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금속 나노입자 표면에 고분자 리간드가 접목된 고분자-금속 나노입자를 준비하는 단계;상기 고분자-금속 나노입자, 블록공중합체 및 유기 용매를 혼합하여 혼합 용액을 제조하는 단계;상기 혼합 용액을 계면활성제 수용액에 첨가하여 에멀젼을 형성시키는 단계; 및상기 에멀젼을 건조하여 고분자-금속 나노입자 및 블록공중합체를 포함하는 하이브리드 입자를 형성시키는 단계;를 포함하고,상기 고분자 리간드의 분자량에 따라 상기 하이브리드 입자에 포함된 고분자-금속 나노입자의 위치가 제어되는 것인,엔트로피 구동 어셈블리에 의한 하이브리드 입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속 나노입자는,금(Au), 은(Ag), 코발트(Co), 구리(Cu), 철(Fe), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 백금(Pt) 및 셀레늄화카드뮴(CdSe)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 금속을 포함하는 것인,엔트로피 구동 어셈블리에 의한 하이브리드 입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 리간드는,폴리스티렌(PS), 폴리(4-비닐피리딘)(P4VP), 폴리(2-비닐피리딘)(P2VP), 폴리부타디엔(PB) 및 폴리(메틸 메타크릴라이트)(PMMA)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인, 엔트로피 구동 어셈블리에 의한 하이브리드 입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 리간드의 분자량은,1
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제1항에 있어서,상기 블록공중합체는, PS-b-PB, PS-b-P4VP, PS-b-P2VP, PS-b-PMMA, PS-b-PDMS 및 PS-b-PLA 로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,엔트로피 구동 어셈블리에 의한 하이브리드 입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 에멀젼의 건조는, 5 시간 내지 48 시간 동안 수행되는 것인,엔트로피 구동 어셈블리에 의한 하이브리드 입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 리간드의 분자량이 1
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제1항에 있어서,상기 고분자 리간드의 분자량이 4
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제1항에 있어서,상기 고분자 리간드의 분자량이 6
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제1항에 있어서,상기 유기 용매는, 클로로포름, 다이클로로메테인, 다이클로로에테인, 톨루엔 및 에틸아세테이트로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하고,상기 계면활성제 수용액은, CTAB(cetyltrimethylammonium bromide), CPB(cetylpyridinium bromide), DTAB(dodecyltrimethylammonium bromide) 및 TTAB(Tetradecyltrimethylammonium bromide)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 계면활성제를 포함하는 것인, 엔트로피 구동 어셈블리에 의한 하이브리드 입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 리간드의 분자량 및 상기 블록공중합체의 분자량의 비는, 1 : 1 내지 1 : 6 이고,상기 고분자 리간드의 분자량 및 상기 블록공중합체의 분자량의 비에 의해 상기 하이브리드 입자에 포함된 고분자-금속 나노입자의 위치를 제어하는 것인,엔트로피 구동 어셈블리에 의한 하이브리드 입자의 제조방법
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블록공중합체의 제1 폴리머 도메인을 포함하는 코어부; 및 상기 블록공중합체의 제1 폴리머 도메인 또는 제2 폴리머 도메인을 포함하는, 복수 개의 쉘층;을 포함하고,상기 코어부, 상기 쉘층, 상기 코어부와 상기 쉘층 사이 또는 상기 복수 개의 쉘층 사이에, 금속 나노입자 표면에 고분자 리간드가 접목된 고분자-금속 나노입자를 포함하는 것인, 하이브리드 입자
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제12항에 있어서,상기 고분자 리간드의 분자량에 의해 상기 고분자-금속 나노입자의 위치가 제어되는 것인,하이브리드 입자
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제12항에 있어서,상기 고분자-금속 나노입자는, 상기 쉘층과 교대로 위치하는 복수 개의 교대층을 형성하는 것인,하이브리드 입자
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제14항에 있어서,상기 교대층의 개수는, 상기 고분자-금속 나노입자의 부피 분율에 의해 조절되는 것인,하이브리드 입자
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제14항에 있어서,상기 교대층은, 상기 금속 나노입자로 이루어진 육각형의 초격자 형태를 포함하는 것인,하이브리드 입자
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제1항의 제조방법으로 제조된 하이브리드 입자 또는 제12항의 하이브리드 입자를 포함하는, 광학 나노 물질
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