에 접하는 베이스부 및 상기 투명 기판과 대향하는 상기 베이스부의 일면 상에 형성된 패턴부를 포함하는 홀로그램 재생 장치의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 내지 제 3 리소그래피 공정들은 레이저 다이렉트 라이트 리소그래피(Laser direct-write lithography) 공정을 포함하는 홀로그램 재생 장치의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 내지 제 3 영역들은 서로 접하되,상기 제 2 포토 레지스트 물질의 도포 시, 상기 제 2 포토 레지스트 물질은 상기 제 1 간섭 패턴을 덮고,상기 제 3 포토 레지스트 물질의 도포 시, 상기 제 3 포토 레지스트 물질은 상기 제 1 간섭 패턴 및 상기 제 2 간섭 패턴을 덮는 홀로그램 재생 장치의 제조 방법
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제 1 색의 포토 레지스트 물질로 구성되고, 상부에 제 1 패턴이 형성된 제 1 간섭 패턴;제 2 색의 포토 레지스트 물질로 구성되고, 상부에 제 2 패턴이 형성된 제 2 간섭 패턴; 및제 3 색의 포토 레지스트 물질로 구성되고, 상부에 제 3 패턴이 형성된 제 3 간섭 패턴을 포함하되,상기 제 1 내지 제 3 간섭 패턴들은 서로 인접하게 배치되어 하나의 화소를 형성하는 홀로그램 재생 장치
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제 11 항에 있어서,상기 제 1 간섭 패턴, 상기 제 2 간섭 패턴 및 상기 제 3 간섭 패턴은 포토 레지스트 물질을 포함하는 홀로그램 재생 장치
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제 11 항에 있어서,상기 제 1 내지 제 3 간섭 패턴들 각각은 일체로 제공되는 베이스부 및 패턴부를 포함하되, 상기 제 1 내지 제 3 간섭 패턴들의 상기 패턴부들은 각각 상기 제 1 패턴, 상기 제 2 패턴 및 상기 제 3 패턴을 갖고,상기 제 1 간섭 패턴의 상기 베이스부, 상기 제 2 간섭 패턴의 상기 베이스부 및 상기 제 3 간섭 패턴의 상기 베이스부는 서로 연결되는 홀로그램 재생 장치
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제 11 항에 있어서,상기 제 1 간섭 패턴은 상기 제 1 색의 광을 선택적으로 투과시키고,상기 제 2 간섭 패턴은 상기 제 2 색의 광을 선택적으로 투과시키고,상기 제 3 간섭 패턴은 상기 제 3 색의 광을 선택적으로 투과시키는 홀로그램 재생 장치
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제 11 항에 있어서,상기 제 1 내지 제 3 간섭 패턴들에 광을 조사하는 백 라이트 유닛을 더 포함하되,상기 제 1 내지 제 3 간섭 패턴들은 일 평면 상에 평행하도록 서로 인접하여 배치되고,상기 백 라이트 유닛은 상기 일 평면에 수직한 방향으로 상기 제 1 내지 제 3 간섭 패턴들의 일측에 배치되는 홀로그램 재생 장치
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